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    來對所述待加工表面進行減薄?？蛇x地，還包括：在所述磁轉(zhuǎn)子運行一段時間后，更換所述磁轉(zhuǎn)子?？蛇x地，將待加工部件固定在托盤上包括：采用光刻膠將所述待加工部件固定在所述托盤上?？蛇x地，對所述待加工部件的待加工表面進行拋光和減薄之后，還包括：對所述待加工部件進行清洗；采用特定溶液對所述光刻膠進行腐蝕，以將所述待加工部件與所述托盤分離。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明所提供的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點：本發(fā)明所提供的拋光減薄裝置和拋光減薄方法，采用托盤固定待加工部件，采用噴頭向待加工部件的待加工表面噴涂拋光液，來對所述待加工表面進行拋光，采用磁轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)對待加工表面進行機械研磨，來對所述待加工表面進行減薄，由于減薄過程中待加工部件如inp基晶圓本身不旋轉(zhuǎn)，因此，可以降低拋光減薄過程中對待加工部件如inp基晶圓的擠壓應(yīng)力，降低待加工部件如inp基晶圓的機械加工損傷。附圖說明為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。揚州中芯國際用減薄用清洗劑供應(yīng)蘇州質(zhì)量好的減薄用清洗劑的公司。

    并控制磁轉(zhuǎn)子12和噴頭11每間隔20s旋轉(zhuǎn)10s，也就是說，控制磁轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)10s，控制磁轉(zhuǎn)子停止旋轉(zhuǎn)后，控制噴頭噴涂拋光液10s，停止噴涂拋光液10s后，控制磁轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)10s，以此類推。本發(fā)明實施例中，控制部件在脈沖工作模式下，實現(xiàn)減薄和拋光兩種工藝交替作用，使得減薄和拋光一體化完成，整個過程穩(wěn)定，速度快，控制性好，重復(fù)度高，無粉塵污染，襯底減薄終厚度達(dá)到20μm，拋光面ra＜2nm。還需要說明的是，本發(fā)明實施例中，在減薄的過程中，可以不斷更換磁轉(zhuǎn)子12，如磁轉(zhuǎn)子12工作1小時后，將磁轉(zhuǎn)子12更換為新的磁轉(zhuǎn)子，以使磁轉(zhuǎn)子與待加工表面貼合緊密，避免了傳統(tǒng)減薄工藝中由于轉(zhuǎn)子形變誤差造成的加工精度失真。此外，本發(fā)明實施例中，在完成拋光和減薄后，可以采用直鏈烷基苯磺酸鹽溶劑對待加工部件20進行清洗，用di水沖洗干凈，40℃的氮氣吹干。之后，將清洗后的待加工部件20和托盤10侵入60℃的nmp(n甲基吡咯烷酮)30min，使得待加工部件20和托盤10自動分離，取出待加工部件20后清洗干凈即可。本發(fā)明實施例還提供了一種拋光減薄方法，如圖5所示，包括：s101：將待加工部件固定在托盤上，待加工部件包括inp基晶圓；可選地。

    用于實現(xiàn)將所述玻璃加工治具從所述轉(zhuǎn)換區(qū)經(jīng)所述沖洗區(qū)向所述蝕刻區(qū)的減薄前移動，以及從所述蝕刻區(qū)經(jīng)所述沖洗區(qū)向所述轉(zhuǎn)換區(qū)的減薄后移動；所述沖洗區(qū)設(shè)置于所述轉(zhuǎn)換區(qū)和所述蝕刻區(qū)之間。較佳的，所述蝕刻區(qū)包括腔室、主厚度測量儀、噴淋組件和控制器；所述主厚度測量儀、所述噴淋組件設(shè)置于所述腔室上，所述噴淋組件在所述腔室中對設(shè)置于所述玻璃加工治具上的玻璃施加減薄處理，所述主厚度測量儀實時測量在所述腔室內(nèi)經(jīng)歷減薄處理的玻璃厚度；所述控制器與所述噴淋組件、所述主厚度測量儀、所述傳輸組件連接。較佳的，所述噴淋組件包括設(shè)置于所述腔室頂部的噴淋頭、設(shè)置于所述腔室底部的收集槽、以及與所述噴淋頭、所述收集槽均連通的外部噴淋液管路，通過所述噴淋頭對所述玻璃加工治具上的玻璃噴淋噴淋液從而實現(xiàn)玻璃的減薄處理，所述收集槽收集減薄處理后的噴淋液并傳輸至所述噴淋液管路從所述腔室內(nèi)排出。較佳的，所述主厚度測量儀包括用于發(fā)射激光束的發(fā)射器、用于接收被玻璃反射光束的接收器以及用于分析所述接收器中接收光束并且計算玻璃厚度的分析器。較佳的，所述主厚度測量儀還包括空氣噴射器，用于將空氣噴射到玻璃表面，將被檢測部位暴露于所述發(fā)射器對應(yīng)位置。質(zhì)量比較好的減薄用清洗劑的公司找誰？

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