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    圖1為本發(fā)明實施例提供的一種拋光減薄裝置的結構示意圖；圖2為本發(fā)明實施例提供的一種托盤和待加工部件的鍵合固定方式示意圖；圖3為本發(fā)明實施例提供的一種磁轉子的結構示意圖；圖4為本發(fā)明實施例提供一種磁轉子的旋轉方式的示意圖；圖5為本發(fā)明實施例提供的一種拋光減薄方法的流程示意圖。具體實施方式以上是本發(fā)明的思想，為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。本發(fā)明實施例提供了一種拋光減薄裝置，用于對inp基晶圓等部件進行拋光減薄，如圖1所示，包括托盤10、噴頭11和磁轉子12，當然，本發(fā)明實施例中的拋光減薄裝置還包括反應室13等，托盤10、噴頭11和磁轉子12等在反應室13內(nèi)進行拋光和減薄反應。其中，托盤10，可選為石英托盤，用于固定待加工部件20，待加工部件20包括inp基晶圓。噴頭11用于向待加工部件20的待加工表面噴涂拋光液110，以對待加工表面進行拋光。質量比較好的減薄用清洗劑的公司。廣東減薄用清洗劑推薦廠家

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    在本發(fā)明的一個實施例中，拋光液110的主要成分包括：碳化硅顆粒，顆粒直徑為50nm～200nm，體積比為3％～5％；次氯酸鹽，體積比為30％～40％；氫溴酸，體積比為5％～7％，di水，體積比50～60％。本發(fā)明的一個實施例中，如圖3所示，磁轉子12包括截面為半圓形的柱狀磁性結構120和位于柱狀磁性結構120的底部平面的研磨層121，以通過研磨層121對待加工部件20的待加工表面進行機械研磨。當然，本發(fā)明并不僅限于此，在其他實施例中，可以根據(jù)實際需求選擇合適的磁轉子形狀?？蛇x地，研磨層121為金屬氧化物層，進一步可選地，金屬氧化物層包括三氧化二鋁層。可選地，研磨層121的厚度為10μm。本發(fā)明實施例中，如圖4所示，磁轉子12沿箭頭所示方向旋轉，如沿逆時針或順時針方向旋轉，并且，磁轉子12的長度近似等于待加工部件20如inp基晶圓的直徑，以對整個待加工表面進行研磨。本發(fā)明實施例中，拋光減薄裝置還包括控制部件?？刂撇考c磁轉子12和噴頭11相連，用于控制噴頭11和磁轉子12交替工作，以對待加工表面交替進行拋光和減薄。其中，控制部件通過脈沖方式控制噴頭11和磁轉子12交替工作?？蛇x地，控制部件控制磁轉子12的轉速為80rpm～200rpm。減薄清洗劑，采用科技，為您帶來好的清潔效果。南通市面上哪家減薄用清洗劑推薦貨源

減薄用清洗劑的類別一般有哪些？廣東減薄用清洗劑推薦廠家

    將待加工部件固定在托盤上包括：采用光刻膠將待加工部件固定在托盤上。具體地，將待加工部件背面噴涂厚度約為2μm的光刻膠，如az4620光刻膠，然后在托盤表面噴涂厚度約為3μm的光刻膠，如az4620光刻膠，之后，將托盤光刻膠面向上放于溫度為90℃的熱板上，將待加工部件光刻膠面和托盤光刻膠面貼合，在2×10-2mabr真空下，施加1bar壓強于待加工部件上進行鍵合，鍵合時間20min。s102：通過噴頭向待加工部件的待加工表面噴涂拋光液，來對待加工表面進行拋光；s103：通過磁轉子旋轉對待加工表面進行機械研磨，來對待加工表面進行減薄?？蛇x地，本發(fā)明實施例中，s102和s103可以交替進行，也就是說，控制磁轉子旋轉一段時間后，控制磁轉子停止旋轉，并控制噴頭噴涂拋光液，停止噴涂拋光液后，再次控制磁轉子旋轉，以此類推。本發(fā)明實施例中，通過磁轉子和噴頭交替工作，實現(xiàn)了減薄和拋光兩種工藝交替作用，使得減薄和拋光一體化完成，整個過程穩(wěn)定，速度快，控制性好，重復度高，無粉塵污染，襯底減薄終厚度達到20μm，拋光面ra＜2nm。由于減薄過程中待加工部件20如inp基晶圓本身不旋轉，因此，可以降低拋光減薄過程中對待加工部件20如inp基晶圓的擠壓應力。廣東減薄用清洗劑推薦廠家