南通哪家蝕刻液剝離液報(bào)價(jià)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-06-19

剝離液是一種通用濕電子化學(xué)品,主要用于去除金屬電鍍或者蝕刻加工完成后的光刻膠和殘留物質(zhì),同時(shí)防止對(duì)襯底層造成破壞。剝離液是集成電路、分立器件、顯示面板、太陽(yáng)能電池等生產(chǎn)濕法工藝制造的關(guān)鍵性電子化工材料,下游應(yīng)用領(lǐng)域***,但整體應(yīng)用需求較低,因此市場(chǎng)規(guī)模偏小。

剝離液應(yīng)用在太陽(yáng)能電池中,對(duì)于剝離液的潔凈度要求較低,*需達(dá)到G1等級(jí),下游客戶(hù)主要要天合、韓華、通威等;應(yīng)用到面板中,通常要達(dá)到G2、G3等級(jí),且高世代線(xiàn)對(duì)于剝離液的要求要高于低世代線(xiàn),下游客戶(hù)有京東方、中星光電;在半導(dǎo)體中的應(yīng)用可分等級(jí),在8英寸及以下的晶圓制造中,對(duì)于剝離液的要求達(dá)到G3、G4水平,大硅片、12英寸晶元等**產(chǎn)品要達(dá)到G5水平。 龍騰光電用的哪家的剝離液?南通哪家蝕刻液剝離液報(bào)價(jià)

南通哪家蝕刻液剝離液報(bào)價(jià),剝離液

    含有的胺化合物的質(zhì)量分為:1%-2%。進(jìn)一步技術(shù)方案中,所述的添加劑中含有醇醚化合物的質(zhì)量分為:30%-50%;含有胺化合物的質(zhì)量分為:35%-55%;含有緩蝕劑的質(zhì)量分為:6%-12%;含有潤(rùn)濕劑的質(zhì)量分為:1%-7%。進(jìn)一步技術(shù)方案中,所述的步驟s1中剝離液廢液所含的酰胺化合物以及步驟s2中添加劑所含的酰胺化合物均為n-甲基甲酰胺(nmf)、n-甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺中的一種或者多種。進(jìn)一步技術(shù)方案中,所述的步驟s1中剝離液廢液所含的醇醚化合物以及步驟s2中添加劑所含的醇醚化合物均為二乙二醇丁醚(bdg)、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的一種或多種。進(jìn)一步技術(shù)方案中,所述的步驟s1中剝離液廢液所含的胺化合物以及步驟s2中添加劑所含的胺化合物為環(huán)胺與鏈胺。進(jìn)一步技術(shù)方案中,所述的環(huán)胺為氨乙基哌嗪、羥乙基哌嗪、氨乙基嗎啉中的一種或多種;所述的鏈胺為乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺、異丙醇胺、甲基二乙醇胺、amp-95中的一種或多種。進(jìn)一步技術(shù)方案中,所述的三唑類(lèi)化合物,具體為苯并三氮唑(bta)、甲基苯并三氮唑(tta)中的任意一種。進(jìn)一步技術(shù)方案中,所述的潤(rùn)濕劑為含羥基化合物,具體為為聚乙二醇、甘油中的任意一種。紹興剝離液銷(xiāo)售廠(chǎng)天馬微電子用的哪家的剝離液?

南通哪家蝕刻液剝離液報(bào)價(jià),剝離液

    本發(fā)明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術(shù)::印刷布線(xiàn)板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中,伴隨微細(xì)布線(xiàn)化而使用胺系的剝離液。然而,以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規(guī)制度的問(wèn)題,而避免其使用。近年來(lái),為了避免胺系的抗蝕劑的剝離液的問(wèn)題點(diǎn),還報(bào)道了一種含有氫氧化鈉和溶纖劑的剝離液(專(zhuān)利文獻(xiàn)1),由于剝離時(shí)的抗蝕劑沒(méi)有微細(xì)地粉碎,因此存在近年的微細(xì)的布線(xiàn)間的抗蝕劑難以除去的問(wèn)題點(diǎn)?,F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2002-323776號(hào)公報(bào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:發(fā)明要解決的問(wèn)題因此,本發(fā)明的課題在于,提供容易除去微細(xì)的布線(xiàn)間的抗蝕劑的技術(shù)。用于解決問(wèn)題的手段本發(fā)明人等為了解決上述課題而深入研究的結(jié)果發(fā)現(xiàn),含有鉀鹽和溶纖劑的溶液與專(zhuān)利文獻(xiàn)1那樣的含有氫氧化鈉和溶纖劑的溶液相比,即使是非常微細(xì)的布線(xiàn)間的抗蝕劑也能細(xì)小地粉碎,從而完成本發(fā)明。即,本發(fā)明涉及一種抗蝕劑的剝離液,其特征在于,含有鉀鹽和溶纖劑。另外,本發(fā)明涉及一種抗蝕劑的除去方法,其特征在于,用上述抗蝕劑的剝離液處理施加有抗蝕劑的基材。此外,本發(fā)明涉及一種抗蝕劑的剝離液套件。

    騰田化學(xué)技術(shù)(上海)技術(shù)有限公司(簡(jiǎn)稱(chēng):騰田化學(xué)),騰田化學(xué)坐落于上海五角場(chǎng)萬(wàn)達(dá)廣場(chǎng),依托復(fù)旦大學(xué)·東華大學(xué)·華東理工大學(xué)·中科院有機(jī)所·上海石油商品研究所就相關(guān)材料領(lǐng)域建立研發(fā)中心,憑借強(qiáng)大的科研實(shí)力,多年豐富的研發(fā)經(jīng)驗(yàn),共同建立化工材料分析中心與新材料研發(fā)中心;騰田化學(xué)致力于化工行業(yè)材料檢測(cè)、材料分析、配方還原、新領(lǐng)域新材料的研發(fā);加快新項(xiàng)目整體研發(fā)進(jìn)度,縮短研發(fā)周期,推動(dòng)化工產(chǎn)業(yè)自主研發(fā)的進(jìn)程.為企業(yè)提供一站式服務(wù)。騰田化學(xué)作為國(guó)內(nèi)的配方及研發(fā)技術(shù)有限公司,騰田化學(xué)技術(shù)團(tuán)隊(duì)具有豐富研發(fā)經(jīng)驗(yàn),與多所高校及研究所建立研究性合作平臺(tái),擁有前列的技術(shù)研發(fā)平臺(tái)、雄厚的科研技術(shù)力量以及精密的高科技儀器設(shè)備;有標(biāo)準(zhǔn)的圖譜庫(kù);材料庫(kù);完善的數(shù)據(jù)庫(kù);能夠有效的解決某些前列領(lǐng)域特殊產(chǎn)品**能性助劑的定性定量分析及研發(fā)技術(shù)服務(wù),為企業(yè)解決在研發(fā)中遇到的難題,突破多領(lǐng)域技術(shù)瓶頸;并且與化工行業(yè)上百家有規(guī)模企業(yè)建立長(zhǎng)期技術(shù)合作;騰田化學(xué)中心擁有強(qiáng)大的技術(shù)研發(fā)團(tuán)隊(duì):由數(shù)位工程師在新材料前列領(lǐng)域已幫助多家企業(yè)解決實(shí)際生產(chǎn)問(wèn)題,協(xié)助企業(yè)成功自主研發(fā)**產(chǎn)品項(xiàng)目很多項(xiàng)。哪家的剝離液的價(jià)格低?

南通哪家蝕刻液剝離液報(bào)價(jià),剝離液

    所述膠面剝離結(jié)構(gòu)8上方安裝有收卷調(diào)速器801,所述收卷調(diào)速器801一側(cè)安裝有收卷驅(qū)動(dòng)電機(jī)802,所述收卷驅(qū)動(dòng)電機(jī)802一側(cè)安裝有輥固定架803,所述輥固定架803一側(cè)安裝有膠水盛放箱804,所述膠水盛放箱804下方安裝有點(diǎn)膠頭805,所述點(diǎn)膠頭805下方安裝有卷邊輥806,所述卷邊輥806一側(cè)安裝有膠面收卷輥807,所述膠面剝離結(jié)構(gòu)8一側(cè)安裝有電加熱箱9,所述電加熱箱9下方安裝有熱風(fēng)噴頭10,所述熱風(fēng)噴頭10下方安裝有干燥度感應(yīng)器11,所述干燥度感應(yīng)器11下方安裝有電氣控制箱12,所述電氣控制箱12上方安裝有液晶操作面板13。本實(shí)施例中,所述主支撐架1與所述橫向支架2通過(guò)螺栓連接,所述伺服變頻電機(jī)3與所述電機(jī)減速箱4通過(guò)導(dǎo)線(xiàn)連接。本實(shí)施例中,所述印刷品傳送帶5與所述印刷品放置箱6通過(guò)皮帶連接,所述電加熱箱9與所述膠面剝離結(jié)構(gòu)8通過(guò)導(dǎo)線(xiàn)連接。本實(shí)施例中,所述油墨放置箱701與所述油墨加壓器702通過(guò)管道連接,所述油墨加壓器702與所述高壓噴頭703通過(guò)管道連接,所述印刷輥705共有兩個(gè),對(duì)稱(chēng)設(shè)置,所述防濺射擋板704與所述油墨放置箱701焊接。本實(shí)施例中,所述收卷調(diào)速器801與所述收卷驅(qū)動(dòng)電機(jī)802通過(guò)導(dǎo)線(xiàn)連接,所述輥固定架803與所述膠面收卷輥807通過(guò)軸連接。友達(dá)光電用的哪家的剝離液?南通格林達(dá)剝離液供應(yīng)

剝離液的技術(shù)指標(biāo)哪家比較好?南通哪家蝕刻液剝離液報(bào)價(jià)

    技術(shù)領(lǐng)域:本發(fā)明涉及一種選擇性剝離光刻膠制備微納結(jié)構(gòu)的方法,可用于微納制造,光學(xué)領(lǐng)域,電學(xué),生物領(lǐng)域,mems領(lǐng)域,nems領(lǐng)域。技術(shù)背景:微納制造技術(shù)是衡量一個(gè)國(guó)家制造水平的重要標(biāo)志,對(duì)提高人們的生活水平,促進(jìn)產(chǎn)業(yè)發(fā)展與經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng),保障**安全等方法發(fā)揮著重要作用,微納制造技術(shù)是微傳感器、微執(zhí)行器、微結(jié)構(gòu)和功能微納系統(tǒng)制造的基本手段和重要基礎(chǔ)?;诎雽?dǎo)體制造工藝的光刻技術(shù)是**常用的手段之一。對(duì)于納米孔的加工,常用的手段是先利用曝光負(fù)性光刻膠并顯影后得到微納尺度的柱狀結(jié)構(gòu),再通過(guò)金屬的沉積和溶膠實(shí)現(xiàn)圖形反轉(zhuǎn)從而得到所需要的納米孔。然而傳統(tǒng)的方法由于光刻過(guò)程中的散焦及臨近效應(yīng)等會(huì)造成曝光后的微納結(jié)構(gòu)側(cè)壁呈現(xiàn)一定的角度(如正梯形截面),這會(huì)造成蒸發(fā)過(guò)程中的掛壁嚴(yán)重從而使lift-off困難。同時(shí)由于我們常用的高分辨的負(fù)膠如hsq,在去膠的過(guò)程中需要用到危險(xiǎn)的氫氟酸,而氫氟酸常常會(huì)腐蝕石英,氧化硅等襯底從而影響器件性能,特別的,對(duì)于跨尺度高精度納米結(jié)構(gòu)的制備在加工效率和加工能力方面面臨著很大的挑戰(zhàn)。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素::為了克服上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明公開(kāi)了一種選擇性剝離光刻膠制備微納結(jié)構(gòu)的方法。南通哪家蝕刻液剝離液報(bào)價(jià)

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