惠州天馬用的蝕刻液剝離液價格

    所述印刷品傳送帶(5)一側安裝有所述印刷品放置箱(6)，所述印刷品放置箱(6)一側安裝有所述表面印刷結構(7)，所述表面印刷結構(7)上方設置有油墨放置箱(701),所述油墨放置箱(701)下方安裝有油墨加壓器(702)，所述油墨加壓器(702)下方安裝有高壓噴頭(703)，所述高壓噴頭(703)一側安裝有防濺射擋板(704)，所述防濺射擋板(704)下方安裝有印刷輥(705),所述表面印刷結構(7)一側安裝有所述膠面剝離結構(8)，所述膠面剝離結構(8)上方安裝有收卷調速器(801)，所述收卷調速器(801)一側安裝有收卷驅動電機(802)，所述收卷驅動電機(802)一側安裝有輥固定架(803)，所述輥固定架(803)一側安裝有膠水盛放箱(804)，所述膠水盛放箱(804)下方安裝有點膠頭(805)，所述點膠頭(805)下方安裝有卷邊輥(806)，所述卷邊輥(806)一側安裝有膠面收卷輥(807)，所述膠面剝離結構(8)一側安裝有電加熱箱(9)，所述電加熱箱(9)下方安裝有熱風噴頭(10)，所述熱風噴頭(10)下方安裝有干燥度感應器(11),所述干燥度感應器(11)下方安裝有電氣控制箱(12)，所述電氣控制箱(12)上方安裝有液晶操作面板(13)。...【技術特征摘要】1.一種印刷品膠面印刷剝離復合裝置，其特征在于：包括主支撐架(1)、橫向支架。哪家的剝離液的價格優(yōu)惠？惠州天馬用的蝕刻液剝離液價格

微電子化學品***適用于先進半導體封裝測試、TFT、FPD平板顯示、LED、晶體硅太陽能、PCB行業(yè)。類別品名英文名等級ELMOSUP溶劑類甲醇Methanol■  甲苯Toluene■  無水乙醇Ethanol■■  ■ 異丙醇IPA■■■**Acetone■■■N-甲基吡咯烷酮1-Methyl-2-pyrrolidinone■  ■ ■丙二醇甲醚PGME■  ■ ■丙二醇甲醚醋酸酯PGMEA■  ■ ■酸堿類硫酸Sulfuric Acid■■■鹽酸Hydrochloric Acid■■ 硝酸Nitric Acid■■■氫氟酸Hydrofluoric Acid■■■磷酸Phosphoric Acid■■ 冰乙酸Acetic Acid,Glacial■■■過氧化氫Hydrogen Peroxide■■■氟化銨Ammonium Fluoride■■■氨水Ammonium Hydroxide■■■氫氧化鉀Potassium Hydroxide Liquid■  氫氧化鈉Sodium Hydroxide Liquid■  功能化學品銅蝕刻液Copper Etchant■  鋁蝕刻液Aluminum Etchants■  BOE蝕刻液Amnonium Fluoride Etchants■■■ITO蝕刻液ITO Etchant■  IGZO蝕刻液IGZO  Etchant■  光刻膠剝離液（有機） Photoresist Stripper (Solvent)■  光刻膠剝離液（水系）Photoresist Stripper (Aqueous) ■  玻璃減薄液Glass Thinning Liquid■  玻璃清洗液Glass cleaning solution■  光刻膠顯影液Photoresist Developer■■■玻璃切削液Glass cutting fluid■  化學研磨液Chemical grinding fluid■  佛山哪家蝕刻液剝離液供應商哪家剝離液質量比較好一點？

    本發(fā)明涉及剝離液技術領域：，更具體的說是涉及一種光刻膠剝離液再生方法。背景技術：：電子行業(yè)飛速發(fā)展，光刻膠應用也越來越***。在半導體元器件制造過程中，經(jīng)過涂敷-顯影-蝕刻過程，在底層金屬材料上蝕刻出所需線條之后，必須在除去殘余光刻膠的同時不能損傷任何基材，才能再進行下道工序。因此，光刻膠的剝離質量也有直接影響著產(chǎn)品的質量。而隨著電子行業(yè)的發(fā)展以及高世代面板的面世，光刻膠剝離液的使用越來越多。剝離液廢液中含有光刻膠樹脂、水和某些金屬雜質，而剝離液廢液的處理主要是通過焚燒或者低水平回收，其大量的使用但不能夠有效地回收，對環(huán)境、資源等都造成了比較大的影響。有鑒于此，申請人研發(fā)出以下的對使用后的光刻膠剝離液回收及再生方法。技術實現(xiàn)要素：本發(fā)明的目的是提供一種光刻膠剝離液再生方法。為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術方案：本申請公開了一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液，包括以下質量組分：光刻膠剝離液再生方法，包括以下步驟：s1：回收剝離液新液使用后的剝離液廢液，將剝離液廢液經(jīng)過蒸餾、加壓工序，得出剝離液廢液的純化液體；純化液體中含有酰胺化合物、醇醚化合物以及胺化合物；s2：制備添加劑。

    實施例1～6：按照表1配方將二甲基亞砜、一乙醇胺、四甲基氫氧化銨、硫脲類緩蝕劑、聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑、n-甲基吡咯烷酮和去離子水混合，得到用于疊層晶圓的光刻膠剝離液。表1：注：含量中不滿100wt％的部分由去離子水補足余量。以cna披露的光刻膠剝離液作為對照例，與實施例1～6所得用于疊層晶圓的光刻膠剝離液進行比較試驗，對面積均為300cm2的疊層晶圓上的光刻膠進行剝離并分別測定剝離周期、金屬鍍層的腐蝕率和過片量(剝離的面壁數(shù)量)。對比情況見表2：表2：剝離周期/s金屬腐蝕率/ppm過片量/片實施例1130～15015376實施例2130～15016583實施例3130～15017279實施例4130～15015675實施例5130～15016372實施例6130～15017681對照例180～20022664由表2可知，本用于疊層晶圓的光刻膠剝離液通過加入硫脲類緩蝕劑和聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑，使剝離效率有明顯的提升，對金屬腐蝕率降低20％以上，而且讓過片量提高10％以上。以上所述的*是本發(fā)明的一些實施方式。對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明創(chuàng)造構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。剝離液的大概費用大概是多少？

    這些溶纖劑可以使用1種或組合使用2種以上。本發(fā)明剝離液中的溶纖劑的含量沒有特別限定，例如，推薦～，更推薦～，特別推薦～。本發(fā)明剝離液中，為了抑制對金屬的浸蝕性，推薦還含有硅酸鹽。硅酸鹽沒有特別限定，例如，可以舉出硅酸鉀、硅酸鈉等。這些之中推薦硅酸鉀。本發(fā)明剝離液中的硅酸鹽的含量沒有特別限定，例如，推薦～，更推薦～，特別推薦～。需要說明的是，本發(fā)明剝離液中，推薦*由上述成分構成，但只要不阻礙本發(fā)明的效果，可以含有例如聚氧化烯烷基醚系、硅系的消泡劑等其它成分。以上說明的本發(fā)明剝離液可以通過將上述成分溶于水中來制備。需要說明的是，本發(fā)明剝離液的ph若為堿性則沒有特別限定，但通常**將上述成分溶于水就成為堿性，因此沒有特別必要調整ph。另外，本發(fā)明剝離液可以通過將上述成分分別分開預先溶于水，成為抗蝕劑的剝離液套件，將它們混合來制備。具體來說，可以舉出以包含含有鉀鹽的第1液和含有溶纖劑的第2液為特征的抗蝕劑的剝離液套件、其中還包含含有硅酸鹽的第3液的抗蝕劑的剝離液套件、進而在其中使上述其它成分適當含有于各液中的抗蝕劑的剝離液套件等。通過使用本發(fā)明剝離液對施加有抗蝕劑的基材進行處理，抗蝕劑被細小地粉碎。哪家公司的剝離液的有售后？揚州什么剝離液報價

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    本申請實施例還提供一種剝離液機臺的工作方法，請參閱圖5，圖5為本申請實施例提供的剝離液機臺的工作方法的流程示意圖，該方法包括：步驟110、將多級腔室順序排列，按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級向剝離基板提供剝離液；步驟120、將來自于當前級腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲于當前級腔室相應的存儲箱中，所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑；步驟130、使用當前級腔室相應的過濾器過濾來自當前級腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級腔室；步驟140、若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞，則關閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關；步驟150、取出被阻塞的所述過濾器。若過濾器包括多個并列排布的子過濾器，則可以關閉被阻塞的子過濾器的閥門，因此，步驟140還可以包括：若所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器，則關閉連接被阻塞的所述子過濾器的管道上的閥門開關。在上述實施例中，對各個實施例的描述都各有側重，某個實施例中沒有詳述的部分，可以參見其他實施例的相關描述。以上對本申請實施例進行了詳細介紹，本文中應用了具體個例對本申請的原理及實施方式進行了闡述，以上實施例的說明只是用于幫助理解本申請的技術方案及其**思想。惠州天馬用的蝕刻液剝離液價格

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