Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻，刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高。 Quantum X新型超高速無(wú)...

Nanoscribe設(shè)備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計(jì)用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過(guò)程中，激光固化部分液態(tài)光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米。另一方面，GT2現(xiàn)在可以在短時(shí)間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對(duì)其應(yīng)用定制的多組物鏡，基板，材料和自動(dòng)化流程。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程，用于制作單個(gè)元素。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度，滿足智能手機(jī)...

傳統(tǒng)3D打印難以實(shí)現(xiàn)對(duì)于復(fù)雜設(shè)計(jì)或曲線形狀的高分辨率3D打印，必須切片并分為大量水平和垂直層。這會(huì)明顯增加對(duì)于平滑、曲線或精細(xì)結(jié)構(gòu)的打印時(shí)間。雙光子聚合技術(shù)（2PP）則可以解決這個(gè)難題。Nanosribe于2019年推出的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL?）可實(shí)現(xiàn)體素調(diào)節(jié)，從而明顯減少打印層數(shù)。這是通過(guò)掃描過(guò)程中的快速激光調(diào)制來(lái)實(shí)現(xiàn)的。并且，這項(xiàng)技術(shù)已從原先適用于。Nanoscribe于2023年推出雙光子灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL?，該技術(shù)具備實(shí)現(xiàn)出色形狀精度的優(yōu)越打印品質(zhì)，并將Nanoscribe的灰度技術(shù)拓展到三維層面。整個(gè)打印過(guò)程在保持高速掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)實(shí)...

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit，PIC) 與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件，比如激光器、電光調(diào)制器、光電探測(cè)器、光衰減器、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域，例如數(shù)據(jù)通訊，激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動(dòng)駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動(dòng)感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)，尤其是微型光子組件應(yīng)用，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接，可以有效提高集成度和功能性。類似于這種...

多年來(lái)，Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色，并且參與了很多3D打印的項(xiàng)目，包括等離子體技術(shù)、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項(xiàng)目。如今，Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機(jī)構(gòu)一起開(kāi)發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團(tuán)隊(duì)的項(xiàng)目為期三年，名為Miliquant，由德國(guó)聯(lián)邦教育和研究部（簡(jiǎn)稱BMBF）提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件，將用于量子技術(shù)創(chuàng)新，并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷、自動(dòng)駕駛和細(xì)胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團(tuán)隊(duì)將開(kāi)展多項(xiàng)實(shí)驗(yàn)，開(kāi)發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng)，這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作，還需要開(kāi)發(fā)可靠的組件，以及組裝和制造的新方法。 更多有...

Nanoscribe雙光子光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)在光子芯表面進(jìn)行打印 。光子芯片上的光學(xué)元件的精確對(duì)準(zhǔn)，例如作為光子封裝的光學(xué)互連，是通過(guò)共聚焦單元提供的高分辨率3D拓?fù)溆成鋵?shí)現(xiàn)的。在nanoPrintX軟件中，您可以將芯片布局和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記添加到打印作業(yè)中，打印系統(tǒng)會(huì)檢測(cè)標(biāo)記并將其與打印作業(yè)進(jìn)行匹配，以確定光子芯片波導(dǎo)的確切位置和方向。這確保了基于原理的2PP微納加工系統(tǒng)能實(shí)現(xiàn)微光學(xué)元件和光學(xué)互連具有比較好的光學(xué)性能的同時(shí)擁有**小耦合損耗，通過(guò)自由空間微光學(xué)耦合（FSMOC）實(shí)現(xiàn)高效的光耦合，成為光子封裝的強(qiáng)大解決方案。使用Nanoscribe技術(shù)可以制造微米級(jí)別的結(jié)構(gòu)和器件。北京TPPNanoscri...

對(duì)于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn)。首先，他們?cè)O(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印。然后，打印的物體必須與光纖的重點(diǎn)部分完全對(duì)齊，以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn)。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn)，特別是對(duì)于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu)，是對(duì)可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動(dòng)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展，例如光纖SERS探頭，Nanoscribe近期推出了新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探...

NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無(wú)掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中，超過(guò)1,000個(gè)開(kāi)創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的證明。 Nanoscribe技術(shù)是一種高精度的三維打印...

Nanoscribe的技術(shù)在多個(gè)領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用。在光子學(xué)領(lǐng)域，它可以制造光子晶體、超穎材料、激光分布回饋術(shù)(DFB Lasers)等。在微光學(xué)領(lǐng)域，它可以制造微光學(xué)器件和整合型光學(xué)。在微流道技術(shù)領(lǐng)域，它可以應(yīng)用于生醫(yī)芯片系統(tǒng)、物質(zhì)研究開(kāi)發(fā)與分析以及三維基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)等方面。在生命科學(xué)領(lǐng)域，Nanoscribe的技術(shù)可以應(yīng)用于細(xì)胞外數(shù)組結(jié)構(gòu)、干細(xì)胞分離術(shù)、細(xì)胞成長(zhǎng)研究、細(xì)胞遷移研究以及組織工程等方面。此外，Nanoscribe的技術(shù)還可以制造游泳microbots，用于精確高效地將藥物送至身體的目標(biāo)區(qū)域，以及制作極小的手術(shù)工具，用于顯微外科手術(shù)。 Nanoscribe的技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)微米級(jí)...

基于雙光子聚合（2PP）原理的雙光子灰度光刻（2GL?）是Nanoscribe技術(shù)，具備體素動(dòng)態(tài)控制能力。在掃描激光焦點(diǎn)橫跨掃描平面時(shí)，調(diào)制曝光劑量會(huì)改變光敏樹(shù)脂內(nèi)的體素大小，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)聚合體素尺寸的精細(xì)可控變化。這是激光功率調(diào)制和高速振鏡掃描與精確的橫向載物臺(tái)運(yùn)動(dòng)同步的結(jié)果。為此，將灰度圖像轉(zhuǎn)換為曝光級(jí)別的空間變化，從而在一個(gè)平面上打印不同的體素高度。 2GL有什么優(yōu)勢(shì)？ 雙光子灰度光刻 技術(shù)（2GL?）使用激光束調(diào)制和高速振鏡的高頻同步進(jìn)行單體素調(diào)節(jié)，從而實(shí)現(xiàn)光學(xué)質(zhì)量表面結(jié)構(gòu)。通過(guò)高精度定位單元和自校準(zhǔn)程序，可在拼接相鄰打印區(qū)域時(shí)以出色準(zhǔn)確性進(jìn)行打印，以制造大型結(jié)構(gòu)。2GL動(dòng)態(tài)調(diào)整打印場(chǎng)邊...

對(duì)于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn)。首先，他們?cè)O(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印。然后，打印的物體必須與光纖的重點(diǎn)部分完全對(duì)齊，以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn)。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn)，特別是對(duì)于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu)，是對(duì)可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動(dòng)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展，例如光纖SERS探頭，Nanoscribe近期推出了新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探...

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻，刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高。 走進(jìn)Nanoscribe在中...

Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術(shù)的打印機(jī)競(jìng)爭(zhēng)，例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案；LithoProf3D，一種由另一家德國(guó)公司MultiphotonOptics制造的先進(jìn)微型激光光刻3D打印機(jī)，以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機(jī)Altraspin。作為市場(chǎng)上的新選擇之一，QuantumXshape承諾采用“非常先進(jìn)的微加工工藝”，可實(shí)現(xiàn)高精度增材制造，在其中可以比較好平衡精度和速度，以實(shí)現(xiàn)特別高水平的生產(chǎn)力和質(zhì)量。Nanoscribe認(rèn)為該打印機(jī)能夠產(chǎn)生“非常出色的輸出”，該打印機(jī)依賴于基于移動(dòng)鏡技術(shù)...

Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術(shù)的打印機(jī)競(jìng)爭(zhēng)，例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案；LithoProf3D，一種由另一家德國(guó)公司MultiphotonOptics制造的先進(jìn)微型激光光刻3D打印機(jī)，以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機(jī)Altraspin。作為市場(chǎng)上的新選擇之一，QuantumXshape承諾采用“非常先進(jìn)的微加工工藝”，可實(shí)現(xiàn)高精度增材制造，在其中可以比較好平衡精度和速度，以實(shí)現(xiàn)特別高水平的生產(chǎn)力和質(zhì)量。Nanoscribe認(rèn)為該打印機(jī)能夠產(chǎn)生“非常出色的輸出”，該打印機(jī)依賴于基于移動(dòng)鏡技術(shù)的振...

Nanoscribe對(duì)準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX，一種基于場(chǎng)景圖概念的軟件工具，可用于定義對(duì)準(zhǔn)3D打印的打印項(xiàng)目。樹(shù)狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對(duì)象和操作的分層組織，用于定義何時(shí)、何地、以及如何進(jìn)行打印。在nanoPrintX中可以定義單個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面。使用Quantum X align系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元，可以識(shí)別這些特定的基板標(biāo)記，并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進(jìn)行匹配。對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是Quantum X align系統(tǒng)的標(biāo)配。更多有關(guān)3D微納加工的咨詢，歡迎致電Nanoscribe中國(guó)...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭 Nanoscribe的3D...

對(duì)于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn)。首先，他們?cè)O(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印。然后，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對(duì)齊，以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn)。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn)，特別是對(duì)于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu)，是對(duì)可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動(dòng)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展，例如光纖SERS探頭，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SE...

對(duì)于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn)。首先，他們?cè)O(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印。然后，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對(duì)齊，以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn)。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn)，特別是對(duì)于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu)，是對(duì)可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動(dòng)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展，例如光纖SERS探頭，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭 使用Nanoscribe技術(shù)可以制造...

Nanoscribe對(duì)準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX，一種基于場(chǎng)景圖概念的軟件工具，可用于定義對(duì)準(zhǔn)3D打印的打印項(xiàng)目。樹(shù)狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對(duì)象和操作的分層組織，用于定義何時(shí)、何地、以及如何進(jìn)行打印。在nanoPrintX中可以定義單個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面。使用Quantum X align系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元，可以識(shí)別這些特定的基板標(biāo)記，并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進(jìn)行匹配。對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是Quantum X align系統(tǒng)的標(biāo)配。更多有關(guān)增材制造的咨詢，歡迎致電Nanoscribe中國(guó)分公...

Nanoscribe設(shè)備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計(jì)用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過(guò)程中，激光固化部分液態(tài)光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米。另一方面，GT2現(xiàn)在可以在短時(shí)間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對(duì)其應(yīng)用定制的多組物鏡，基板，材料和自動(dòng)化流程。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程，用于制作單個(gè)元素。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度，滿足智能手機(jī)...

Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術(shù)的打印機(jī)競(jìng)爭(zhēng)，例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案；LithoProf3D，一種由另一家德國(guó)公司MultiphotonOptics制造的先進(jìn)微型激光光刻3D打印機(jī)，以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機(jī)Altraspin。作為市場(chǎng)上的新選擇之一，QuantumXshape承諾采用“非常先進(jìn)的微加工工藝”，可實(shí)現(xiàn)高精度增材制造，在其中可以比較好平衡精度和速度，以實(shí)現(xiàn)特別高水平的生產(chǎn)力和質(zhì)量。Nanoscribe認(rèn)為該打印機(jī)能夠產(chǎn)生“非常出色的輸出”，該打印機(jī)依賴于基于移動(dòng)鏡技術(shù)...

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻，刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高。 微納光學(xué)器件制造，咨詢納糯三維...

對(duì)于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn)。首先，他們?cè)O(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印。然后，打印的物體必須與光纖的重點(diǎn)部分完全對(duì)齊，以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn)。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn)，特別是對(duì)于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu)，是對(duì)可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動(dòng)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展，例如光纖SERS探頭，Nanoscribe近期推出了新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探...

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹(shù)脂分配器。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭 想要了解增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別...

Nanoscribe的技術(shù)在多個(gè)領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用。在光子學(xué)領(lǐng)域，它可以制造光子晶體、超穎材料、激光分布回饋術(shù)(DFB Lasers)等。在微光學(xué)領(lǐng)域，它可以制造微光學(xué)器件和整合型光學(xué)。在微流道技術(shù)領(lǐng)域，它可以應(yīng)用于生醫(yī)芯片系統(tǒng)、物質(zhì)研究開(kāi)發(fā)與分析以及三維基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)等方面。在生命科學(xué)領(lǐng)域，Nanoscribe的技術(shù)可以應(yīng)用于細(xì)胞外數(shù)組結(jié)構(gòu)、干細(xì)胞分離術(shù)、細(xì)胞成長(zhǎng)研究、細(xì)胞遷移研究以及組織工程等方面。此外，Nanoscribe的技術(shù)還可以制造游泳microbots，用于精確高效地將藥物送至身體的目標(biāo)區(qū)域，以及制作極小的手術(shù)工具，用于顯微外科手術(shù)。 生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用，咨詢納糯三維科技（上海）有...

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過(guò)成分和幾何設(shè)計(jì)來(lái)調(diào)整和定制。通過(guò)使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子，機(jī)械，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說(shuō)，在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。 通過(guò)Nanoscribe技術(shù)，我們可以實(shí)現(xiàn)微觀世界的精密控制和制造。...

Nanoscribe雙光子光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)在光子芯表面進(jìn)行打印 。光子芯片上的光學(xué)元件的精確對(duì)準(zhǔn)，例如作為光子封裝的光學(xué)互連，是通過(guò)共聚焦單元提供的高分辨率3D拓?fù)溆成鋵?shí)現(xiàn)的。在nanoPrintX軟件中，您可以將芯片布局和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記添加到打印作業(yè)中，打印系統(tǒng)會(huì)檢測(cè)標(biāo)記并將其與打印作業(yè)進(jìn)行匹配，以確定光子芯片波導(dǎo)的確切位置和方向。這確保了基于原理的2PP微納加工系統(tǒng)能實(shí)現(xiàn)微光學(xué)元件和光學(xué)互連具有比較好的光學(xué)性能的同時(shí)擁有**小耦合損耗，通過(guò)自由空間微光學(xué)耦合（FSMOC）實(shí)現(xiàn)高效的光耦合，成為光子封裝的強(qiáng)大解決方案。更多有關(guān)增材制造的咨詢，歡迎致電Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維。湖南德國(guó)N...

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過(guò)成分和幾何設(shè)計(jì)來(lái)調(diào)整和定制。通過(guò)使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子，機(jī)械，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說(shuō)，在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。 Nanoscribe的技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)微米級(jí)別的精確打印，為...