北京2PPNanoscribe無(wú)掩膜光刻

Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術(shù)的打印機(jī)競(jìng)爭(zhēng)，例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案；LithoProf3D，一種由另一家德國(guó)公司MultiphotonOptics制造的先進(jìn)微型激光光刻3D打印機(jī)，以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機(jī)Altraspin。作為市場(chǎng)上的新選擇之一，QuantumXshape承諾采用“非常先進(jìn)的微加工工藝”，可實(shí)現(xiàn)高精度增材制造，在其中可以比較好平衡精度和速度，以實(shí)現(xiàn)特別高水平的生產(chǎn)力和質(zhì)量。Nanoscribe認(rèn)為該打印機(jī)能夠產(chǎn)生“非常出色的輸出”，該打印機(jī)依賴于基于移動(dòng)鏡技術(shù)的振鏡(Galvo)系統(tǒng)和基于堅(jiān)固花崗巖的平臺(tái)上的智能電子系統(tǒng)控制單元，并結(jié)合了行業(yè)-級(jí)脈沖飛秒激光器。QuantumXshape可以使用Nanoscribe專有的聚合物和二氧化硅材料打印3D微型部件，并且對(duì)第三方或定制材料開(kāi)放。此外，它可以通過(guò)設(shè)備的集成觸摸屏和遠(yuǎn)程訪問(wèn)軟件nanoConnectX進(jìn)行控制，允許遠(yuǎn)程控制連接打印機(jī)的打印作業(yè)，將實(shí)驗(yàn)室的準(zhǔn)備時(shí)間減少到限度低值，并在共享系統(tǒng)時(shí)簡(jiǎn)化團(tuán)隊(duì)協(xié)作Nanoscribe的3D打印設(shè)備具有高度靈活性和可定制性，能夠滿足不同行業(yè)的需求。北京2PPNanoscribe無(wú)掩膜光刻

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹(shù)脂分配器。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。   重慶進(jìn)口Nanoscribe多少錢微納光學(xué)器件制造，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造公司，一直致力于開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過(guò)2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過(guò)硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)優(yōu)于主導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來(lái)要求自己以滿足客戶的需求。

科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合 技術(shù)(2PP) ，發(fā)明了GRIN 光學(xué)微納制造工藝。這種新的制造技術(shù)實(shí)現(xiàn)了簡(jiǎn)單一步操作即可同時(shí)控制幾何形狀和折射率來(lái)打印自由曲面光學(xué)元件。憑借這種全新的制造工藝，科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作，打印了世界上特別小的可聚焦可見(jiàn)光的龍勃透鏡（15?μm 直徑）。相似于人類眼睛晶狀體的梯度，這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加，使其具有獨(dú)特的聚光特性。Nanoscribe的Photonic Professional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫，而是在孔型支架內(nèi)。通過(guò)調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過(guò)激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí)，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過(guò)0.3。

Nanoscribe技術(shù)在微納加工、生物醫(yī)學(xué)和光學(xué)領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。

Nanoscribe雙光子光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)在光子芯表面進(jìn)行打印 。光子芯片上的光學(xué)元件的精確對(duì)準(zhǔn)，例如作為光子封裝的光學(xué)互連，是通過(guò)共聚焦單元提供的高分辨率3D拓?fù)溆成鋵?shí)現(xiàn)的。在nanoPrintX軟件中，您可以將芯片布局和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記添加到打印作業(yè)中，打印系統(tǒng)會(huì)檢測(cè)標(biāo)記并將其與打印作業(yè)進(jìn)行匹配，以確定光子芯片波導(dǎo)的確切位置和方向。這確保了基于原理的2PP微納加工系統(tǒng)能實(shí)現(xiàn)微光學(xué)元件和光學(xué)互連具有比較好的光學(xué)性能的同時(shí)擁有**小耦合損耗，通過(guò)自由空間微光學(xué)耦合（FSMOC）實(shí)現(xiàn)高效的光耦合，成為光子封裝的強(qiáng)大解決方案。影響增材制造技術(shù)的因素你了解嗎？歡迎咨詢Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。進(jìn)口Nanoscribe激光直寫

納米尺度結(jié)構(gòu)制造，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。北京2PPNanoscribe無(wú)掩膜光刻

雙光子聚合（2PP）是一種可實(shí)現(xiàn)比較高精度和完全設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)Quantum X shape具有下列優(yōu)異性能：首先，在所有空間方向上低至 100 納米的特征尺寸控制，適用于納米和微米級(jí)打??；其次制作高達(dá) 50 毫米的目標(biāo)結(jié)構(gòu)，適用于中尺度打印。高速3D微納加工系統(tǒng)Quantum X shape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時(shí)還離不開(kāi)工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái)。Quantum X  shape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度，并以 1 MHz 調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率

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