控制閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

微泰,傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當(dāng)將位于工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的溝槽。此外，它極大限度地減少了由于閘板打開和關(guān)閉造成的真空壓力變化，使腔室內(nèi)的真空壓力得以維持。負(fù)責(zé)門控半導(dǎo)體晶圓轉(zhuǎn)移的傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥分為兩種類型:I型和L型? Product Range : 32 x 222 / 46 x 236 ，50 x 336 / 56 x 500 ，? Cycles of first service : 1,000,000 ? Response Time : 2sec ? Customer Specified Flanges ，轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制成，用于傳輸晶圓小于450毫米的半導(dǎo)體系統(tǒng)和隔離工藝室。本型的特點(diǎn)是葉片在垂直方向上快速移動(dòng)，確保完美的腔室壓力維持。它采用具有LM導(dǎo)向系統(tǒng)和單連桿的內(nèi)部機(jī)構(gòu)，保證高耐用性和長(zhǎng)壽命。二、L型轉(zhuǎn)移閥。L型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制造，其特點(diǎn)是設(shè)計(jì)緊湊，易于維護(hù)。I型和L型轉(zhuǎn)移閥在在閘門開啟和關(guān)閉過(guò)程中極大限度地減少了振動(dòng)，并且對(duì)溫度變化非常穩(wěn)定，確保了較長(zhǎng)的使用壽命。此外，即使長(zhǎng)時(shí)間使用柵極，它們產(chǎn)生的顆粒也很少，從而避免了晶圓缺陷或主器件的污染。微泰不斷創(chuàng)新，在開發(fā)先進(jìn)的壓力控制和控制閥制造專業(yè)從事真空閘閥不懈努力。高壓閘閥按閥桿螺紋的位置分外螺紋式、內(nèi)螺紋式、法蘭、焊接等。按介質(zhì)的流向分，有直通式、直流式和角式?？刂崎l閥L型轉(zhuǎn)移閥

微泰，鋁閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。期特點(diǎn)是*不論什么工藝的設(shè)備都可以使用*由半永久性陶瓷球和彈簧組成*應(yīng)用:隔離泵。鋁閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：手動(dòng)、法蘭尺寸：1.5英寸~ 10英寸、閥體：AL6061 (Anodizing)、機(jī)械裝置：AL6061 (Anodizing)、閥門：O型圈(VITON)、真空密封：O型圈(VITON)、響應(yīng)時(shí)間≤ 3 sec、驅(qū)動(dòng)器：氣缸、操作泄漏率< 1×10-10 mbar ?/sec、壓力范圍：< 1×10-10 mbar ?/sec、開始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、初次維護(hù)前可用次數(shù)100,000次、閥體溫度≤ 120 °執(zhí)行機(jī)構(gòu)溫度≤ 60 °C、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)?？商娲鶹AT閥門。低真空閘閥TRANSFER VALVE控制系統(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作，而多定位閘閥使用氣動(dòng)控制操作。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，有氣動(dòng)多位置閘閥（氣動(dòng)多定位閘閥、多定位插板閥、Pneumatic Multi Position）、氣動(dòng)（鎖定）閘閥和手動(dòng)（鎖定）閘閥，蝶閥，Butterfly Valve，步進(jìn)電機(jī)插板閥Stepper Motor Gate Valve，加熱插板閥（加熱閘閥Heating gate valve），鋁閘閥（AL Gate Valve），三重防護(hù)閘閥，應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮?dú)饪刂崎l閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個(gè)內(nèi)置控制器，可以在本地和遠(yuǎn)程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能，以應(yīng)對(duì)泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點(diǎn)之一是能夠遠(yuǎn)程檢查閥門狀態(tài)，并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動(dòng)方式操作，適用于需要壓力控制的所有加工領(lǐng)域。采用手動(dòng)調(diào)節(jié)控制裝置控制，用戶可直接控制閘門的開啟和關(guān)閉，以調(diào)節(jié)壓力。微泰半導(dǎo)體多定位閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁Ｕ婵臻l閥是真空系統(tǒng)中用于控制氣體進(jìn)出真空室的機(jī)械裝置。

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn)：插板閥主滑閥的球機(jī)構(gòu)方式-在量產(chǎn)工藝設(shè)備上的性能驗(yàn)證-由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成，陶瓷和金屬觸摸驅(qū)動(dòng)無(wú)顆粒-已向中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備，設(shè)備廠批量供貨，已得到品質(zhì)認(rèn)可，已完成對(duì)半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證，而其他廠家閘閥金屬和金屬觸摸驅(qū)動(dòng)產(chǎn)生大量顆粒。使用鋼陶瓷球，與金屬摩擦?xí)r不會(huì)損壞，金屬與陶瓷球之間不會(huì)產(chǎn)生Particle，半永久板簧（SUS鋼板）的應(yīng)用確保閥門驅(qū)動(dòng)同步性，采用了固定球?qū)蚱骱弯撎沾?。微泰半?dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽＝饘俨牧细邏洪l閥主要有：碳鋼閥門、合金鋼閥門、不銹鋼閥門、鑄鐵閥門、鈦合金閥門、銅合金閥門等。多位閘閥楔式閘閥

閘閥高度大，啟閉時(shí)間長(zhǎng)。閘板的啟閉行程較大，升降是通過(guò)螺桿進(jìn)行的。控制閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

微泰轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當(dāng)將位于工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的溝槽。此外，它極大限度地減少了由于閘板打開和關(guān)閉造成的真空壓力變化，使腔室內(nèi)的真空壓力得以維持。負(fù)責(zé)門控半導(dǎo)體晶圓轉(zhuǎn)移的轉(zhuǎn)移閥分為兩種類型:I型和L型。一、I型轉(zhuǎn)移閥。I型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制成，用于傳輸晶圓小于450毫米的半導(dǎo)體系統(tǒng)和隔離工藝室。本型的特點(diǎn)是葉片在垂直方向上快速移動(dòng)，確保完美的腔室壓力維持。它采用具有LM導(dǎo)向系統(tǒng)和單連桿的內(nèi)部機(jī)構(gòu)，保證高耐用性和長(zhǎng)壽命。二、L型轉(zhuǎn)移閥。L型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制造，其特點(diǎn)是設(shè)計(jì)緊湊，易于維護(hù)。L型轉(zhuǎn)移閥的特點(diǎn)是閘門在兩個(gè)階段從垂直到水平方向移動(dòng)，確保完美的腔室壓力維護(hù)。它的內(nèi)部機(jī)構(gòu)，包括一個(gè)LM導(dǎo)向系統(tǒng)和滯留彈簧和楔形營(yíng)地結(jié)構(gòu)，保證了高耐用性和長(zhǎng)壽命，同時(shí)提供穩(wěn)定和精確的運(yùn)動(dòng)。I型和L型轉(zhuǎn)移閥在在閘門開啟和關(guān)閉過(guò)程中極大限度地減少了振動(dòng)，并且對(duì)溫度變化非常穩(wěn)定，確保了較長(zhǎng)的使用壽命。此外，即使長(zhǎng)時(shí)間使用柵極，它們產(chǎn)生的顆粒也很少，從而避免了晶圓缺陷或主器件的污染。微泰不斷創(chuàng)新，在開發(fā)先進(jìn)的壓力控制和控制閥制造專業(yè)從事真空閘閥不懈努力?？刂崎l閥L型轉(zhuǎn)移閥