加熱閘閥閘板閥

半導(dǎo)體真空插板閥是一種用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中的真空系統(tǒng)的閥門(mén)，主要作用是控制氣體的流動(dòng)，以維持真空環(huán)境的穩(wěn)定。微泰半導(dǎo)體真空腔體用閘閥（插板閥）其特點(diǎn)包括：1. 高密封性：采用特殊的密封結(jié)構(gòu)，能夠有效地防止氣體泄漏，保證真空系統(tǒng)的密封性。2. 耐腐蝕性：材料具有良好的耐腐蝕性，能夠在半導(dǎo)體制造過(guò)程中的化學(xué)物質(zhì)環(huán)境中穩(wěn)定工作。3. 高精度：能夠精確地控制氣體的流量，滿(mǎn)足半導(dǎo)體制造工藝對(duì)精度的要求。4. 快速響應(yīng)：可以快速地開(kāi)啟和關(guān)閉，以適應(yīng)半導(dǎo)體制造過(guò)程中的快速氣體控制需求。5. 可靠性高：設(shè)計(jì)和制造過(guò)程嚴(yán)格，保證了其在長(zhǎng)期使用中的可靠性和穩(wěn)定性。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。微泰轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門(mén)系統(tǒng)。加熱閘閥閘板閥

微泰半導(dǎo)體閘閥具有諸多特點(diǎn)：首先，它已向中國(guó)臺(tái)灣的 Micron、UMC、AKT 等，新加坡的 Micron、Global Foundries，馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體，日本的 Micron、三星半導(dǎo)體等眾多設(shè)備廠(chǎng)批量供貨，且品質(zhì)得到認(rèn)可，同時(shí)完成了對(duì)半導(dǎo)體 Utility 設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。其次，該閘閥采用陶瓷球機(jī)構(gòu)，具有良好的抗沖擊和震動(dòng)性能，保證可使用 25 萬(wàn)次，且檢修方便，維護(hù)成本較低。它無(wú) Particle 產(chǎn)生，采用陶瓷球不會(huì)有腐蝕和顆粒產(chǎn)生。此外，它還具有屏蔽保護(hù)功能，閘閥閥體與擋板之間的距離小于 1mm，能有效防止粉末侵入閥內(nèi)，壽命為半永久性。其保護(hù)環(huán)設(shè)計(jì)也很獨(dú)特，Protecrion Ring 通過(guò)流速上升設(shè)計(jì)防止粉末凝固，并通過(guò)打磨（研磨）工藝防止粉末堆積。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁Ｊ謩?dòng)閘閥蝶閥真空閘閥由一個(gè)滑動(dòng)門(mén)或板組成，可以移動(dòng)以阻止或允許通過(guò)真空閥體，從而有效地將腔室與外部環(huán)境隔離。

微泰，專(zhuān)門(mén)用閘閥應(yīng)用于? Evaporation? Sputtering? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating? Etch? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD等設(shè)備上?？商娲鶹AT閘閥。期特點(diǎn)是*使用維修配件工具包易于維護(hù)*將電磁閥和位置傳感器連接到15針D-Sub*鎖定功能*限位開(kāi)關(guān)*?速度控制器&電磁閥（2Port+N2Port）用不銹鋼管連接（φ6）*應(yīng)用:泵隔離,產(chǎn)品工藝水平要求高的地方。專(zhuān)門(mén)用閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：氣動(dòng)、法蘭尺寸：4英寸~ 8英寸、法蘭類(lèi)型：ISO, JIS, ASA, CF、連接方式：焊接波紋管、閥門(mén)密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：Viton O型圈、響應(yīng)時(shí)間：≤ 0.3 sec ~2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開(kāi)始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、閘門(mén)的差動(dòng)壓力：4? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護(hù)前可用次數(shù)：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、Micron,Global Foundries、英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體業(yè)績(jī)。

微泰,傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門(mén)系統(tǒng)。它充當(dāng)將位于工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的溝槽。I型和L型轉(zhuǎn)移閥是用于半導(dǎo)體PVD CVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門(mén)系統(tǒng)。它們的作用是將位于工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的溝槽，并極大限度地減少由于閘板打開(kāi)和關(guān)閉造成的真空壓力變化，以維持腔室內(nèi)的真空壓力。I型轉(zhuǎn)移閥由鋁或不銹鋼制成，用于傳輸晶圓小于450毫米的半導(dǎo)體系統(tǒng)和隔離工藝室。其特點(diǎn)是葉片在垂直方向上快速移動(dòng)，以確保完美的腔室壓力維持。而L型轉(zhuǎn)移閥也由鋁或不銹鋼制造，其特點(diǎn)是設(shè)計(jì)緊湊，易于維護(hù)。L型轉(zhuǎn)移閥的閘門(mén)在兩個(gè)階段從垂直到水平方向移動(dòng)，以確保完美的腔室壓力維護(hù)。這兩種類(lèi)型的轉(zhuǎn)移閥都具有高耐用性和長(zhǎng)壽命的優(yōu)點(diǎn)，并且在閘門(mén)開(kāi)啟和關(guān)閉過(guò)程中極大限度地減少了振動(dòng)，對(duì)溫度變化也非常穩(wěn)定，以確保較長(zhǎng)的使用壽命。如果您需要了解更多關(guān)于微泰傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥的信息，請(qǐng)聯(lián)系上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽＿@些真空閥可以手動(dòng)、氣動(dòng)或電子方式驅(qū)動(dòng)，從而可以根據(jù)具體應(yīng)用進(jìn)行多功能控制。

微泰，大閘閥、大型閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。可替代VAT閘閥。微泰大閘閥、大型閘閥其特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:用于研發(fā)和工業(yè)的隔離閥。大閘閥、大型閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：氣動(dòng)、法蘭尺寸（內(nèi)徑）：16? ~ 30?、 法蘭型：ISO、JIS、ASA 、饋通：Viton O-Rin、閥門(mén)密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間：可調(diào)節(jié)、工作壓力范圍：1×10-8 mbar to 1000 mbar 、維護(hù)前可用次數(shù)：10,000 ~ 100,000次、開(kāi)啟時(shí)壓差 ≤ 30 mba、泄漏率 < 1×10 -9  mbar ?/sec、閥體溫度≤ 150 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：6~ 8 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。 閘閥形體簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)長(zhǎng)度短，制造工藝性好，適用范圍廣。超大型真空閘閥UMC

金屬閥體襯里高壓閥門(mén)主要有襯膠閥門(mén)、襯氟閥門(mén)、襯鉛閥門(mén)、襯塑閥門(mén)、襯搪瓷閥門(mén)。加熱閘閥閘板閥

微泰，超高壓閘閥應(yīng)用于? Evaporation? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? 蝕刻? Diffusion?CVD等設(shè)備上。期特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:研發(fā)和工業(yè)中的UHV隔離。高壓閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：手動(dòng)或氣動(dòng)、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類(lèi)型：CF、連接方式：焊接波紋管（AM350或STS316L）、閥門(mén)密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：銅墊圈、響應(yīng)時(shí)間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開(kāi)始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、閘門(mén)的差動(dòng)壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護(hù)前可用次數(shù)：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 150 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料：閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。加熱閘閥閘板閥