氣動閘閥UMC

來源: 發(fā)布時間:2024-09-17

微泰半導(dǎo)體閘閥具有獨(dú)特的特點(diǎn):其插板閥主滑閥采用球機(jī)構(gòu)方式,并且在量產(chǎn)工藝設(shè)備上經(jīng)過了性能驗(yàn)證。該閘閥由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成,陶瓷與金屬接觸驅(qū)動時不會產(chǎn)生顆粒。目前已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT,新加坡的 Micron、Global Foundries,馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,日本的 Micron、三星半導(dǎo)體等眾多設(shè)備廠批量供貨,且品質(zhì)得到認(rèn)可,同時也完成了對半導(dǎo)體 Utility 設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。與其他廠家閘閥的金屬與金屬接觸驅(qū)動會產(chǎn)生大量顆粒不同,微泰半導(dǎo)體閘閥采用鋼陶瓷球,在與金屬摩擦?xí)r不會損壞,且金屬與陶瓷球之間不會產(chǎn)生 Particle。半永久板簧(SUS 鋼板)的應(yīng)用確保了閥門驅(qū)動的同步性,同時還采用了固定球?qū)蚱骱弯撎沾?。微泰半?dǎo)體閘閥廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴(kuò)散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVIA閘閥、VAT 閘閥。此外,該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門分為三類:控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥。氣動閘閥UMC

閘閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,控制系統(tǒng)閘閥,控制閘閥、控制系統(tǒng)插板閥、控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用。控制系統(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴(kuò)散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。晶圓閘閥楔式閘閥真空閘閥是真空系統(tǒng)中用于控制氣體進(jìn)出真空室的機(jī)械裝置。

氣動閘閥UMC,閘閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,氣動多位置閘閥,氣動多定位閘閥,多定位插板閥,Pneumatic Multi Position 其特點(diǎn)是1,全開和關(guān)閉位置使用帶有位置發(fā)射器的氣動電磁閥進(jìn)行控制;2,所有位置控制都由控制器進(jìn)行操作。1)控制類型-全開:高速閘門全開操作-全閉:高速閘門全閉操作-位置(POS.)控制:將閘門移動到設(shè)定的位置值;2)操作時間-完全打開?完全關(guān)閉:<2秒(取決于速度控制器設(shè)置)-位置(POS。)控制: 0%?100%工作,<MAX18秒(偏差: < ±0.5%)。微泰氣動多位置閘閥,氣動多定位閘閥,多定位插板閥,Pneumatic Multi Position,有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,一、控制系統(tǒng)閘閥??刂葡到y(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用??刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。二、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計(jì)和堅(jiān)固的不銹鋼結(jié)構(gòu),通過閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過程。蝶閥通過控制器和步進(jìn)電機(jī)自動控制到用戶指定的值,保持一致的真空壓力。三、多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮?dú)饪刂崎l閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內(nèi)置控制器,可以在本地和遠(yuǎn)程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能,以應(yīng)對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點(diǎn)之一是能夠遠(yuǎn)程檢查閥門狀態(tài),并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,適用于需要壓力控制的所有加工領(lǐng)域。采用手動調(diào)節(jié)控制裝置控制,用戶可直接控制閘門的開啟和關(guān)閉,以調(diào)節(jié)壓力。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。閘閥啟閉時較省力。是與截止閥相比而言,因?yàn)闊o論是開或閉,閘板運(yùn)動方向均與介質(zhì)流動方向相垂直。

氣動閘閥UMC,閘閥

微泰,傳輸閥 (I-MOTION)、I型轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥應(yīng)用于晶圓加工,半導(dǎo)體加工,可替代VAT閘閥。其特點(diǎn)是? 主體材料:鋁或不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 使用維修配件工具包易于維護(hù)? 應(yīng)用:半導(dǎo)體系統(tǒng)中小于 450mm 晶圓的傳輸和處理室隔離,傳輸閥 (I-MOTION)、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥規(guī)格如下:閘門密封類型:傳輸閥 (I-MOTION)、右動轉(zhuǎn)換閥、驅(qū)動方式:氣動、法蘭尺寸(內(nèi)徑) 32×222/46×236/50×336/56×500 、連接方式:焊接波紋管、閘門密封 Viton O 形圈/硫化密封件、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應(yīng)時間:≤ 2 sec、工作壓力范圍:1×10-10 mbar to 1200 mbar、開始時的壓差:≤ 30 mbar、開啟時壓差: ≤ 1200 mbar r、泄漏率不銹鋼:< 1×10 -9Mbar?/秒/鋁:< 1×10 -5  mbar ?/秒、維護(hù)前可用次數(shù): ≥1,000,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。真空閘閥廣泛應(yīng)用于各個行業(yè),包括半導(dǎo)體制造、研發(fā)、分析類儀器和真空鍍膜。全真空閘閥UMC

金屬材料高壓閘閥主要有:碳鋼閥門、合金鋼閥門、不銹鋼閥門、鑄鐵閥門、鈦合金閥門、銅合金閥門等。氣動閘閥UMC

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn):已向中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備,設(shè)備廠批量供貨,已得到品質(zhì)認(rèn)可,已完成對半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。1,采用陶瓷球機(jī)構(gòu),抗沖擊和震動,保證使用25萬次,檢修方便,較低維護(hù)成本。2,無Particle(顆粒)產(chǎn)生,采用陶瓷球無腐蝕和顆粒產(chǎn)。3,屏蔽保護(hù):屏蔽式保護(hù)功能,閘閥閥體與擋板之間的距離小于1mm,可防止粉末侵入閥內(nèi),壽命為半永久性。4,保護(hù)環(huán):Protecrion Ring通過流速上升設(shè)計(jì)防止粉末凝固,并通過打磨(研磨)工藝防止粉末堆積。微泰半導(dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽鈩娱l閥UMC