氣動(dòng)閘閥TRANSFER VALVE

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮?dú)饪刂崎l閥位置的閥門(mén)。它在閥門(mén)的頂部有一個(gè)內(nèi)置控制器，可以在本地和遠(yuǎn)程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能，以應(yīng)對(duì)泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點(diǎn)之一是能夠遠(yuǎn)程檢查閥門(mén)狀態(tài)，并可用于具有不同法蘭類(lèi)型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動(dòng)方式操作，適用于需要壓力控制的所有加工領(lǐng)域。采用手動(dòng)調(diào)節(jié)控制裝置控制，用戶(hù)可直接控制閘門(mén)的開(kāi)啟和關(guān)閉，以調(diào)節(jié)壓力。微泰半導(dǎo)體多定位閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。為特定的真空系統(tǒng)和工藝選擇適當(dāng)尺寸和類(lèi)型的真空閘閥對(duì)于確保高效運(yùn)行和可靠的真空完整性至關(guān)重要。氣動(dòng)閘閥TRANSFER VALVE

微泰半導(dǎo)體閘閥具有獨(dú)特的三重保護(hù)保護(hù)環(huán)機(jī)能：采用鋁質(zhì)材料，減輕重量的同時(shí)提高保護(hù)環(huán)內(nèi)部粗糙度，有效防止工程副產(chǎn)物的堆積黏附；通過(guò)提升保護(hù)環(huán)內(nèi)部流速設(shè)計(jì)，且保護(hù)環(huán)逐步收窄，進(jìn)一步提升流速，防止粉塵黏附；采用三元系 O 型圈，確保保護(hù)環(huán)驅(qū)動(dòng)穩(wěn)定，可保證 30 萬(wàn)次驅(qū)動(dòng)。該閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，能夠替代 HVA 閘閥、VAT 閘閥。此閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。全真空閘閥Global Foundries真空閘閥的設(shè)計(jì)具有獨(dú)特的特征。它們具有堅(jiān)固的結(jié)構(gòu)，通常使用不銹鋼或鋁等材料來(lái)抵抗真空條件。

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn)：插板閥主滑閥的球機(jī)構(gòu)方式-在量產(chǎn)工藝設(shè)備上的性能驗(yàn)證-由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成，陶瓷和金屬觸摸驅(qū)動(dòng)無(wú)顆粒-已向中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備，設(shè)備廠(chǎng)批量供貨，已得到品質(zhì)認(rèn)可，已完成對(duì)半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證，而其他廠(chǎng)家閘閥金屬和金屬觸摸驅(qū)動(dòng)產(chǎn)生大量顆粒。使用鋼陶瓷球，與金屬摩擦?xí)r不會(huì)損壞，金屬與陶瓷球之間不會(huì)產(chǎn)生Particle，半永久板簧（SUS鋼板）的應(yīng)用確保閥門(mén)驅(qū)動(dòng)同步性，采用了固定球?qū)蚱骱弯撎沾?。微泰半?dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽?/p>

微泰，超高壓閘閥應(yīng)用于? Evaporation? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? 蝕刻? Diffusion?CVD等設(shè)備上。期特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:研發(fā)和工業(yè)中的UHV隔離。高壓閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：手動(dòng)或氣動(dòng)、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類(lèi)型：CF、連接方式：焊接波紋管（AM350或STS316L）、閥門(mén)密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：銅墊圈、響應(yīng)時(shí)間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開(kāi)始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、閘門(mén)的差動(dòng)壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護(hù)前可用次數(shù)：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 150 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料：閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。正確安裝、定期維護(hù)以及遵守制造商指南對(duì)于這些閥門(mén)的性能發(fā)揮和使用壽命至關(guān)重要。

微泰控制系統(tǒng)閥門(mén)是安裝在半導(dǎo)體CVD設(shè)備中的主要閥門(mén)?？刂葡到y(tǒng)閥門(mén)起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用，通過(guò)控制系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)閘板的開(kāi)啟和關(guān)閉。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門(mén)分為三類(lèi)：控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥?？刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作，而多定位閘閥使用氣動(dòng)控制操作。一、控制系統(tǒng)閘閥。控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動(dòng)方式操作，可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動(dòng)控制到用戶(hù)指定的值，通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。二、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計(jì)和堅(jiān)固的不銹鋼結(jié)構(gòu)，通過(guò)閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過(guò)程。蝶閥通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)自動(dòng)控制到用戶(hù)指定的值，保持一致的真空壓力。三、多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮?dú)饪刂崎l閥位置的閥門(mén)。它在閥門(mén)的頂部有一個(gè)內(nèi)置控制器，可以在本地和遠(yuǎn)程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能，以應(yīng)對(duì)泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。介質(zhì)可向兩側(cè)任意方向流動(dòng)，易于安裝。閘閥通道兩側(cè)是對(duì)稱(chēng)的。超真空閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，三重防護(hù)閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）等設(shè)備。氣動(dòng)閘閥TRANSFER VALVE

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，三重防護(hù)閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。有-屏蔽閘閥：防止氣體和粉末進(jìn)入閥內(nèi)的隔離閥，-三重防護(hù)閘閥：屏蔽1和2+保護(hù)環(huán)的3重隔離系統(tǒng)，還有步進(jìn)電機(jī)閘閥和鋁閘閥，屏蔽門(mén)閥：產(chǎn)品范圍：2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：25萬(wàn)次?響應(yīng)時(shí)間：0.2秒~3秒；三級(jí)預(yù)防閘閥，三重防護(hù)閘閥：產(chǎn)品范圍：4~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：25萬(wàn)次?包括屏蔽功能；步進(jìn)電機(jī)閘閥：產(chǎn)品范圍：2.5~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：25萬(wàn)次?包括屏蔽功能；步進(jìn)電機(jī)閘閥；鋁閘閥：產(chǎn)品范圍：2.5~12英寸?高壓氣動(dòng)?維護(hù)前可用次數(shù)：10萬(wàn)次?響應(yīng)時(shí)間：0.2秒~3秒；有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。氣動(dòng)閘閥TRANSFER VALVE