HVA閘閥插板閥

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-05-08

微泰,三(多)位閘閥、三位閘閥、多位閘閥應(yīng)用于? 蒸發(fā)?濺射? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? 涂層? 蝕刻? 擴(kuò)散?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。可替代VAT閘閥。其特點(diǎn)是*3個(gè)位置功能-閥門打開,閥門關(guān)閉,第3位置*設(shè)備可通過連接到閥門的9 Pin D-Sub來(lái)讀取閥門狀態(tài)*手動(dòng)和氣動(dòng)閥門組合*應(yīng)用:需要壓力控制的任何其他過程*應(yīng)用:需要壓力控制的地方。三位閘閥、多位閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動(dòng)方式:氣動(dòng)、法蘭尺寸:2.5英寸~ 12英寸、法蘭類型ISO, JIS, ASA, CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:Viton O型圈、響應(yīng)時(shí)間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:2.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時(shí)的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動(dòng)壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 60 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)真空閘閥由一個(gè)滑動(dòng)門或板組成,可以移動(dòng)以阻止或允許通過真空閥體,從而有效地將腔室與外部環(huán)境隔離。HVA閘閥插板閥

閘閥

微泰,控制系統(tǒng)閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。可替代VAT閘閥。其特點(diǎn)是? 主體材質(zhì):不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 帶步進(jìn)電機(jī)的集成壓力控制器? 應(yīng)用:需要壓力控制和隔離的地方??刂葡到y(tǒng)閘閥規(guī)格如下:法蘭尺寸(ID):1.5英寸~ 10英寸、材料:閥體(STS304)/機(jī)構(gòu)STS304、STS420、饋通:旋轉(zhuǎn)饋通、執(zhí)行器:步進(jìn)電機(jī)、氦泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、壓力范圍:1×10-8 mbar to 1.4 bar、閘門上的壓差≤1.4bar、維護(hù)前可用次數(shù):100,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤35°C、安裝位置:任意、接口RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽U舭l(fā)閘閥I型轉(zhuǎn)移閥這些真空閥可以手動(dòng)、氣動(dòng)或電子方式驅(qū)動(dòng),從而可以根據(jù)具體應(yīng)用進(jìn)行多功能控制。

HVA閘閥插板閥,閘閥

微泰的傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體 PVD CVD 設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng),起著將工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的關(guān)鍵作用,就像一條溝槽。這些閥門能極大程度地減少閘板開閉時(shí)造成的真空壓力變化,使腔室內(nèi)的真空壓力得以穩(wěn)定維持。負(fù)責(zé)門控半導(dǎo)體晶圓轉(zhuǎn)移的傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥分為 I 型和 L 型兩種。其產(chǎn)品范圍包括多種尺寸規(guī)格,如 32 x 222、46 x 236、50 x 336、56 x 500 等。維護(hù)前使用周期可達(dá) 100 萬(wàn)次,響應(yīng)時(shí)間為 2 秒,并可根據(jù)客戶要求定制法蘭。這些轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品有鋁制或不銹鋼制兩種,用于傳輸晶圓小于 450 毫米的半導(dǎo)體系統(tǒng)和隔離工藝室。I 型的特點(diǎn)是葉片能在垂直方向上快速移動(dòng),保證腔室壓力完美維持,它采用具有 LM 導(dǎo)向系統(tǒng)和單連桿的內(nèi)部機(jī)構(gòu),確保高耐用性和長(zhǎng)壽命。L 型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品則設(shè)計(jì)緊湊,易于維護(hù)。I 型和 L 型轉(zhuǎn)移閥在閘門開啟和關(guān)閉過程中能極大限度地減少振動(dòng),且對(duì)溫度變化非常穩(wěn)定,能確保較長(zhǎng)的使用壽命。此外,它們即使長(zhǎng)時(shí)間使用,產(chǎn)生的顆粒也很少,能避免晶圓缺陷和主器件污染。微泰不斷創(chuàng)新,在壓力控制和控制閥制造方面持續(xù)努力,專注于真空閘閥的研發(fā)。

微泰,鋁閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。期特點(diǎn)是*不論什么工藝的設(shè)備都可以使用*由半永久性陶瓷球和彈簧組成*應(yīng)用:隔離泵。鋁閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動(dòng)方式:手動(dòng)、法蘭尺寸:1.5英寸~ 10英寸、閥體:AL6061 (Anodizing)、機(jī)械裝置:AL6061 (Anodizing)、閥門:O型圈(VITON)、真空密封:O型圈(VITON)、響應(yīng)時(shí)間≤ 3 sec、驅(qū)動(dòng)器:氣缸、操作泄漏率< 1×10-10 mbar ?/sec、壓力范圍:< 1×10-10 mbar ?/sec、開始時(shí)的壓差:≤ 30 mbar、初次維護(hù)前可用次數(shù)100,000次、閥體溫度≤ 120 °執(zhí)行機(jī)構(gòu)溫度≤ 60 °C、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)??商娲鶹AT閥門。金屬材料高壓閘閥主要有:碳鋼閥門、合金鋼閥門、不銹鋼閥門、鑄鐵閥門、鈦合金閥門、銅合金閥門等。

HVA閘閥插板閥,閘閥

半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的解決方案,真空插板閥品牌—微泰??刂葡到y(tǒng)閥門是安裝在半導(dǎo)體? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備中的主要閥門??刂葡到y(tǒng)閥門起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用,通過控制系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)閘板的開啟和關(guān)閉。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門分為三類:控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥??刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作,而多定位閘閥、多位置閘閥使用氣動(dòng)控制操作。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。真空閘閥屬于真空隔離閥類別。但是,它也有可用于控制氣流。低真空閘閥氣動(dòng)閥

真空閘閥廣泛應(yīng)用于各個(gè)行業(yè),包括半導(dǎo)體制造、研發(fā)、分析類儀器和真空鍍膜。HVA閘閥插板閥

微泰,大閘閥、大型閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。可替代VAT閘閥。微泰大閘閥、大型閘閥其特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:用于研發(fā)和工業(yè)的隔離閥。大閘閥、大型閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動(dòng)方式:氣動(dòng)、法蘭尺寸(內(nèi)徑):16? ~ 30?、 法蘭型:ISO、JIS、ASA 、饋通:Viton O-Rin、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間:可調(diào)節(jié)、工作壓力范圍:1×10-8 mbar to 1000 mbar 、維護(hù)前可用次數(shù):10,000 ~ 100,000次、開啟時(shí)壓差 ≤ 30 mba、泄漏率 < 1×10 -9  mbar ?/sec、閥體溫度≤ 150 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):6~ 8 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。 HVA閘閥插板閥