奉賢區(qū)MerckSNAPi.d.2.0加速器WB實驗加速器代理價

來源: 發(fā)布時間:2021-10-14

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2.0提升的是封閉、抗體孵育和漂洗操作速度,時間縮短到只需要30分鐘??! 有了SNAP i.d. 2.0 加速器,做Western Blotting實驗,對于你或許將成為一種享受。 產(chǎn)品特色: 高效率:30分鐘完成膜封閉、洗滌和抗體孵育全過程; 驅(qū)動力:通過真空壓力驅(qū)動力快速進行; 高質(zhì)量:保證檢測靈敏度,更高的信噪比; 廣兼容:與常規(guī)上游轉(zhuǎn)膜和下游檢測方法、試劑均兼容。? 產(chǎn)品介紹: SNAP i.d.? 2.0是一套真空驅(qū)動的WB加速器,默克密理博2013年上市的這種 SNAP id 2.0加速器可以用于Western Blot和IHC。采用真空抽濾來完成免疫雜交中的封閉-抗體孵育-漂洗的步驟,可以將操作時間從傳統(tǒng)的4小時(至過夜)縮短至30分鐘以內(nèi),極大地提高了操作通量和效率,避免了繁瑣的手工處理帶來的操作失誤。本視頻展示了SNAP id 2.0在Western Blot的膜封閉-漂洗金山區(qū)加速完成WB實驗和IHC實驗WB實驗加速器咨詢問價上海益啟WB實驗加速器可同時操作24個切片。

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間,其次是較高濃度的二抗,持續(xù)時間較短。表1.如何根據(jù)SNAPi.d.92.0系統(tǒng)計算SNAPi.d.92.0系統(tǒng)所需的抗體濃度用于標(biāo)準(zhǔn)免疫檢測的濃度標(biāo)準(zhǔn)SNAPi.d.o2.0免疫檢測免疫檢測多印跡迷你印跡Midi污點_Ab濃度1毫克/毫升1毫克/毫升1毫克/毫升1毫克/毫升所需抗體量_1微克0.25微克0.5微克1微克使用的抗體量30毫升2.5毫升5毫升10毫升比較終抗體稀釋1:30,0001:10,0001:10,0001:10,000使用的抗體庫存1微升0.25微升0.本用戶指南中使用的符號在本用戶指南和/或產(chǎn)品標(biāo)簽上: 耐化學(xué)性真空泵 (115 V/60 Hz)或(220 V/50 Hz), 1升抽濾瓶,8號穿孔活塞(5個/包)和不銹鋼濾膜專門應(yīng)用鑷子。 主要特點: 高效率? 30分鐘完成膜封閉、洗滌和抗體孵育全過程 驅(qū)動力 通過真空壓力驅(qū)動力快速進行

00SNAPi.d.o2.0抗體收集盒SNAPABTR20快照印跡輥SNAP2RL印跡膜Immobilon-EPVDF,0.45μm,7cmx8.4cm薄片IEVH0785050Imobilong-EPVDF,0.45μm,8.5cmx10m卷IEVHB5R1個Immbilon@-EPVDF,0.45μm,26.5cmx1.875m卷IEVH000051個Imobllon-EPVDF,0.45um,印跡三明治,7cmx8.4cmIESN0785220Imbilon9-EPVDf,0.45um,BottingSandwich,8.5厘米x13.5厘米IESN081321個Immoblon-PPVDF,0.45μm,7厘米x8.4毫米片材IPVH0785050Immobilon0-pPVDF,0.45μm,8.5厘米x13.5厘米片材IPVH0813010Imobln-pPVDF,0.45μm,8.5cmx10m卷IPVHB5R1個固定8-PPVDF,0.45μm,26.5cmx375cm卷IPVH00010Imobilon-FLPVDF,0.45微WB實驗加速器可同時兼容WB實驗和IHC實驗。

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使用以下符號,并且用戶應(yīng)遵守指示要求:象征定義象征定義警告會提醒您采取以下措施可能會造成人身傷害或造成序列號身體上的威脅。批號閱讀文檔制造商目錄號請勿重復(fù)使用所需但未提供的材料●真空源:泵或其他均勻的真空源,可提供持續(xù)的比較小壓力為410毫巴(12inHg)和34L/min。有關(guān)泵的目錄號,請參閱《訂購信息》。注意:可以使用我們的WP61系列化學(xué)負(fù)荷泵,但可能需要更長的處理時間?!褚簧蚋蟮膸拥谋仄浚ㄓ糜趶U物收集)。Millex@-FAgo過濾器(或等效過濾器)建議在保上海WB實驗加速器的供應(yīng)商。奉賢區(qū)MerckSNAPi.d.2.0加速器WB實驗加速器代理價

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升),慢慢散布整個印跡中的抗體。應(yīng)用至少2.5mL(用于MultBlot),5mL(用于Miniblot)或10mL(用于Midi印跡)抗體??贵w體積低沒有抗體回收盤確保抗體中的孔,回收托盤algn恢復(fù)正確放置戴姆·貝葉'底部的針腳。'處理了兩幀首先對一幀施加真空,然后再對另一幀施加真空,以確保同時在每個框架上施加足夠的真空力。MultiBlot框架用于在MuHBlot框架中進行單點印跡時,放置正確漢克處理一次印跡,然后空白卡在空井。未放入空白卡空井。 規(guī)格方面底座(長x寬x奉賢區(qū)MerckSNAPi.d.2.0加速器WB實驗加速器代理價

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