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來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-08-22

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WB實(shí)驗(yàn)加速器

標(biāo)準(zhǔn)免疫檢測過程中使用)。3.用蓋子蓋住吸墨紙固定架。如果需要的話,將其從底座中移出并在恒定的溫度下孵育顫抖。如果需要過度保溫,建議冷藏。雖然表面上的污點(diǎn)支架可能看起來部分干燥,印跡不會(huì)變干,因?yàn)槿芤喊诳蚣苤?。注意:如果長時(shí)間處理多個(gè)印跡,則可以堆疊印跡固定框架減少工作空間??蛇x:如果要回收一抗,請(qǐng)先將抗體回收盤放入底座,然后再繼續(xù)執(zhí)行步驟4。4.延長孵育時(shí)間后,將框架放回底座上,卸下蓋子,然后按照步驟8進(jìn)行操作。通用議定書第12條。注意:SNAPi.d不需要延長二抗的孵多個(gè)適配器可以用于加速wb實(shí)驗(yàn)WB實(shí)驗(yàn)加速器咨詢報(bào)價(jià)上海益啟生物的加速完成WB實(shí)驗(yàn)和IHC實(shí)驗(yàn)詢價(jià)公司電話。

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下壓框架并施加真空。等待5-8秒,直到框架完全是空的。9.在連續(xù)運(yùn)行真空的情況下,添加30mL洗滌緩沖液(MultiBlot為15毫升)。重復(fù)洗滌步驟3次以上(總共4次洗滌)。當(dāng)框架完全為空時(shí),將TURN真空關(guān)閉。10.在印跡架的表面上涂適量的二抗(對(duì)于多印跡,為2.5mL,5毫升用于迷你印跡,或10毫升用于Midi印跡)。在室溫下孵育10分鐘,然后關(guān)閉真空。同樣,溶液將被吸收到印跡架中,并且表面可能看起來干燥。重要提示:孵育10分鐘后,再抽真空。11.向下壓框架并施加真空。

育時(shí)間。2.0系統(tǒng)。建議使用5倍濃度的二抗,持續(xù)10分鐘??贵w回收1.執(zhí)行《通用議定書》的步驟1至5,但將真空時(shí)間增加到2分鐘,以確保所有的封閉溶液都已從框架的凹槽和通道中移除。2.從底座上取下印跡固定框架,并用一根刷子擦拭框架底部的所有殘留液體。紙巾。3.將抗體收集盤放入底座,確??贵w上的定位孔收集盤與底座中的定位銷對(duì)齊。注意:對(duì)于Mini和Midi框架,將單個(gè)清潔托盤放置在底座的**。對(duì)于多印跡如圖所示,在框架上放置兩個(gè)收集托盤。在MultiBlot框架中運(yùn)行單點(diǎn)印跡時(shí),Merck同時(shí)操作4個(gè)WB實(shí)驗(yàn)加速上海授權(quán)代理商。

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