寧波氣氛爐參考價格

來源: 發(fā)布時間:2024-06-25

無氧干燥箱應用于航空、航天、石油、化工、船舶、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位,主要作BPO膠/PI膠/BCB膠固化,模壓固烤、IC(晶圓、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指紋識別)、FPD、高精密電子元件、電子陶瓷材料無塵烘干,電工產(chǎn)品、材料、零備件等的高溫潔凈和無氧環(huán)境中干燥和老化試驗。下面為大家簡單介紹一下無氧干燥箱。1.技術指標與基本配置:1.1使用溫度:RT~260℃,極限溫度:300℃;1.2爐膛腔數(shù):2個,上下布置;1.3爐膛材料:SUS304鏡面不銹鋼;加熱元件:不銹鋼加熱器;熱偶:K分度1.4溫度和氧含量記錄:無紙記錄儀;2.氧含量(配氧分析儀):2.1高溫狀態(tài)氧含量:≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態(tài)氧含量:≤20ppm+氣源氧含量2.2控溫穩(wěn)定度:1℃;2.3溫度均勻度:2%℃(260℃平臺);合肥真萍告訴您如何正確使用氣氛爐?寧波氣氛爐參考價格

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超高真空烘箱廣泛應用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環(huán)境適應性與可靠性試驗。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的主要技術指標。1.工作室溫度范圍:常溫~+300℃用戶使用溫度260℃2.溫度波動度:±1.0℃(空載);3.溫度偏差:常壓溫度試驗:常溫~200℃時±2℃200~300℃時±5.0℃低氣壓高溫綜合試驗:≤100℃時±2.0℃,100℃~200℃時±5.0℃200℃~300℃時±7.0℃福州箱式氣氛爐合肥真萍科技氣氛爐專業(yè)值得信賴。

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密封性為了控制爐內的氣氛,維持爐內的壓力,爐內工作空間始終要與外界空氣隔絕,盡量避免漏氣和吸入空氣,故要求爐殼,砌體,爐門及所有外界連接零件如風扇,熱電偶,輻射管,推拉料機等采用密封裝置;氣氛控制為了維持爐內的一定碳勢,除了控制氣氛成分的穩(wěn)定性外,還要對爐內氣氛進行自動控制。因此,需要設有各種控制儀表(如圖1),以便對爐內氣氛連續(xù)或定期測定并調整爐內的供氣量。氣氛爐的特點是在某一既定溫度下,向爐內通入一定成分的人工制備氣氛,以達到某種熱處理的目的,如氣體滲碳,碳氮共滲及光亮淬火,退火,正火等。

冷熱沖擊試驗箱具有模擬大氣環(huán)境中溫度變化規(guī)律的功能。主要針對于電工,電子產(chǎn)品,以及其元器件及其它材料在高溫,低溫綜合環(huán)境下運輸,使用時的適應性試驗。用于產(chǎn)品設計,改進,鑒定及檢驗等環(huán)節(jié)。真萍科技作為冷熱沖擊試驗箱設備制造廠商,在冷熱沖擊試驗箱設備制造領域的專業(yè)性是不用多說的。下面讓真萍科技從溫度方面,帶您了解冷熱沖擊試驗箱。一、溫度均勻度舊標準稱均勻度,新標準稱梯度。溫度穩(wěn)定后,在任意時間間隔內,工作空間內任意兩點的溫度平均值之差的較大值。這個指標比下面的溫度偏差指標更可以考核產(chǎn)品的**技術,因此好多公司的樣本及方案刻意隱藏此項。一般標準要求指標為≤2℃。二、溫度偏差溫度穩(wěn)定后,在任意時間間隔內,工作空間中心溫度的平均值和工作空間內其它點的溫度平均值之差。雖然新舊標準對此指標的定義和稱呼相同,但檢測已有所改變,新標準更實際,更苛刻一點,但考核時間短點。一般標準要求指標為±2℃,純高溫試驗箱200℃以上可按實際使用溫度攝氏度(℃)±2%要求。氣氛爐怎么選?合肥真萍科技告訴您。

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冷熱沖擊試驗箱具有模擬大氣環(huán)境中溫度變化規(guī)律。主要針對于電工,電子產(chǎn)品,以及其元器件及其它材料在高溫,低溫綜合環(huán)境下運輸,使用時的適應性試驗。用于產(chǎn)品設計,改進,鑒定及檢驗等環(huán)節(jié)。真萍科技作為冷熱沖擊試驗箱設備制造廠商,在冷熱沖擊試驗箱設備制造領域的專業(yè)性是不用多說的。下面讓真萍科技從溫度方面,帶您了解冷熱沖擊試驗箱。一、溫度均勻度舊標準稱均勻度,新標準稱梯度。溫度穩(wěn)定后,在任意時間間隔內,工作空間內任意兩點的溫度平均值之差的較大值。這個指標比下面的溫度偏差指標更可以考核產(chǎn)品的**技術,因此好多公司的樣本及方案刻意隱藏此項。一般標準要求指標為≤2℃。二、溫度偏差溫度穩(wěn)定后,在任意時間間隔內,工作空間中心溫度的平均值和工作空間內其它點的溫度平均值之差。雖然新舊標準對此指標的定義和稱呼相同,但檢測已有所改變,新標準更實際,更苛刻一點,但考核時間短點。一般標準要求指標為2℃,純高溫試驗箱200℃以上可按實際使用溫度攝氏度(℃)2%要求。合肥真萍科技的優(yōu)勢有哪些呢?聽聽小編為您介紹。福建氣氛爐代理公司

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下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的用途和設計。一、產(chǎn)品介紹真空烤盤爐是與MOCVD設備配套使用的爐體,爐內抽真空,被處理工件放置在爐膛內,采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂層石墨盤或石英盤)上的氮化鎵和氮化鋁等,可達到有效清潔處理,提高制品質量的目的。二、設計特點1.后門設計熱風電機2.降溫時風機開啟,同時兩端降溫封頭開啟,爐膛內產(chǎn)生如圖所示的氣體流向3.通過氣體介質將隔熱層內與水冷壁之間進行熱交換,達到快速降溫的目的寧波氣氛爐參考價格

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