廈門小型網(wǎng)帶爐

來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-02-17

真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤裰饕獞?yīng)用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞,解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線,解決液晶的受潮問題,解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤竦墓耋w規(guī)格、配備。1.左右雙開門,3mm鋼化玻璃,1mm厚不銹鋼板,氣密式隱藏鎖把手。2.柜體密封高吸附力磁性膠條與柜體密閉,腳墊采高承載車輪及調(diào)整高低腳墊。3.附高載重不銹鋼隔板,柜體加裝高載重煞車輪。4.上掀式氣密蓋,方便FFU保養(yǎng)及維修。5.回風(fēng)循環(huán)設(shè)計(jì),單向氮?dú)庋h(huán)不產(chǎn)生紊流。6.背面氣密開門式設(shè)計(jì),方便潔凈清理與保養(yǎng)。網(wǎng)帶爐怎樣挑選比較好?廈門小型網(wǎng)帶爐

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超高真空烘箱被廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項(xiàng)或同時(shí)作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的降溫速率。 1.升溫時(shí)間:①常壓時(shí):90min(常溫~ +260℃) ②低氣壓0.0001pa時(shí):180min(常溫~ +260℃) 2.降溫時(shí)間:3℃~10℃/min(260℃~ 120℃), 1℃~5℃/min(120℃~ 常溫℃) 3.降溫方式:水冷降溫 4.試驗(yàn)箱承壓方式:采用內(nèi)承壓方式 5.壓力范圍:常壓~0.0001Pa常州大型網(wǎng)帶爐上海哪家網(wǎng)帶爐廠家值得信賴?

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隧道爐適用于五金模具、航天航空、納米材料、精密陶瓷、粉末治金、鐵氟龍噴涂、五金、鋰電池、化工、運(yùn)動器材、汽車零配件、電機(jī)、化工、工業(yè)之烘烤、干燥、預(yù)熱回火、退火、老化等用途。下面為大家介紹一下真萍科技隧道爐的技術(shù)參數(shù)。1.送風(fēng)方式:強(qiáng)制送風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)。2.溫度范圍:RT+10℃~300℃。3.溫度精度:±1℃4.溫度均勻性:±1℃5.溫控裝置:富士智能PID溫控儀,LED數(shù)字顯示,PID自動演算及定時(shí)。6.材質(zhì):內(nèi)膽不銹鋼,外箱體鋼板靜電噴塑。7.傳送方式:鏈桿、鏈網(wǎng)、自動錕輪,相當(dāng)強(qiáng)承重。8.特制復(fù)合式電加熱器。9.保護(hù)裝置:漏電保護(hù)、斷路保護(hù)、電機(jī)過載保護(hù)、接地保護(hù)、非正常運(yùn)行情況下蜂鳴報(bào)警。

光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。網(wǎng)帶爐的基本結(jié)構(gòu)級應(yīng)用。

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網(wǎng)帶爐的功能具體介紹!廈門小型網(wǎng)帶爐

下面為大家介紹一下高溫鐘罩爐的結(jié)構(gòu)系統(tǒng)。一、爐體配置爐膛結(jié)構(gòu):采用多晶莫來石材料砌筑而成有效尺寸:φ300×320mm(D×H)設(shè)備重量:約1200Kg外觀顏色:掛板采用高溫噴塑,顏色為江淮藍(lán)外形尺寸:W1300×H2200×D1510(mm),不含(囪、指示燈)二、熱工系統(tǒng)1.額定溫度:1550℃2.限制溫度:1600℃3.加熱元件:U型硅鉬棒4.加熱功率:16kW5.空爐保溫功率≤8kW6.溫區(qū)個(gè)數(shù):1個(gè)7.控溫點(diǎn)數(shù):1點(diǎn)8.熱偶:B分度9.程序精度:±2℃(大于600℃,升溫速率≤3℃/min)10.控溫穩(wěn)定度:±1℃(恒溫平臺)11.爐膛溫度均勻度:±4℃(恒溫1500℃,2h)廈門小型網(wǎng)帶爐