湖南tmc光學(xué)平臺位移

光學(xué)平臺中提到的大相對位移有別于精密位移臺中的相關(guān)概念，通常光學(xué)平臺的大相對位移指標(biāo)，是指在特定的測試條件和環(huán)境中，臺面本身的變形量。比如在一個隔離了外界振動的環(huán)境中，放置負載和空載情況下，通過平面度檢測儀測量臺面的變形。臺面的尺寸，通常取300mm×300mm，負載安置在此面積的中心位置，負載也有一定的要求（比如取114公斤）。光學(xué)平臺的大相對位移值，主要同平臺的結(jié)構(gòu)和材料剛性相關(guān)，在同樣測試條件，且光學(xué)平臺的結(jié)構(gòu)和材料相近的情況下，大相對位移的值相差不大。光學(xué)平臺臺面，采用三層夾心結(jié)構(gòu)，上臺面厚度4～6mm，采用鐵磁不銹鋼材質(zhì)，此時測試的大相對位移，在10-7mm量級，同國外同類產(chǎn)品指標(biāo)相近。光學(xué)平臺構(gòu)成更加堅固、熱穩(wěn)定性更強的平臺產(chǎn)品。湖南tmc光學(xué)平臺位移

使用脈沖錘對平臺或面包板的表面施加一個已測量的外力，并將一個傳感器貼合在平臺或面包板表面對合成振動進行測量。探測器發(fā)出的信號通過分析儀進行讀取，并用于產(chǎn)生頻率響應(yīng)譜（即柔量曲線）。在光學(xué)平臺的研發(fā)過程中，對平臺表面上很多點的柔量曲線進行記錄；但是，平臺四個角上的柔量往往都是大的。因此公司發(fā)布的柔量曲線和數(shù)據(jù)都是通過平傳感器在臺四個角上測得的，因此說明了不理想情況下的數(shù)據(jù)結(jié)果。產(chǎn)品都需經(jīng)過單獨測試，并附帶一份單獨的測試數(shù)據(jù)報告和柔量曲線。湖南tmc光學(xué)平臺位移一套復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)是否穩(wěn)定，在很大程度上取決于光學(xué)平臺和隔振腿的性能。

撓度是指結(jié)構(gòu)構(gòu)件的軸線或中面由于彎曲引起垂直于軸線或中面方向的線位移。對于細長物體或薄物體，撓度是在受力后彎曲變形程度的度量。細長物體（如梁或柱）的撓度是指在變形時其軸線上各點在該點處軸線法平面內(nèi)的位移量。薄板或薄殼的撓度是指中面上各點在該點處中面法線上的位移量。通俗地講，撓度就是構(gòu)件的豎向變形。撓度系數(shù)同剛性系數(shù)、抗拉強度、楊氏彈性模量等類似，是標(biāo)稱材料特性的一個常數(shù)，對于光學(xué)平臺而言，其它因素相同只有厚度不同的情況下，鋼板越厚，撓度越小。

光學(xué)隔振平臺普遍運用于各個領(lǐng)域中，應(yīng)用對系統(tǒng)中不同元件相關(guān)配合精度和穩(wěn)定性提出了極高的要求，那么光學(xué)隔振平臺有哪些特點來滿足使用需求呢？1、優(yōu)異的隔振性能：內(nèi)置精密空氣彈簧隔振系統(tǒng)，具備出色的固有頻率，對多個方向的振動特別是垂直方向有著良好衰減效果，避免外界振動干擾設(shè)備儀器精度，提高儀器設(shè)備使用精度和使用效率。2、光學(xué)隔振平臺能夠滿足精密負載對振動隔離需求，且面向大多數(shù)設(shè)備儀器提供通用化隔振解決方案，改善振動環(huán)境，以發(fā)揮設(shè)備儀器的佳效能。為了改善性能，每種尺寸的平臺和面包板的阻尼效果都需要進行優(yōu)化。

理想的剛性體是不存在的?，F(xiàn)實中的系統(tǒng)只能近似的認(rèn)為是剛性的，因此，其穩(wěn)定性就要受到多方面因素的影響。例如外界的振源，系統(tǒng)的重量，光學(xué)平臺的結(jié)構(gòu)等等。為了提高系統(tǒng)的穩(wěn)定性，我們可以從以下的幾個方面來著手。外界的振源來源很多，比如地面的自振，各種聲音等等。但是影響大的是各種低頻的振源，主要集中在10～100Hz頻率內(nèi)。將系統(tǒng)與這些振源隔離可以有效的提高系統(tǒng)的穩(wěn)定性。采用大阻尼的空氣彈簧支撐方式可以較好的將系統(tǒng)與振源隔離。平臺阻尼需要進行各種測試，對其厚度/面積的比值進行優(yōu)化。湖南tmc光學(xué)平臺位移

光學(xué)平臺包括剛性、無隔振支撐架，被動式隔振支撐架，主動式自動調(diào)平支撐架。湖南tmc光學(xué)平臺位移

光學(xué)實驗平臺的特性為其共振頻率。共振頻率和振幅是負相關(guān)的，因此共振頻率應(yīng)盡可能地增大，從而將振動強度小化。平臺和面包板會在一個特定的頻率范圍內(nèi)發(fā)生振動。為了改善性能，每種尺寸的平臺和面包板的阻尼效果都需要進行優(yōu)化。平臺阻尼需要進行各種測試，對其厚度/面積的比值進行優(yōu)化。更大面積的平臺（邊長至少為10英尺或3米）具有厚度為12.2英寸（310毫米）的標(biāo)準(zhǔn)厚度，這樣可以提高穩(wěn)定性。對于更小面積的平臺，厚度可以是8.3英寸（210毫米）或12.2英寸（310毫米），也可定制更大尺寸。湖南tmc光學(xué)平臺位移