黑龍江超高速灰度光刻技術(shù)3D打印

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-08-12

微納3D打印其實(shí)和與灰度光刻有點(diǎn)相似,但是原理不同,我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu),不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)(如下圖5所示),該方法的優(yōu)勢(shì)是可以完全按照設(shè)計(jì)獲得想要的結(jié)構(gòu),對(duì)于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu),我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,但是對(duì)于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進(jìn)行后續(xù)的復(fù)制工作,并通過納米壓印技術(shù)進(jìn)行復(fù)制?;叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻)或者計(jì)算機(jī)控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透,而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)(如下圖4所示,八邊金字塔結(jié)構(gòu))。微透鏡陣列也是類似,可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。需要注意,灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多,約為Ra=100nm,前兩者可以會(huì)的Ra=50nm的球面。在灰度光刻技術(shù)的幫助下,芯片制造商可以更好地滿足不斷增長(zhǎng)的市場(chǎng)需求。黑龍江超高速灰度光刻技術(shù)3D打印

黑龍江超高速灰度光刻技術(shù)3D打印,灰度光刻

來自不來梅大學(xué)微型傳感器、致動(dòng)器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學(xué)家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式,使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng),利用雙光子聚合原理(2PP)結(jié)合光刻技術(shù),將自由形式3D微流控混合元件集成到預(yù)制的晶圓級(jí)二維微流道中。該微型混合器可以處理高達(dá)100微升/分鐘的高流速樣品,適用于藥物和納米顆粒制造,快速化學(xué)反應(yīng)、生物學(xué)測(cè)量和分析藥物等各種不同應(yīng)用。事實(shí)上,雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的,其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時(shí)這個(gè)實(shí)驗(yàn)室在nature上發(fā)表的一篇工作,也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動(dòng):《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices:Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,這篇文獻(xiàn)中還進(jìn)行了另外一個(gè)更厲害的工作(畢竟科學(xué)家不是藝術(shù)家,不是做的好看就行了)。天津雙光子灰度光刻技術(shù)灰度光刻技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)高分辨率的微納米結(jié)構(gòu)制造,滿足日益增長(zhǎng)的微電子和光電子器件對(duì)精確結(jié)構(gòu)的需求。

黑龍江超高速灰度光刻技術(shù)3D打印,灰度光刻

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨(dú)jia專li的雙光子灰度光刻技術(shù)。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。德國(guó)Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會(huì)展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX,并榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng)。該系統(tǒng)是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL?)的精密加工微納米打印系統(tǒng),可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué)。該系統(tǒng)的面世表示著Nanoscribe已進(jìn)軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域。具有全自動(dòng)化系統(tǒng)的QuantumX無論從外形或者使用體驗(yàn)上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求。

Nanoscribe成立于2007年,憑借著爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司(CarlZeissAG)的支持,經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長(zhǎng)成為了現(xiàn)在世界公認(rèn)的微納米加工技術(shù)和3D打印市場(chǎng)的帶領(lǐng)者,并于2017年在上海成立分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。公司主要產(chǎn)品有基于雙光子聚合技術(shù)(Two-PhotonPolymerization)并擁有多項(xiàng)國(guó)際專項(xiàng)的雙光子微納3D打印系統(tǒng)PhotonicProfessionalGT2。全球頭一臺(tái)工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻(2GL®)微納打印設(shè)備QuantumX受到普遍關(guān)注并被眾多高學(xué)府和高科技單位所采用,例如哈佛大學(xué),牛津大學(xué)等出名的院校,華為公司等??蓱?yīng)用于微納機(jī)器人,再生醫(yī)學(xué)工程,微納光學(xué),力學(xué)超材料等不同領(lǐng)域。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶您了解目前灰度光刻技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀。

黑龍江超高速灰度光刻技術(shù)3D打印,灰度光刻

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,以實(shí)現(xiàn)對(duì)原始表面的精確成像一直是一個(gè)重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術(shù),其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級(jí),并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,以及非常普遍的材料-基板選擇。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您揭秘什么是雙光子灰度光刻系統(tǒng)。高精度灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您詳細(xì)講解灰度光刻技術(shù)。黑龍江超高速灰度光刻技術(shù)3D打印

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型。基于雙光子聚合技術(shù),該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型,同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?;a(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào),該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑,同時(shí)保持高精度的形狀控制。黑龍江超高速灰度光刻技術(shù)3D打印