內(nèi)蒙古微納米雙光子聚合微納加工系統(tǒng)

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)?。雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的。內(nèi)蒙古微納米雙光子聚合微納加工系統(tǒng)

QuantumXshape技術(shù)特點概要：快速原型制作，高精度，高設(shè)計自由度，簡易明了的工程流程；工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn)；200個標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量；通用及專門使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。歡迎咨詢上海亞微米級雙光子聚合激光直寫雙光子聚合技術(shù)運用在哪些地方你了解嗎？歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。

    雙光子聚合技術(shù)是一種高精度、高效率的微納加工技術(shù)，具有以下優(yōu)勢特點：高精度和高分辨率：雙光子聚合技術(shù)可以實現(xiàn)亞微米甚至納米級的分辨率，使得制造出的微納結(jié)構(gòu)更加精細(xì)。這是因為它利用雙光子吸收過程，將激光束聚焦到非常小的體積內(nèi)，從而實現(xiàn)了高精度的加工。三維加工能力：由于雙光子聚合技術(shù)可以在聚合物體積內(nèi)部進(jìn)行光刻，因此可以實現(xiàn)復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)制造，如微型光學(xué)元件、微流體芯片等。這一特點使得它在微納制造領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。無需光掩膜：傳統(tǒng)的光刻技術(shù)需要使用光掩膜進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移，而雙光子聚合技術(shù)可以直接通過計算機(jī)控制激光束的位置和強(qiáng)度來實現(xiàn)圖案的制造，無需光掩膜。這不僅降低了制造成本，還縮短了制造周期。材料多樣性：雙光子聚合技術(shù)可以使用各種不同類型的光敏樹脂作為加工材料，從而可以制造出各種不同性質(zhì)和功能的微納結(jié)構(gòu)。這為微納制造提供了更多的選擇和靈活性。高效加工速度：雙光子聚合技術(shù)具有較高的加工速度，可以在短時間內(nèi)制造出復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)。這使得它在工業(yè)生產(chǎn)中具有較高的效率和競爭力。易于控制和修改：雙光子聚合的加工環(huán)境和參數(shù)易于控制，可以輕松修改得到所需的結(jié)構(gòu)。

Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程，實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。

Nanoscribe中國分公司-納糯三維邀您一起探討國內(nèi)在雙光子聚合技術(shù)領(lǐng)域的進(jìn)展。

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。Nanoscribe是德國高精度雙光子聚合微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商。上海亞微米級雙光子聚合激光直寫

非接觸式加工：雙光子聚合是一種非接觸式加工技術(shù)，避免了加工過程中的機(jī)械損傷。內(nèi)蒙古微納米雙光子聚合微納加工系統(tǒng)

雙光子聚合3D打印技術(shù)的發(fā)展也面臨一些挑戰(zhàn)。首先，材料選擇和性能仍然是一個問題。目前可用的光敏樹脂材料種類有限，無法滿足所有需求。其次，打印速度和成本也是制約技術(shù)發(fā)展的因素。雖然雙光子聚合3D打印技術(shù)比傳統(tǒng)技術(shù)更快，但仍然需要進(jìn)一步提高效率和降低成本。然而，隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和創(chuàng)新，雙光子聚合3D打印技術(shù)有望在未來取得更大的突破?？蒲腥藛T正在不斷探索新的材料和打印方法，以提高打印質(zhì)量和效率。同時，企業(yè)也加大了對該技術(shù)的支持和投入，推動其在各個領(lǐng)域的應(yīng)用。雙光子聚合3D打印技術(shù)是一項具有巨大潛力的創(chuàng)新科技。它將為制造業(yè)帶來的變革，推動產(chǎn)品設(shè)計和制造的發(fā)展。我們有理由相信，在不久的將來，雙光子聚合3D打印技術(shù)將成為制造業(yè)的主流技術(shù)，為我們帶來更加美好的未來。內(nèi)蒙古微納米雙光子聚合微納加工系統(tǒng)