上海微納光刻3D打印微納加工系統(tǒng)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-07-29

這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無(wú)掩模光刻產(chǎn)品,名為3D無(wú)掩模光刻。無(wú)論您是進(jìn)行科學(xué)研究還是制作工業(yè)手板,這款產(chǎn)品都能滿足您的需求。它不僅高效,而且精度非常高,能夠適用于多種尺度和多種應(yīng)用領(lǐng)域,極大地節(jié)省了加工時(shí)間。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型,無(wú)論您是在微觀尺度還是宏觀尺度進(jìn)行制作。如果您想要在科學(xué)研究或工業(yè)生產(chǎn)中得到更好的效果,3D無(wú)掩模光刻是您的比較好選擇。它能夠?yàn)槟?jié)省時(shí)間和精力,讓您專注于更重要的事情。立即購(gòu)買(mǎi),體驗(yàn)高效、高精度的3D無(wú)掩模光刻吧!Nanoscribe是世界排名在前的納米制造和精密制造用高精度3D 打印機(jī)制造商。上海微納光刻3D打印微納加工系統(tǒng)

上海微納光刻3D打印微納加工系統(tǒng),3D打印

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進(jìn)行直寫(xiě),而是在孔型支架內(nèi)。通過(guò)調(diào)整直寫(xiě)激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)(通過(guò)激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí),對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過(guò)0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示)。通過(guò)色散透鏡聚焦的光因波長(zhǎng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同。通過(guò)組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中,成像中的熒光強(qiáng)度和折射率高度相關(guān),同時(shí)將打印的雙透鏡中的每個(gè)單獨(dú)透鏡可視化德國(guó)微納米3D打印三維微納米加工系統(tǒng)把3D打印做大很難,做小同樣也不容易,這兩個(gè)方向都蘊(yùn)含著大量的創(chuàng)新機(jī)會(huì)。

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雙光子聚合(2PP)是一種可實(shí)現(xiàn)比較高精度和完全設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)QuantumXshape具有下列優(yōu)異性能:首先,在所有空間方向上低至100納米的特征尺寸控制,適用于納米和微米級(jí)打??;其次制作高達(dá)50毫米的目標(biāo)結(jié)構(gòu),適用于中尺度打印。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,同時(shí)還離不開(kāi)工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái)。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制,可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度,并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率。QuantumXshape帶有獨(dú)特的自動(dòng)界面查找功能,可以以低至30納米的精度檢測(cè)基板表面。這種在比較高掃描速度下的納米級(jí)精度體現(xiàn),再加上自校準(zhǔn)程序,可在特別短的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)可靠和準(zhǔn)確的打印,為3D微納加工樹(shù)立了新榜樣。這些優(yōu)異的性能使QuantumXshape成為快速原型制作和應(yīng)用于微納光學(xué)、微流體、材料表面工程、MEMS等其他領(lǐng)域中晶圓級(jí)規(guī)模生產(chǎn)的理想工具。

為了進(jìn)一步提升技術(shù)先進(jìn)性,科研人員又在新材料研發(fā)的過(guò)程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力。一方面,利用SCRIBE新技術(shù)的情況下,高折射率的光刻膠可進(jìn)一步拓展對(duì)打印結(jié)構(gòu)的光學(xué)性能的調(diào)節(jié)度。另一方面,低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領(lǐng)域。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠,例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經(jīng)為接下來(lái)的研究提供了進(jìn)一步的可能。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示)基于微納尺度的3D打印技術(shù),可定制設(shè)計(jì)光學(xué)性能優(yōu)異、超高精度、超薄尺度的透鏡。

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作為微納加工和3D打印領(lǐng)域的帶領(lǐng)者,Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域,諸如力學(xué)超材料,微納機(jī)器人,再生醫(yī)學(xué)工程,微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國(guó)子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強(qiáng)了全球銷售活動(dòng),并完善了亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺(jué)效果上更清晰,結(jié)構(gòu)分類上更明確。首頁(yè)導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息,產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫(kù),公司資訊和技術(shù)支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對(duì)信息的了解和需求。Nanoscribe中國(guó)子公司總經(jīng)理崔博士表示:“中文網(wǎng)站的發(fā)布是件值得令人高興的事情,我們希望新的中文網(wǎng)站能讓我們的中國(guó)客戶無(wú)需顧慮語(yǔ)言障礙,更全方面深入得了解我們的產(chǎn)品以及在科研和工業(yè)方面的應(yīng)用?!蔽⒓{3D打印和“傳統(tǒng)”3D打印的主要區(qū)別在于,微納3D打印能達(dá)到“傳統(tǒng)”3D打印無(wú)法達(dá)到的高精度。北京2GL3D打印系統(tǒng)

納糯三維科技(上海)有限公司Nanoscribe供應(yīng)高精度微納3D打印系統(tǒng)系列產(chǎn)品。上海微納光刻3D打印微納加工系統(tǒng)

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹(shù)脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制,自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。上海微納光刻3D打印微納加工系統(tǒng)