高分辨率Nanoscribe微機械

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實現(xiàn)具有特定光子，機械，生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。

Nanoscribe秉持著卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術(shù)背景，已然成為微納米生產(chǎn)領(lǐng)域的領(lǐng)導企業(yè)。高分辨率Nanoscribe微機械

   Nanoscribe設(shè)備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分流體光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面，GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對其應(yīng)用定制的多組物鏡，基板，材料和自動化流程。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程，用于制作單個元素。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度，滿足智能手機行業(yè)中微透鏡或細胞生物學中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求。

廣東微納米Nanoscribe微納光刻更多有關(guān)3D雙光子無掩模光刻技術(shù)和產(chǎn)品咨詢，歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商，也是 BICO集團（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D 打印機，用于制造微納米級的精細結(jié)構(gòu)。據(jù)該公司稱，新的Quantum X 形狀加入了該公司屢獲殊榮的Quantum X產(chǎn)品線，其晶圓處理能力使“3D 微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統(tǒng) (MEMS) 應(yīng)用的精度、輸出和可用性?；陔p光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設(shè)計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù)，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu)，在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機器為科學和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設(shè)定新標準?！半m然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動了平面微光學器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)?！?/strong>

Nanoscribe首屆線上用戶大會于九月順利召開，在微流控研究中，通常在針對微流控器件和芯片的快速成型制作中會結(jié)合不同制造方法。亞琛工業(yè)大學（RWTHUniversityofAachen）和不來梅大學（UniversityofBremen）的研究小組提出將三維結(jié)構(gòu)的芯片結(jié)構(gòu)打印到預(yù)制微納通道中。生命科學研究的驅(qū)動力是三維打印模擬人類細胞形狀和大小的支架，以推動細胞培養(yǎng)和組織工程學。丹麥技術(shù)大學(DTU)和德國于利希研究中心的研究團隊展示了他們的成就，并強調(diào)了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性。在微納光學和光子學研究中，布魯塞爾自由大學的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導等解決方案

Nanoscribe的2PP技術(shù)可用于構(gòu)造包含不同規(guī)模結(jié)構(gòu)的聚合物母版。

作為微納加工和3D打印領(lǐng)域的帶領(lǐng)者，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領(lǐng)域，諸如力學超材料，微納機器人，再生醫(yī)學工程，微光學等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動，并完善了亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺效果上更清晰，結(jié)構(gòu)分類上更明確。首頁導航欄包括了產(chǎn)品信息，產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫，公司資訊和技術(shù)支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經(jīng)理崔博士表示：“中文網(wǎng)站的發(fā)布是件值得令人高興的事情，我們希望新的中文網(wǎng)站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙，更全方面深入得了解我們的產(chǎn)品以及在科研和工業(yè)方面的應(yīng)用?！?nbsp;更多有關(guān)3D打印的技術(shù)和產(chǎn)品咨詢 ，歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技（上海）有限公司。TPPNanoscribeQuantum X shape

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)。高分辨率Nanoscribe微機械

Nanoscribe稱，Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。  高分辨率Nanoscribe微機械