江蘇工業(yè)級(jí)無掩膜光刻設(shè)備

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-07-16

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。無掩膜光刻技術(shù)正成為微電子行業(yè)的重要支柱。江蘇工業(yè)級(jí)無掩膜光刻設(shè)備

江蘇工業(yè)級(jí)無掩膜光刻設(shè)備,無掩膜光刻

Nanoscribe公司成立于2007年,總部位于德國卡爾斯魯厄,秉持著卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的技術(shù)背景的德國卡爾蔡司公司的支持,經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長,已然成為微納米生產(chǎn)的帶領(lǐng)者,一直致力于推動(dòng)諸如力學(xué)超材料,微納機(jī)器人,再生醫(yī)學(xué)工程,微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案。如今,Nanoscribe客戶遍布全球30個(gè)國家,超過1500名用戶正在使用Nanoscribe3D打印系統(tǒng)。這些大學(xué)包含哈佛大學(xué)、加州理工學(xué)院、牛津大學(xué)、倫敦帝國理工學(xué)院和蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院等等。為了拓展并加強(qiáng)中國及亞太地區(qū)的銷售推廣和售后服務(wù)范圍,Nanoscribe于2017年底在上海成立了獨(dú)資子公司-納糯三維科技(上海)有限公司。自Nanoscribe進(jìn)軍中國市場以來,已有20多家出名大學(xué)和研究所成為了Nanoscribe用戶,其中包括多所C9前列高校聯(lián)盟成員,例如:北京大學(xué),復(fù)旦大學(xué),南京大學(xué)等等。北京超高速無掩膜光刻技術(shù)適用于微米和納米級(jí)別的加工要求。這是因?yàn)樗褂脭?shù)字圖案,可以獲得更高的分辨率和更精確的圖案。

江蘇工業(yè)級(jí)無掩膜光刻設(shè)備,無掩膜光刻

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型?;陔p光子聚合技術(shù),該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型,同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?;a(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑,同時(shí)保持高精度的形狀控制。

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),微流體,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作快速交付:由于省去了掩膜制作的時(shí)間和成本,無掩膜光刻技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)快速交付,更好地滿足客戶的緊急需求。

江蘇工業(yè)級(jí)無掩膜光刻設(shè)備,無掩膜光刻

全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),微流體,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng),非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,同時(shí)還離不開工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái)。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制,可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度,并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率??梢愿鶕?jù)不同需求進(jìn)行快速的圖案設(shè)計(jì)和修改,無需制作復(fù)雜的掩膜板。浙江高分辨率無掩膜光刻PPGT

德國Nanoscribe雙光子無掩模光刻微納技術(shù)你想了解嗎?歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。江蘇工業(yè)級(jí)無掩膜光刻設(shè)備

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),微流體,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng),非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。江蘇工業(yè)級(jí)無掩膜光刻設(shè)備