江蘇Nanoscribe3D微納加工

為了進(jìn)一步提升技術(shù)先進(jìn)性，科研人員又在新材料研發(fā)的過程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力。一方面，利用SCRIBE新技術(shù)的情況下，高折射率的光刻膠可進(jìn)一步拓展對(duì)打印結(jié)構(gòu)的光學(xué)性能的調(diào)節(jié)度。另一方面，低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領(lǐng)域。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠，例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經(jīng)為接下來的研究提供了進(jìn)一步的可能。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點(diǎn)位置也不盡相同。Nanoscribe是一家**的增材制造技術(shù)公司，專注于高精度的微納米級(jí)3D打印技術(shù)。江蘇Nanoscribe3D微納加工

   Nanoscribe設(shè)備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計(jì)用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分流體光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米。另一方面，GT2現(xiàn)在可以在短時(shí)間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對(duì)其應(yīng)用定制的多組物鏡，基板，材料和自動(dòng)化流程。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程，用于制作單個(gè)元素。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度，滿足智能手機(jī)行業(yè)中微透鏡或細(xì)胞生物學(xué)中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求德國德國Nanoscribe三維光刻N(yùn)anoscribe的3D打印設(shè)備具有高度靈活性和可定制性，能夠滿足不同行業(yè)的需求。

Nanoscribe雙光子光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)在光子芯表面進(jìn)行打印 。光子芯片上的光學(xué)元件的精確對(duì)準(zhǔn)，例如作為光子封裝的光學(xué)互連，是通過共聚焦單元提供的高分辨率3D拓?fù)溆成鋵?shí)現(xiàn)的。在nanoPrintX軟件中，您可以將芯片布局和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記添加到打印作業(yè)中，打印系統(tǒng)會(huì)檢測標(biāo)記并將其與打印作業(yè)進(jìn)行匹配，以確定光子芯片波導(dǎo)的確切位置和方向。這確保了基于原理的2PP微納加工系統(tǒng)能實(shí)現(xiàn)微光學(xué)元件和光學(xué)互連具有比較好的光學(xué)性能的同時(shí)擁有**小耦合損耗，通過自由空間微光學(xué)耦合（FSMOC）實(shí)現(xiàn)高效的光耦合，成為光子封裝的強(qiáng)大解決方案。

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計(jì)來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子，機(jī)械，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說，在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。 想要了解增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別，請(qǐng)咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。

光學(xué)元件如何對(duì)準(zhǔn)并打印到光子芯片上？打印對(duì)象的 3D 對(duì)準(zhǔn)技術(shù)是基于具有高分辨率 3D 拓?fù)淅L制的共聚焦單元。 為了精確對(duì)準(zhǔn)光子芯片上的光學(xué)元件，智能軟件算法會(huì)自動(dòng)識(shí)別預(yù)定義的標(biāo)記和拓?fù)涮卣鳎源_定芯片上波導(dǎo)的確切位置和方向。 然后將虛擬坐標(biāo)系設(shè)置到波導(dǎo)的出口，使其光軸和方向完美對(duì)準(zhǔn)。 根據(jù)該坐標(biāo)系打印的光學(xué)元件可確保好的光學(xué)質(zhì)量并比較大限度地減少耦合損耗。 該項(xiàng)技術(shù)可以利用自由空間微光耦合 (FSMOC) 實(shí)現(xiàn)高效的光耦合 。 詳情咨詢納糯三維科技（上海）有限公司高效能能源器件，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。湖南雙光子Nanoscribe

增材制造技術(shù)具有高的堅(jiān)固性，穩(wěn)定性，耐用性。江蘇Nanoscribe3D微納加工

Nanoscribe稱，Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。 江蘇Nanoscribe3D微納加工