浙江增材制造系統(tǒng)

 3D打印高性能增材制造技術(shù)擺脫了模具制造這一明顯延長研發(fā)時間的關(guān)鍵技術(shù)環(huán)節(jié)，兼顧高精度、高性能、高柔性，可以快速制造結(jié)構(gòu)十分復(fù)雜的零件，為先進(jìn)科研事業(yè)速研發(fā)提供了有力的技術(shù)手段。在微光學(xué)領(lǐng)域，Nanoscribe表示，其3D打印解決方案“破壞和打破以前復(fù)雜的工作流程，克服了長期的設(shè)計限制，并實(shí)現(xiàn)了先進(jìn)的微光驅(qū)動的前所未有的應(yīng)用。 換句話說，Photonic Professional GT系列與您的平均3D打印機(jī)不同，因此可用于創(chuàng)建在其他機(jī)器上無法生產(chǎn)的功能性光學(xué)產(chǎn)品。該系列與正確的材料和工藝相結(jié)合，據(jù)稱允許用戶“直接制造具有比標(biāo)準(zhǔn)制造方法，高形狀精度和光學(xué)平滑表面幾何約束的聚合物微光學(xué)部件”。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解增材制造技術(shù)的作用。浙江增材制造系統(tǒng)

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。廣東進(jìn)口增材制造激光直寫根據(jù)ASTM標(biāo)準(zhǔn) ,增材制造又稱為3D打印或快速成型。

3D打印公司Nanoscribe早期是德國卡爾斯魯厄理工學(xué)院的分支機(jī)構(gòu)，自此成為全球市場的高精度，微型3D打印技術(shù)和微光解決方案的提供商。德國3D打印公司Nanoscribe正在使用其Photonic Professional GT 3D打印機(jī)來制造包括標(biāo)準(zhǔn)折射微光學(xué)，自由光學(xué)元件，衍射光學(xué)元件和多透鏡系統(tǒng)在內(nèi)的微光學(xué)形狀。德國增材制造公司表示，“將 3D打印技術(shù) 與用戶友好的軟件和創(chuàng)新材料相結(jié)合，導(dǎo)致可重復(fù)的精益流程”，使客戶能夠“克服當(dāng)前的技術(shù)障礙”。 Nanoscribe使用其Photonic Professional GT 3D打印機(jī)，近期展示了如何使用雙光子聚合工藝生產(chǎn)各種微光學(xué)形狀。

談到增材制造技術(shù)（俗稱3D打印技術(shù)）估計很多人并不陌生，但是說到增材制造技術(shù)的應(yīng)用，可能大部分人還只停在以下兩個階段：1)原型制造，即通過樹脂、塑料等非金屬材料打印的概念原型與功能原型。其中概念原型用于展示產(chǎn)品設(shè)計的整體概念、立體形態(tài)和布局安排，功能原型則用于優(yōu)化產(chǎn)品的設(shè)計，促進(jìn)新產(chǎn)品的開發(fā)，如檢查產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)設(shè)計，模擬裝配、裝配干涉檢驗(yàn)等。2)間接制造，即通過3D打印技術(shù)完成工、模具制造，再采用3D打印工模具進(jìn)行零件的制造。增材制造可實(shí)現(xiàn)個性化定制生產(chǎn)。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高如需了解增材制造的信息，請咨詢咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。海南MEMS增材制造微納加工系統(tǒng)

想要了解增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別，請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司哦。浙江增材制造系統(tǒng)

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。光學(xué)和光電組件的小型化對于實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應(yīng)用至關(guān)重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計會有分辨率不足和光學(xué)質(zhì)量表面不達(dá)標(biāo)的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術(shù)不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預(yù)先設(shè)計的圖案和拓?fù)渖暇_地直接打印復(fù)雜結(jié)構(gòu)，包括光子集成電路，光纖頂端和預(yù)制晶片等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合，從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn)浙江增材制造系統(tǒng)