德國(guó)2PP灰度光刻技術(shù)

Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及非常廣的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中，超過1,000個(gè)開創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解灰度光刻的特點(diǎn)和應(yīng)用。德國(guó)2PP灰度光刻技術(shù)

灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計(jì)算機(jī)控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)（如下圖4所示，八邊金字塔結(jié)構(gòu)）。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。需要注意，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多，約為Ra=100nm，前兩者可以會(huì)的Ra=50nm的球面。微納3D打印其實(shí)和與灰度光刻有點(diǎn)相似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù)，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu)，不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢(shì)是可以完全按照設(shè)計(jì)獲得想要的結(jié)構(gòu)，對(duì)于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu)，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對(duì)于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進(jìn)行后續(xù)的復(fù)制工作，并通過納米壓印技術(shù)進(jìn)行復(fù)制。廣東灰度光刻無掩光刻N(yùn)anoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說，在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn)，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。

微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見組件，具有較強(qiáng)的聚焦和成像能力。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個(gè)平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu)，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個(gè)平面物體聚焦至1個(gè)像平面上，會(huì)產(chǎn)生場(chǎng)曲。在商業(yè)生產(chǎn)中，為了消除場(chǎng)曲這種光學(xué)像差，只能在后續(xù)光路中引入場(chǎng)鏡組來進(jìn)行校正，從而增加了器件復(fù)雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設(shè)計(jì)一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場(chǎng)曲。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術(shù)的應(yīng)用。

    Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的子公司，開發(fā)并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機(jī)以及光敏材料和工藝解決方案。其口號(hào)是：“我們讓小物件變得重要”，公司創(chuàng)始人開發(fā)出一種技術(shù)，對(duì)智能手機(jī)、手持設(shè)備和醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域至關(guān)重要的3D打印產(chǎn)品。通過基于雙光子聚合（2PP）的3D打印機(jī)投入市場(chǎng)，他們已經(jīng)為全球的大學(xué)和新興行業(yè)提供了新的解決方案，致力于3D微打印生命科學(xué)研究以及納米級(jí)3D打印光學(xué)，甚至利用他們的技術(shù)來開發(fā)創(chuàng)新的設(shè)備，例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對(duì)當(dāng)今的無掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制，提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作?！凹{米標(biāo)記系統(tǒng)基于雙光子吸收，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發(fā)劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強(qiáng)度非常高。 Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您詳細(xì)講解灰度光刻技術(shù)。江蘇2PP灰度光刻技術(shù)3D打印

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作為歐盟光子計(jì)算項(xiàng)目PHOENICS（2020Horizont歐盟地平線科研項(xiàng)目）的成員，Nanoscribe攜手德國(guó)明斯特大學(xué)，與全球光子計(jì)算領(lǐng)域的**一起，展開了為期四年的科研項(xiàng)目，以實(shí)現(xiàn)超高寬帶的高能效千兆計(jì)算處理能力，用于新一代人工智能（AI）應(yīng)用的計(jì)算平臺(tái)。Nanoscribe將為光子封裝技術(shù)開發(fā)新的硬件和軟件解決方案。各種不同光子平臺(tái)都有著不同類型的光子耦合接口，而這正是光子封裝系統(tǒng)工業(yè)化的主要困難和挑戰(zhàn)。雙光子無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX作為硬件載體框架，并計(jì)劃建立一個(gè)先進(jìn)的平臺(tái)，成為下一代光子封裝技術(shù)的行業(yè)榜樣。德國(guó)2PP灰度光刻技術(shù)

納糯三維科技（上海）有限公司是一家有著雄厚實(shí)力背景、信譽(yù)可靠、勵(lì)精圖治、展望未來、有夢(mèng)想有目標(biāo)，有組織有體系的公司，堅(jiān)持于帶領(lǐng)員工在未來的道路上大放光明，攜手共畫藍(lán)圖，在上海市等地區(qū)的儀器儀表行業(yè)中積累了大批忠誠(chéng)的客戶粉絲源，也收獲了良好的用戶口碑，為公司的發(fā)展奠定的良好的行業(yè)基礎(chǔ)，也希望未來公司能成為*****，努力為行業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展奉獻(xiàn)出自己的一份力量，我們相信精益求精的工作態(tài)度和不斷的完善創(chuàng)新理念以及自強(qiáng)不息，斗志昂揚(yáng)的的企業(yè)精神將**納糯三維科技供應(yīng)和您一起攜手步入輝煌，共創(chuàng)佳績(jī)，一直以來，公司貫徹執(zhí)行科學(xué)管理、創(chuàng)新發(fā)展、誠(chéng)實(shí)守信的方針，員工精誠(chéng)努力，協(xié)同奮取，以品質(zhì)、服務(wù)來贏得市場(chǎng)，我們一直在路上！