湖北高分辨率無(wú)掩膜光刻無(wú)掩膜激光直寫

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-07-29

全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細(xì)加工。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級(jí)衍射光學(xué)元件的傳統(tǒng)制作工藝。全球較早雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動(dòng)的雙光子聚合技術(shù)結(jié)合起來(lái)。QuantumX提供了完全的設(shè)計(jì)自由度、高速的打印效率、以及增材制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度??焖?、準(zhǔn)確的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計(jì)迭代周期,實(shí)現(xiàn)了低成本的微納加工。憑借著獨(dú)有的產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)Nanoscribe新發(fā)布的QuantumX在2019慕尼黑光博會(huì)展(LASERWorldofPhotonics2019)榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng)。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)未來(lái)的發(fā)展趨勢(shì)。湖北高分辨率無(wú)掩膜光刻無(wú)掩膜激光直寫

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高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn),您可以進(jìn)行幾乎任何形狀,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì)。另外,Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。北京2GL無(wú)掩膜光刻設(shè)備想要了解更多Nanoscribe 3D無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)信息,敬請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維。

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Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù),為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù)。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù),為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù)。它的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),結(jié)合具備生物兼容特點(diǎn)的光敏樹脂和生物材料,開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu),適用于生命科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用,如設(shè)計(jì)和定制微型生物醫(yī)學(xué)設(shè)備的原型制作。借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像,適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用(lab-on-a-chip)。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來(lái)研究細(xì)胞生長(zhǎng)、遷移和干細(xì)胞分化。此外,3D微納加工技術(shù)還可以應(yīng)用在微創(chuàng)手術(shù)的生物醫(yī)學(xué)儀器,包括植入物,微針和微孔膜等制作。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復(fù)合物,或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究?jī)x器和多用戶設(shè)施。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討無(wú)掩膜光刻技術(shù)。

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QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型?;陔p光子聚合技術(shù),該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型,同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?;a(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào),該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑,同時(shí)保持高精度的形狀控制。Nanoscribe的Photonic Professional GT2提供世界上特別高分辨率的3D無(wú)掩模光刻技術(shù)。北京2GL無(wú)掩膜光刻設(shè)備

無(wú)掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術(shù),即采用電子束直接在硅片上制作出需要的圖形。湖北高分辨率無(wú)掩膜光刻無(wú)掩膜激光直寫

中國(guó)生產(chǎn)型正面臨百年未有之大變局,行業(yè)行家認(rèn)為,中美貿(mào)易戰(zhàn)不會(huì)有終點(diǎn),中美關(guān)系時(shí)好時(shí)壞將成為常態(tài),儀器儀表行業(yè)無(wú)法排除大局勢(shì)的影響,且不要把問(wèn)題聚焦在關(guān)稅上。中國(guó)經(jīng)濟(jì)的高速發(fā)展得益于WTO框架下的全球化分工;現(xiàn)在中國(guó)制造的競(jìng)爭(zhēng)力在于工業(yè)門類齊全、供應(yīng)鏈完整、供應(yīng)鏈的高度專業(yè)和細(xì)分。隨著網(wǎng)絡(luò)消費(fèi)的不斷遞增,而互聯(lián)網(wǎng)的商業(yè)價(jià)值不斷被挖掘出來(lái),呈爆發(fā)式增長(zhǎng),傳統(tǒng)的營(yíng)銷模式將逐步被取代。外商獨(dú)資企業(yè)企業(yè)要抓住機(jī)遇,融入到互聯(lián)網(wǎng)發(fā)展的行業(yè)中,為行業(yè)的發(fā)展提高競(jìng)爭(zhēng)力。隨著中國(guó)的不斷進(jìn)步,世界上只有一個(gè)救世主——市場(chǎng),能救企業(yè)的只有你自己——自強(qiáng),提高生產(chǎn)型重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力才是中國(guó)制造業(yè)的獨(dú)一出路。以顯微科學(xué)儀器行業(yè)的發(fā)展與變化為例,以親身的實(shí)踐為例,毛磊認(rèn)為,隨著經(jīng)濟(jì)的不斷發(fā)展,我國(guó)的環(huán)境和實(shí)力都發(fā)生了巨大變化,有了完全不同的基礎(chǔ),這為國(guó)產(chǎn)科學(xué)儀器走向高階水平增強(qiáng)了信心。我們必須承認(rèn),在科學(xué)儀器上,我們跟其他地區(qū)相比,還有很大的差距。這個(gè)差距,就是我們提升的空間。合相關(guān)部門、大學(xué)和企業(yè)之力,中國(guó)的生產(chǎn)型必將在不遠(yuǎn)的將來(lái),在相關(guān)領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究和重點(diǎn)光學(xué)部件研發(fā)上取得突破,產(chǎn)品進(jìn)入世界中高階水平,企業(yè)得到臺(tái)階式上升,迎頭趕上,與全球出名企業(yè)并駕齊驅(qū)。湖北高分辨率無(wú)掩膜光刻無(wú)掩膜激光直寫