合肥電鍍銅后綴

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-01-23

銅電鍍是一種非接觸式的電極金屬化技術(shù),在基體金屬表面通過(guò)電解方法沉積金屬銅制作銅柵線(xiàn),收集光伏效應(yīng)產(chǎn)生的 載流子。為解決電鍍銅與透明導(dǎo)電薄膜(TCO)之間的接觸與附著性問(wèn)題,需先 使用 PVD 設(shè)備鍍一層極薄的銅種子層(100nm),銜接前序的 TCO 和后序的電 鍍銅,種子層制備后還需對(duì)其進(jìn)行快速燒結(jié)處理,以進(jìn)一步強(qiáng)化附著力。同時(shí), 銅種子層作為后續(xù)電鍍銅的勢(shì)壘層,可防止銅向硅內(nèi)部擴(kuò)散。銀漿成本高有四大降本路徑,兩大方向。一是減少高價(jià)低溫銀漿用量,例如多主 柵(MBB)、激光轉(zhuǎn)印;二是減少銀粉的用量,使用賤金屬替代部分銀粉,例 如銀包銅、電鍍銅。電鍍銅能夠提高金屬的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性,使其在電子設(shè)備中發(fā)揮更好的性能。合肥電鍍銅后綴

合肥電鍍銅后綴,電鍍銅

光伏電鍍銅基本可以分為水平電鍍銅、VCP垂直電鍍銅、龍門(mén)線(xiàn)電鍍銅,電鍍銅后采用的表面處理方式業(yè)界存在多種路線(xiàn)。主要工藝流程控制和添加劑在線(xiàn)路板行業(yè)使用時(shí)間久遠(yuǎn)技術(shù)已經(jīng)成熟。電鍍銅+電鍍錫、電鍍銅+化學(xué)沉錫、電鍍銅+化學(xué)沉銀幾種路線(xiàn)。釜川(無(wú)錫)智能科技有限公司,以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品,打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強(qiáng)大的科研團(tuán)隊(duì),憑借技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)力,在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨(dú)特優(yōu)勢(shì);以高效加工制造、快速終端交付的能力,為客戶(hù)提供整線(xiàn)工藝設(shè)備的交付服務(wù)。杭州高效電鍍銅設(shè)備組件電鍍銅工序包括種子層制備環(huán)節(jié)。

電鍍銅設(shè)備工序包括種子層制備、圖形化、電鍍?nèi)蟓h(huán)節(jié),涌現(xiàn)多種設(shè)備方案。電鍍銅 工藝尚未定型,各環(huán)節(jié)技術(shù)方案包括(1)種子層:設(shè)備主要采用 PVD,主要技術(shù)分歧 在于是否制備種子層、制備整面/局部種子層和種子層金屬選用;(2)圖形化:感光材料 分為干膜和油墨,主要技術(shù)分歧在于曝光顯影環(huán)節(jié)選用掩膜類(lèi)光刻/LDI 激光直寫(xiě)/激光 開(kāi)槽;(3)電鍍:主要技術(shù)分歧在于水平鍍/垂直鍍/光誘導(dǎo)電鍍。釜川(無(wú)錫)智能科技有限公司,以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品,打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強(qiáng)大的科研團(tuán)隊(duì),憑借技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)力,在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨(dú)特優(yōu)勢(shì);以高效加工制造、快速終端交付的能力,為客戶(hù)提供整線(xiàn)工藝設(shè)備的交付服務(wù)。

太陽(yáng)能電池電鍍銅技術(shù)。這項(xiàng)技術(shù)不僅可提升太陽(yáng)能電池板效能,而且可大規(guī)模降成本。以開(kāi)掘市場(chǎng)潛力,全新的電鍍工藝旨在進(jìn)一步針對(duì)低成本電池的需求,光伏銅電鍍技術(shù)采用金屬銅完全代替銀漿作為柵線(xiàn)電極,實(shí)現(xiàn)整片電池的工藝轉(zhuǎn)換,打破瓶頸,創(chuàng)新行業(yè)發(fā)展。光伏電鍍銅設(shè)計(jì)的導(dǎo)電方式主要有彈片式導(dǎo)電舟方式、水平滾輪導(dǎo)電、模具掛架式、彈片重力夾具等方式。合理的導(dǎo)電方式對(duì)光伏電鍍銅設(shè)備非常重要是實(shí)現(xiàn)可量產(chǎn)的關(guān)鍵因素之一。優(yōu)良的導(dǎo)電方式可以實(shí)現(xiàn)設(shè)備的便捷維修和改善電鍍銅片與片之間的電鍍銅厚極差,甚至可以實(shí)現(xiàn)單片硅上分布電流的可監(jiān)控性。 光伏電鍍銅設(shè)計(jì)的導(dǎo)電方式主要有水平滾輪導(dǎo)電方式。

銅電鍍工藝流程:種子層沉積—圖形化—電鍍—后處理,光伏電鍍銅工藝流程主要包括種子層沉積、圖形化、電鍍及后處理四大環(huán)節(jié),目前各環(huán)節(jié)技術(shù)路線(xiàn)不一,多種組合工藝方案并行,需要綜合性能、成本來(lái)選擇合適的工藝路線(xiàn)。(1)種子層沉積:異質(zhì)結(jié)電池表面沉積有透明導(dǎo)電薄膜(TCO)作為導(dǎo)電層、減反射層,由于銅在TCO層上的附著性較差,兩者間為物理接觸,附著力主要為范德華力,電極容易脫落,一般需要在電鍍前在TCO層上先行使用PVD設(shè)備沉積種子層(100nm),改善電極接觸與附著性問(wèn)題。(2)圖形化:由于在TCO上鍍銅是非選擇性的,需要形成圖形化的掩膜以顯現(xiàn)待鍍銅區(qū)域的線(xiàn)路圖形,劃分導(dǎo)電與非導(dǎo)電部分。圖形化過(guò)程中,將感光膠層覆蓋于HJT電池表面,通過(guò)選擇性光照,使得不需要鍍銅的位置感光材料發(fā)生改性反應(yīng),而需要鍍銅的位置感光材料不變;在顯影步驟時(shí),待鍍銅區(qū)域內(nèi)未發(fā)生改性反應(yīng)的感光材料會(huì)被去除,形成圖形化的掩膜,后續(xù)電鍍時(shí)銅將沉積于該線(xiàn)路圖形區(qū)域內(nèi)露出的種子層上并發(fā)生導(dǎo)電,而其他位置不會(huì)發(fā)生銅沉積,實(shí)現(xiàn)選擇性電鍍。電鍍銅技術(shù)路線(xiàn)是對(duì)傳統(tǒng)絲網(wǎng)印刷環(huán)節(jié)的替代,可以分為“種子層制備 +圖形化+金屬化+后處理”四大環(huán)節(jié)。廣東HJT電鍍銅工藝

電鍍銅可以用于各種金屬表面,包括鋼鐵、鋁合金、不銹鋼等,具有廣泛的應(yīng)用范圍。合肥電鍍銅后綴

光伏電鍍銅裝備插片式電鍍:將待鍍電池設(shè)置在陰極導(dǎo)電支架上,向下插入使一個(gè)導(dǎo)電支撐單元位于相鄰兩個(gè)陽(yáng)極板組件之間以實(shí)現(xiàn)電鍍。根據(jù)相關(guān)描述,該設(shè)備可實(shí)現(xiàn)雙面電鍍,單線(xiàn)可做到14000整片/小時(shí),破片率<0.02%,提高了裝置產(chǎn)能和電鍍質(zhì)量,降低了不良率,結(jié)構(gòu)合理、占地面積小。此外,根據(jù)相關(guān)技術(shù)通過(guò)將電池片設(shè)置在導(dǎo)電支撐單元上,移動(dòng)陰極導(dǎo)電花籃使導(dǎo)電支撐單元在多個(gè)陽(yáng)極單元的陽(yáng)極板組件間移動(dòng)以實(shí)現(xiàn)電鍍;該電鍍裝置產(chǎn)能可達(dá)24000整片/小時(shí),電鍍均勻性更好,提高了電鍍質(zhì)量,減少了碎片風(fēng)險(xiǎn)合肥電鍍銅后綴