北京HJT異質(zhì)結(jié)濕法設(shè)備

光伏異質(zhì)結(jié)的制造工藝主要包括以下幾個(gè)步驟：1.基片制備：選擇合適的基片材料，如硅、鎵砷化鎵等，進(jìn)行表面處理和清洗，以保證后續(xù)工藝的順利進(jìn)行。2.沉積薄膜：利用化學(xué)氣相沉積、物理的氣相沉積等技術(shù)，在基片表面沉積一層或多層薄膜，如n型或p型摻雜層、金屬電極等。3.制造異質(zhì)結(jié)：通過摻雜、擴(kuò)散、離子注入等方法，在基片表面形成n型和p型半導(dǎo)體材料的異質(zhì)結(jié)。4.退火處理：將制造好的異質(zhì)結(jié)進(jìn)行高溫退火處理，以提高其電學(xué)性能和穩(wěn)定性。5.制造封裝：將制造好的光伏異質(zhì)結(jié)進(jìn)行封裝，以保護(hù)其免受外界環(huán)境的影響，并方便其在實(shí)際應(yīng)用中的使用。以上是光伏異質(zhì)結(jié)的制造工藝的基本步驟，不同的制造工藝可能會(huì)有所不同，但總體上都是在這些基本步驟的基礎(chǔ)上進(jìn)行的。異質(zhì)結(jié)電池采用的N型硅片，摻雜劑為磷，幾乎無光致衰減現(xiàn)象。北京HJT異質(zhì)結(jié)濕法設(shè)備

高效異質(zhì)結(jié)電池生產(chǎn)流程中使用的設(shè)備，PECVD 1.等離子化學(xué)氣相沉積（PlasmaEnhancedCVD，PECVD）是指利用輝光放電的物理作用來化學(xué)氣相沉積反應(yīng)的CVD技術(shù)；2.異質(zhì)結(jié)非晶硅薄膜沉積是采用RPECVD技術(shù)，射頻等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（RFPlasma-EnhancedChemicalVaporDeposition,RPECVD），是PECVD的另外一種技術(shù)。它是利用射頻能量使反應(yīng)氣體等離子化。優(yōu)點(diǎn)：低溫成膜（300-350℃），對基片影響小，避免了高溫帶來的膜層晶粒粗大；l低壓下形成薄膜厚度及成分較均勻、膜層致密、內(nèi)應(yīng)力小，不易產(chǎn)生裂紋；l擴(kuò)大CVD應(yīng)用范圍，特別是在不同基片上制備金屬薄膜、非晶態(tài)無機(jī)薄膜等，薄膜的附著力大于普通CVD。上海零界高效異質(zhì)結(jié)CVD異質(zhì)結(jié)電池能夠提供更高的能量轉(zhuǎn)換效率，有助于降低光伏發(fā)電的成本，提高電力系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)性。

HJT電池整線裝備，形成潔凈硅片表面，由于HJT電池中硅片襯底表面直接為異質(zhì)結(jié)界面的一部分，避免不潔凈引進(jìn)的缺陷和雜質(zhì)而帶來的結(jié)界面處載流子的復(fù)合。堿溶液濃度較低時(shí)，單晶硅的(100)與(111)晶面的腐蝕速度差別比較明顯，速度的比值被稱為各向異性因子(anisotropicfactorAF)；因此改變堿溶液的濃度及溫度，可以有效地改變AF，使得在不同方向上的速度不同，在硅片表面形成密集分布的“金字塔”結(jié)構(gòu)的減反射絨面；在制絨工序，絨面大小為主要指標(biāo)，一般可通過添加劑的選擇、工藝配比的變化、工藝溫度及工藝時(shí)間等來進(jìn)行調(diào)節(jié)控制。

異質(zhì)結(jié)電池的優(yōu)勢有，優(yōu)勢一：工藝流程短HJT電池主工藝有4道：制絨、非晶硅沉積、TCO沉積、絲網(wǎng)印刷；遠(yuǎn)少于PERC（10個(gè)）和TOPCON（12-13個(gè)）；其中，非晶硅沉積主要使用PECVD方法。TCO薄膜主要有兩種方法：RPD(反應(yīng)等離子沉積)和PVD。優(yōu)勢二：轉(zhuǎn)換效率高得益于N型硅襯底以及非晶硅對基底表面缺陷的雙重鈍化作用。目前量產(chǎn)效率普遍已在25%以上；更高的轉(zhuǎn)化效率需要在前后表面使用摻雜納米晶硅、摻雜微晶硅、摻雜微晶氧化硅、摻雜微晶碳化硅取代現(xiàn)有的摻雜。HJT效率潛力超28%，遠(yuǎn)高PERC電池。優(yōu)勢三：無LID&PID，低衰減無LID與PID：由于HJT電池襯底通常為N型單晶硅，而N型單晶硅為磷摻雜，不存在P型晶硅中的硼氧復(fù)合、硼鐵復(fù)合等，所以HJT電池對于LID效應(yīng)是免疫的。HJT電池的表面沉積有TCO薄膜，無絕緣層，因此無表面層帶電的機(jī)會(huì)，從結(jié)構(gòu)上避免PID發(fā)生。低衰減：HJT電池首年衰減1-2%，此后每年衰減0.25%，遠(yuǎn)低于PERC電池?fù)芥壠乃p情況（首年衰減2%，此后每年衰減0.45%)，因此HJT電池全生命周期每W發(fā)電量高出雙面PERC電池約1.9%-2.9%。光伏異質(zhì)結(jié)技術(shù)可以應(yīng)用于各種類型的太陽能電池，包括晶體硅、薄膜和多結(jié)太陽能電池。

異質(zhì)結(jié)HJT電池TCO薄膜的方法主要有兩種：RPD（特指空心陰極離子鍍)和PVD(特指磁控濺射鍍膜)；l該工藝主要是在電池正背面上沉積一層透明導(dǎo)電膜層，通過該層薄膜實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電、減反射、保護(hù)非晶硅薄膜的作用，同時(shí)可以有效地增加載流子的收集；l目前常用于HJT電池TCO薄膜為In2O3系列，如ITO（錫摻雜In2O3，@PVD濺射法）、IWO（鎢摻雜In2O3，@RPD方法沉積）等。HJT電池具備光電轉(zhuǎn)化效率提升潛力高、更大的降成本空間。零界高效異質(zhì)結(jié)電池整線解決方案，實(shí)現(xiàn)設(shè)備國產(chǎn)化，高效高產(chǎn)PVD DD CVD。異質(zhì)結(jié)電池是光伏行業(yè)的新興技術(shù)，其轉(zhuǎn)換效率高，能夠顯著提升太陽能電池的整體性能。上海零界高效異質(zhì)結(jié)CVD

光伏異質(zhì)結(jié)電池的使用壽命長，具有長期穩(wěn)定的能源供應(yīng)能力。北京HJT異質(zhì)結(jié)濕法設(shè)備

質(zhì)結(jié)電池TCO薄膜的方法主要有兩種：RPD（特指空心陰極離子鍍)和PVD(特指磁控濺射鍍膜)；l該工藝主要是在電池正背面上沉積一層透明導(dǎo)電膜層，通過該層薄膜實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電、減反射、保護(hù)非晶硅薄膜的作用，同時(shí)可以有效地增加載流子的收集；l目前常用于HJT電池TCO薄膜為In2O3系列，如ITO（錫摻雜In2O3，@PVD濺射法）、IWO（鎢摻雜In2O3，@RPD方法沉積）等。HJT電池具備光電轉(zhuǎn)化效率提升潛力高、更大的降成本空間。零界高效異質(zhì)結(jié)電池整線解決方案，實(shí)現(xiàn)設(shè)備國產(chǎn)化，高效高產(chǎn)PVD DD CVD。北京HJT異質(zhì)結(jié)濕法設(shè)備