鄭州光伏電鍍銅

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-12-29

光伏電鍍銅優(yōu)勢在于可助力電池提效0.3-0.5%+,進(jìn)而提高組件功率。我們預(yù)計(jì)銀包銅+0BB/NBB工藝或是短期內(nèi)HJT電池量產(chǎn)化的主要降本路徑,隨著未來銀含量30%銀包銅漿料的導(dǎo)入,漿料成本有望降至約3分/W,HJT電池金屬化成本或降至5分/W左右。電鍍銅工藝有望于2023-2024年加快中試,并于2024年逐步導(dǎo)入量產(chǎn)。隨著工藝經(jīng)濟(jì)性持續(xù)優(yōu)化,電鍍銅HJT電池的金屬化成本有望降至5-6分/W左右,疊加考慮0BB/NBB對(duì)應(yīng)組件封裝/檢測成本提升,而電鍍銅可提升效率約0.5%+,電鍍銅優(yōu)勢逐漸強(qiáng)化,有望成為光伏電池?zé)o銀化的解決方案。電鍍銅工序包括電鍍環(huán)節(jié)。鄭州光伏電鍍銅

鄭州光伏電鍍銅,電鍍銅

銅電鍍與傳統(tǒng)絲網(wǎng)印刷的差異主要在TCO膜制備工序之后,前兩道的工藝制絨與PVD濺射未變:傳統(tǒng)異質(zhì)結(jié)產(chǎn)線在TCO膜制備之后采用銀漿印刷和燒結(jié),而銅電鍍則把銀漿絲網(wǎng)印刷替換成制備銅柵線的圖形化和金屬化兩大工序。圖形化工藝:PVD(相沉積法)設(shè)備在硅片TCO表面濺射一層100nm的銅種子層,使用石蠟或油墨印刷機(jī)(掩膜一體機(jī))的濕膜法制作掩膜/噴涂感光膠,印刷、烘干后經(jīng)過曝光機(jī)曝光處理后,將感光膠或光刻膠上的圖形顯影。金屬化工藝:特定圖形的銅沉積(電鍍銅),然后使用不同的抗氧化方法進(jìn)行處理(電鍍鋅或使用抗氧化劑制作保護(hù)層),除去之前的掩膜/感光膠,刻蝕去除多余銅種子層,避免電鍍銅在種子層腐蝕過程中引入缺陷,露出原本的TCO,其后再進(jìn)行表面處理,至此形成完整的銅電鍍工序。整個(gè)過程使用的主要設(shè)備是電鍍?cè)O(shè)備。山東新型電鍍銅設(shè)備價(jià)格電鍍銅工藝圖形化:光刻路線和激光路線并行。

光伏電鍍銅裝備插片式電鍍:將待鍍電池設(shè)置在陰極導(dǎo)電支架上,向下插入使一個(gè)導(dǎo)電支撐單元位于相鄰兩個(gè)陽極板組件之間以實(shí)現(xiàn)電鍍。根據(jù)相關(guān)描述,該設(shè)備可實(shí)現(xiàn)雙面電鍍,單線可做到14000整片/小時(shí),破片率<0.02%,提高了裝置產(chǎn)能和電鍍質(zhì)量,降低了不良率,結(jié)構(gòu)合理、占地面積小。此外,根據(jù)相關(guān)技術(shù)通過將電池片設(shè)置在導(dǎo)電支撐單元上,移動(dòng)陰極導(dǎo)電花籃使導(dǎo)電支撐單元在多個(gè)陽極單元的陽極板組件間移動(dòng)以實(shí)現(xiàn)電鍍;該電鍍裝置產(chǎn)能可達(dá)24000整片/小時(shí),電鍍均勻性更好,提高了電鍍質(zhì)量,減少了碎片風(fēng)險(xiǎn)

適用電鍍銅工藝的光伏電池片產(chǎn)能:當(dāng)前PERC生產(chǎn)成本相對(duì)較低,且由于具備更高效率的N型電池,如TOPCon、HJT、IBC出現(xiàn),我們認(rèn)為未來PERC電池會(huì)被逐步替代,PERC電池不具有采用電鍍銅工藝的必要性。N型電池作為新技術(shù)路線,降本是其規(guī)?;l(fā)展邏輯,電鍍銅工藝作為降本增效的技術(shù),為其降本可選技術(shù)路線之一。根據(jù)CPIA對(duì)各類電池技術(shù)市場占比變化趨勢的預(yù)測,我們計(jì)算得出2022年到2030年,適用電鍍銅工藝的全球N型電池(TOPCon、HJT、IBC)產(chǎn)能自13.87GW增長至504.28GW。電鍍銅設(shè)備是實(shí)現(xiàn)金屬化的重點(diǎn),各家紛紛布局主要電鍍?cè)O(shè)備有龍門電鍍線、水平電鍍線、VCP垂直連續(xù)電鍍線。

電鍍銅光刻技術(shù)是指利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法,將設(shè)計(jì)好的微圖形結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到覆有感光材料的晶圓、玻璃基板、覆銅板等基材表面上的微納制造技術(shù)。光刻設(shè)備是微納制造的一種關(guān)鍵設(shè)備,在泛半導(dǎo)體領(lǐng)域,根據(jù)是否使用掩膜版,光刻技術(shù)主要分為直寫光刻與掩膜光刻,其中掩膜光刻可進(jìn)一步分為接近/接觸式光刻以及投影式光刻。掩膜光刻由光源發(fā)出的光束,經(jīng)掩膜版在感光材料上成像,具體可分為接近、接觸式光刻以及投影光刻。其中,投影式光刻更加先進(jìn),能夠在使用相同尺寸掩膜版的情況下獲得更小比例的圖像,從而實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的成像。直寫光刻也稱無掩膜光刻,是指計(jì)算機(jī)將電路設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)換為機(jī)器可識(shí)別的圖形數(shù)據(jù),并由計(jì)算機(jī)控制光束調(diào)制器實(shí)現(xiàn)圖形的實(shí)時(shí)顯示,再通過光學(xué)成像系統(tǒng)將圖形光束聚焦成像至已涂覆感光材料的基板表面上,直接進(jìn)行掃描曝光。直寫光刻既具有投影光刻的技術(shù)特點(diǎn),如投影成像技術(shù)、雙臺(tái)面技術(shù)、步進(jìn)式掃描曝光等,又具有投影光刻不具備的高靈活性、低成本以及縮短工藝流程等技術(shù)特點(diǎn)。電鍍銅助力HJT降本增效,產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程進(jìn)入加速期。南京光伏電鍍銅設(shè)備價(jià)格

電鍍銅能夠提高金屬的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性,使其在電子設(shè)備中發(fā)揮更好的性能。鄭州光伏電鍍銅

太陽能電池電鍍銅技術(shù)。這項(xiàng)技術(shù)不僅可提升太陽能電池板效能,而且可大規(guī)模降成本。以開掘市場潛力,全新的電鍍工藝旨在進(jìn)一步針對(duì)低成本電池的需求,光伏銅電鍍技術(shù)采用金屬銅完全代替銀漿作為柵線電極,實(shí)現(xiàn)整片電池的工藝轉(zhuǎn)換,打破瓶頸,創(chuàng)新行業(yè)發(fā)展。光伏電鍍銅設(shè)計(jì)的導(dǎo)電方式主要有彈片式導(dǎo)電舟方式、水平滾輪導(dǎo)電、模具掛架式、彈片重力夾具等方式。合理的導(dǎo)電方式對(duì)光伏電鍍銅設(shè)備非常重要是實(shí)現(xiàn)可量產(chǎn)的關(guān)鍵因素之一。優(yōu)良的導(dǎo)電方式可以實(shí)現(xiàn)設(shè)備的便捷維修和改善電鍍銅片與片之間的電鍍銅厚極差,甚至可以實(shí)現(xiàn)單片硅上分布電流的可監(jiān)控性。鄭州光伏電鍍銅