鄭州半導(dǎo)體濕法設(shè)備價(jià)格

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-12-23

濕法設(shè)備包括濕法制絨設(shè)備(Perc 工藝)、制絨設(shè)備(Topcon工藝)、濕法刻蝕設(shè)備(Perc 工藝)、RCA槽式清洗設(shè)備(Topcon工藝)、電池濕法背拋清洗設(shè)備(Topcon工藝)、濕法制絨設(shè)備(HJT工藝)、電池濕法背拋清洗設(shè)備(XBC工藝)、制絨清洗設(shè)備(XBC工藝)等設(shè)備;釜川生產(chǎn)制造的濕法設(shè)備能與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配,在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了升級(jí)。其作用是對(duì)太陽(yáng)能電池用硅片進(jìn)行清洗制絨處理,從而提升電池的質(zhì)量和效率。濕法刻蝕設(shè)備(Perc 工藝)進(jìn)口PLC控制,穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。鄭州半導(dǎo)體濕法設(shè)備價(jià)格

鄭州半導(dǎo)體濕法設(shè)備價(jià)格,濕法

電池濕法設(shè)備的能源效率可以通過(guò)以下幾個(gè)方面進(jìn)行評(píng)估:1.電池濕法設(shè)備的能耗:通過(guò)測(cè)量設(shè)備的電力消耗,可以計(jì)算出設(shè)備的能耗。這可以通過(guò)監(jiān)測(cè)設(shè)備的電流和電壓來(lái)實(shí)現(xiàn)。2.電池濕法設(shè)備的產(chǎn)出:通過(guò)測(cè)量設(shè)備的產(chǎn)出量,可以計(jì)算出設(shè)備的能源效率。這可以通過(guò)監(jiān)測(cè)設(shè)備的產(chǎn)出量來(lái)實(shí)現(xiàn)。3.設(shè)備的維護(hù)和運(yùn)行成本:設(shè)備的維護(hù)和運(yùn)行成本也是評(píng)估能源效率的重要因素。這包括設(shè)備的維護(hù)費(fèi)用、運(yùn)行費(fèi)用和人工費(fèi)用等。4.設(shè)備的壽命:設(shè)備的壽命也是評(píng)估能源效率的重要因素。如果設(shè)備的壽命較短,那么它的能源效率就會(huì)降低。5.設(shè)備的環(huán)境影響:設(shè)備的環(huán)境影響也是評(píng)估能源效率的重要因素。如果設(shè)備對(duì)環(huán)境的影響較大,那么它的能源效率就會(huì)降低。綜上所述,評(píng)估電池濕法設(shè)備的能源效率需要考慮多個(gè)因素,包括設(shè)備的能耗、產(chǎn)出、維護(hù)和運(yùn)行成本、壽命以及環(huán)境影響等。通過(guò)綜合考慮這些因素,可以得出一個(gè)較為準(zhǔn)確的能源效率評(píng)估結(jié)果。山東自動(dòng)化濕法去PSG濕法刻蝕設(shè)備(Perc 工藝)去硅片除背面PSG和拋光處理。

鄭州半導(dǎo)體濕法設(shè)備價(jià)格,濕法

電池濕法設(shè)備是一種用于生產(chǎn)電池的設(shè)備,其主要功能是將原材料轉(zhuǎn)化為電池的正負(fù)極材料,以及制造電解液和電池外殼等組成部分。具體來(lái)說(shuō),電池濕法設(shè)備的主要功能包括以下幾個(gè)方面:1.制備正負(fù)極材料:電池濕法設(shè)備可以將金屬氧化物、碳酸鹽等原材料轉(zhuǎn)化為電池的正負(fù)極材料,如鋰鐵磷酸、鈷酸鋰等。2.制造電解液:電池濕法設(shè)備可以制造電池的電解液,如鋰鹽溶液、電解液添加劑等。3.生產(chǎn)電池外殼:電池濕法設(shè)備可以生產(chǎn)電池的外殼,如鋁殼、鋼殼等。4.控制生產(chǎn)過(guò)程:電池濕法設(shè)備可以對(duì)生產(chǎn)過(guò)程進(jìn)行控制,如溫度、壓力、流量等參數(shù)的控制,以確保電池的質(zhì)量和性能。5.檢測(cè)和測(cè)試:電池濕法設(shè)備可以進(jìn)行電池的檢測(cè)和測(cè)試,如電池容量、電壓、內(nèi)阻等參數(shù)的測(cè)試,以確保電池的質(zhì)量和性能。總之,電池濕法設(shè)備是電池生產(chǎn)過(guò)程中不可或缺的設(shè)備,其主要功能是將原材料轉(zhuǎn)化為電池的各個(gè)組成部分,并對(duì)生產(chǎn)過(guò)程進(jìn)行控制和檢測(cè),以確保電池的質(zhì)量和性能。

電池濕法設(shè)備Topcon工藝RCA槽式清洗設(shè)備主要功能去除多晶硅沉積的正面(LPCVD)PECVD繞鍍層,去除表面剩余的BSG。優(yōu)勢(shì):閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng),保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。l拋光槽:上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式,完整的保護(hù)正面的同時(shí),對(duì)背面作拋光處理。l烘干槽:采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過(guò)濾器的方式,l進(jìn)口PLC控制,穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l采用機(jī)械臂慢提方式,設(shè)備滿足干濕分離,匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式,能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?,槽?nèi)控溫精度誤差<±1℃l引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝,保證硅片表面的潔凈度。光伏電池濕法制絨設(shè)備,與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配,在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了升級(jí)。濕法刻蝕設(shè)備(Perc 工藝)可配套無(wú)金屬化制程設(shè)備,提高設(shè)備潔凈度。

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電池濕法設(shè)備的安全性是非常高的,因?yàn)樗鼈儾捎昧硕喾N安全措施來(lái)確保操作人員和設(shè)備的安全。首先,電池濕法設(shè)備通常采用密閉式操作,以避免有害氣體泄漏。其次,設(shè)備通常配備了氣體檢測(cè)器和報(bào)警器,以便在有害氣體泄漏時(shí)及時(shí)發(fā)出警報(bào)。此外,設(shè)備還配備了消防設(shè)備和緊急停機(jī)按鈕,以便在緊急情況下迅速采取措施。除此之外,操作人員通常接受專業(yè)的培訓(xùn),以了解設(shè)備的操作和安全規(guī)程,并且必須遵守嚴(yán)格的安全程序和標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)程??傊?,電池濕法設(shè)備的安全性非常高,只要操作人員遵守安全規(guī)程和標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)程,就可以確保設(shè)備的安全運(yùn)行。電池濕法背拋清洗設(shè)備(Topcon工藝)擁有閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng),保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。山東自動(dòng)化濕法去PSG

太陽(yáng)能光伏電池濕法制絨設(shè)備(Perc 工藝)能去除切割硅片損傷層和表面臟污。鄭州半導(dǎo)體濕法設(shè)備價(jià)格

濕法設(shè)備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面,增加硅片對(duì)太陽(yáng)光的吸收,降低反射率l增加硅片表面積,進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。設(shè)備優(yōu)勢(shì)是進(jìn)口PLC控制,兼容MES,UPS和RFID功能。機(jī)械手分配合理,有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時(shí)。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式,能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?,槽?nèi)控溫精度誤差<±1℃。所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì),避免材料雜質(zhì)析出;引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝,保證硅片表面的潔凈度。斜拉式慢提拉結(jié)構(gòu),有效提升脫水能力,匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。采用低溫烘干技術(shù),保證槽內(nèi)的潔凈度和溫度均勻性。鄭州半導(dǎo)體濕法設(shè)備價(jià)格