電池濕法設(shè)備價(jià)格

光伏電池濕法設(shè)備Topcon工藝，使用強(qiáng)堿腐蝕在硅片背面拋光形成近似鏡面的絨面結(jié)構(gòu)，提高硅片對(duì)長(zhǎng)波的吸收2.增加背鈍化膜的膜厚均勻性3.降低了背面的表面積，提升了少子壽命，降低背面復(fù)合速率。進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。l可配套無金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。電池濕法制絨清洗設(shè)備（XBC工藝）工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，槽內(nèi)控溫精度誤差＜±1℃。電池濕法設(shè)備價(jià)格

電池濕法設(shè)備Topcon工藝，拋清洗設(shè)備，功能是去除背面BSG和拋光處理。l閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時(shí)，對(duì)背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過濾器的方式，l鏈?zhǔn)饺SG+槽式堿拋設(shè)備，設(shè)備產(chǎn)能大，穩(wěn)定性好。l進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。l可配套無金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。蘇州HJT濕法設(shè)備濕法制絨設(shè)備（Topcon工藝）可配套無金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。

電池濕法設(shè)備主要是對(duì)太陽能電池用硅片進(jìn)行清洗處理，2022年成功研發(fā)雙六道大產(chǎn)能去PSG清洗設(shè)備，并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性、產(chǎn)能、安全性升級(jí)。去PSG工藝首先將繞擴(kuò)層PSG進(jìn)行去除，利用背面PSG保護(hù)，在槽式清洗中完成去繞度工藝。為尋求更為穩(wěn)定的硅片傳輸，整機(jī)設(shè)計(jì)為雙五道/雙六道分布結(jié)構(gòu)，料臺(tái)歸正寬度可調(diào)，兼容更多規(guī)格的硅片，并為后續(xù)18X硅片更大產(chǎn)能改造提供了預(yù)留窗口；去PSG設(shè)備布局前后通透，給設(shè)備使用者提供了便捷性；上料臺(tái)搭配了大流量全新滴液泵；。

電池濕法設(shè)備的成本因設(shè)備規(guī)模、生產(chǎn)能力、設(shè)備品質(zhì)等因素而異。一般來說，電池濕法設(shè)備的成本包括設(shè)備本身的采購費(fèi)用、安裝調(diào)試費(fèi)用、運(yùn)行維護(hù)費(fèi)用等。設(shè)備本身的采購費(fèi)用是影響成本的主要因素之一，一般來說，設(shè)備規(guī)模越大，生產(chǎn)能力越高，設(shè)備品質(zhì)越好，成本也就越高。此外，設(shè)備的運(yùn)行維護(hù)費(fèi)用也是影響成本的重要因素之一，包括能源消耗、人工維護(hù)費(fèi)用、設(shè)備壽命等。因此，在選擇電池濕法設(shè)備時(shí)，需要綜合考慮設(shè)備的采購費(fèi)用、運(yùn)行維護(hù)費(fèi)用等因素，以確保設(shè)備的成本合理、經(jīng)濟(jì)。電池濕法設(shè)備配合先進(jìn)的清洗技術(shù)，可有效去除電池極板上的雜質(zhì)和污染物，提高電池的電化學(xué)性能。

濕法設(shè)備包括濕法制絨設(shè)備（Perc 工藝）、制絨設(shè)備（Topcon工藝）、濕法刻蝕設(shè)備（Perc 工藝）、RCA槽式清洗設(shè)備（Topcon工藝）、電池濕法背拋清洗設(shè)備（Topcon工藝）、濕法制絨設(shè)備（HJT工藝）、電池濕法背拋清洗設(shè)備（XBC工藝）、制絨清洗設(shè)備（XBC工藝）等；釜川生產(chǎn)制造的濕法設(shè)備能與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了升級(jí)。其作用是對(duì)太陽能電池用硅片進(jìn)行清洗制絨處理，從而提升電池的質(zhì)量和效率。電池濕法設(shè)備擁有多種型號(hào)，滿足不同規(guī)格硅片、各種類型電池片制造的需求，靈活性高。河南專業(yè)濕法制絨

濕法刻蝕設(shè)備（Perc 工藝）去硅片除背面PSG和拋光處理。電池濕法設(shè)備價(jià)格

電池濕法設(shè)備Topcon工藝，使用強(qiáng)堿腐蝕在硅片背面拋光形成近似鏡面的絨面結(jié)構(gòu)，提高硅片對(duì)長(zhǎng)波的吸收2.增加背鈍化膜的膜厚均勻性3.降低了背面的表面積，提升了少子壽命，降低背面復(fù)合速率。進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。l可配套無金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。電池濕法設(shè)備價(jià)格

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