廣州濕法刻蝕

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-12-08

電池濕法設(shè)備Topcon工藝RCA槽式清洗設(shè)備主要功能去除多晶硅沉積的正面(LPCVD)PECVD繞鍍層,去除表面剩余的BSG。優(yōu)勢(shì):閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng),保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。l拋光槽:上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式,完整的保護(hù)正面的同時(shí),對(duì)背面作拋光處理。l烘干槽:采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過(guò)濾器的方式,l進(jìn)口PLC控制,穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l采用機(jī)械臂慢提方式,設(shè)備滿足干濕分離,匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式,能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?,槽?nèi)控溫精度誤差<±1℃l引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝,保證硅片表面的潔凈度。光伏電池濕法制絨設(shè)備(Perc 工藝)采用機(jī)械臂慢提方式,設(shè)備滿足干濕分離,匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。廣州濕法刻蝕

廣州濕法刻蝕,濕法

使用電池濕法設(shè)備需要注意以下幾點(diǎn)事項(xiàng):1.安全操作:在使用電池濕法設(shè)備時(shí),必須遵守相關(guān)的安全操作規(guī)程,如佩戴防護(hù)手套、護(hù)目鏡等防護(hù)裝備,以避免發(fā)生意外事故。2.正確操作:在使用電池濕法設(shè)備時(shí),必須按照操作說(shuō)明書上的步驟進(jìn)行操作,以確保設(shè)備的正常運(yùn)行和使用效果。3.維護(hù)保養(yǎng):在使用電池濕法設(shè)備后,必須進(jìn)行維護(hù)保養(yǎng),如清洗設(shè)備、更換電池等,以延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命和保證設(shè)備的正常運(yùn)行。4.環(huán)境保護(hù):在使用電池濕法設(shè)備時(shí),必須注意環(huán)境保護(hù),如避免污染環(huán)境、正確處理廢棄物等,以保護(hù)環(huán)境和人類健康。5.儲(chǔ)存保管:在使用電池濕法設(shè)備后,必須正確儲(chǔ)存和保管設(shè)備,如避免陽(yáng)光直射、防潮防塵等,以保證設(shè)備的安全和使用壽命。無(wú)錫光伏濕法清洗設(shè)備光伏電池濕法背拋清洗設(shè)備(XBC工藝)進(jìn)口PLC控制,穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。

廣州濕法刻蝕,濕法

濕法設(shè)備通常包括濕法制絨設(shè)備(Perc 工藝)、制絨設(shè)備(Topcon工藝)、濕法刻蝕設(shè)備(Perc 工藝)、RCA槽式清洗設(shè)備(Topcon工藝)、電池濕法背拋清洗設(shè)備(Topcon工藝)、濕法制絨設(shè)備(HJT工藝)、電池濕法背拋清洗設(shè)備(XBC工藝)、制絨清洗設(shè)備(XBC工藝)等;釜川生產(chǎn)制造的濕法設(shè)備能與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配,在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了升級(jí)。其作用是對(duì)太陽(yáng)能電池用硅片進(jìn)行清洗制絨處理,從而提升電池的質(zhì)量和效率。

電池濕法設(shè)備能改善電池表面微觀結(jié)構(gòu),提升硅片表面潔凈度,降低表面污染,從而提升電池轉(zhuǎn)化效率。濕法設(shè)備:釜川生產(chǎn)制造的濕法設(shè)備能與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配,在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了升級(jí)。其作用是對(duì)太陽(yáng)能電池用硅片進(jìn)行清洗制絨處理,從而提升電池的質(zhì)量和效率。 HJT裝備與材料:包含制絨清洗設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、金屬化設(shè)備等。 電鍍銅設(shè)備:采用金屬銅完全代替銀漿作為柵線電極,具備低成本、高效率等優(yōu)勢(shì)。 電池濕法設(shè)備的生產(chǎn)流程環(huán)保節(jié)能,減少對(duì)環(huán)境的影響,實(shí)現(xiàn)綠色制造和可持續(xù)發(fā)展。

廣州濕法刻蝕,濕法

濕法設(shè)備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面,增加硅片對(duì)太陽(yáng)光的吸收,降低反射率l增加硅片表面積,進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。設(shè)備優(yōu)勢(shì)是進(jìn)口PLC控制,兼容MES,UPS和RFID功能。機(jī)械手分配合理,有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時(shí)。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式,能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆颍蹆?nèi)控溫精度誤差<±1℃。所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì),避免材料雜質(zhì)析出;引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝,保證硅片表面的潔凈度。斜拉式慢提拉結(jié)構(gòu),有效提升脫水能力,匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。采用低溫烘干技術(shù),保證槽內(nèi)的潔凈度和溫度均勻性。電池濕法背拋清洗設(shè)備(Topcon工藝)慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式,設(shè)備滿足干濕分離,匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。無(wú)錫光伏濕法清洗設(shè)備

濕法刻蝕設(shè)備(Perc 工藝)拋光槽:上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式,完整的保護(hù)正面的同時(shí)。廣州濕法刻蝕

釜川高效六籃濕法制絨清洗設(shè)備在安全性方面,設(shè)備主要結(jié)構(gòu)采用阻燃或不燃材料,確保安全可靠。進(jìn)風(fēng)離子風(fēng)扇和去靜電環(huán)提供雙重保護(hù),加熱部件則采用多重相異方式保護(hù),從而明顯降低了安全風(fēng)險(xiǎn)。大功率工業(yè)熱水機(jī)可以加快配槽速度,通過(guò)優(yōu)化程序?qū)崿F(xiàn)能耗平衡。階梯節(jié)水和新型工藝槽換熱進(jìn)水加溫結(jié)構(gòu),有效降低了能耗,從而降低了電池生產(chǎn)成本。釜川生產(chǎn)制造的濕法設(shè)備能與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配,在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了升級(jí)。其作用是對(duì)太陽(yáng)能電池用硅片進(jìn)行清洗制絨處理,從而提升電池的質(zhì)量和效率。廣州濕法刻蝕

釜川(無(wú)錫)智能科技有限公司是一家有著先進(jìn)的發(fā)展理念,先進(jìn)的管理經(jīng)驗(yàn),在發(fā)展過(guò)程中不斷完善自己,要求自己,不斷創(chuàng)新,時(shí)刻準(zhǔn)備著迎接更多挑戰(zhàn)的活力公司,在江蘇省等地區(qū)的機(jī)械及行業(yè)設(shè)備中匯聚了大量的人脈以及**,在業(yè)界也收獲了很多良好的評(píng)價(jià),這些都源自于自身的努力和大家共同進(jìn)步的結(jié)果,這些評(píng)價(jià)對(duì)我們而言是比較好的前進(jìn)動(dòng)力,也促使我們?cè)谝院蟮牡缆飞媳3謯^發(fā)圖強(qiáng)、一往無(wú)前的進(jìn)取創(chuàng)新精神,努力把公司發(fā)展戰(zhàn)略推向一個(gè)新高度,在全體員工共同努力之下,全力拼搏將共同釜川智能科技供應(yīng)和您一起攜手走向更好的未來(lái),創(chuàng)造更有價(jià)值的產(chǎn)品,我們將以更好的狀態(tài),更認(rèn)真的態(tài)度,更飽滿的精力去創(chuàng)造,去拼搏,去努力,讓我們一起更好更快的成長(zhǎng)!