四氟化碳亦稱全氟化碳、四氟甲烷、全氟化碳，為非腐蝕性氣體，所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅，鋁等金屬材料都可以使用，但是含鎂大于2%的合金不能用。在高溫，一些金屬起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增長(zhǎng)的次序由小到大地排列則如下：因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀。四氟化碳一般認(rèn)為是惰性低毒物質(zhì)，在高濃度下是窒息劑，其毒性不及四氯化碳。四氟化碳的溶氧性很好，因此被科學(xué)家用于超深度潛水實(shí)驗(yàn)代替普通壓縮空氣。 是穩(wěn)定的有機(jī)化合物之一，不易溶于水。南通安全四氟化碳高性價(jià)比的選擇
對(duì)于混合氣而言，配比的精度是參數(shù)，隨著產(chǎn)品組分的增加、配制精度的上升，客戶常要求氣體供應(yīng)商能夠?qū)Χ喾Nppm（partpermillion，百萬分之）乃至ppb（partperbillion，十億分之）級(jí)濃度的氣體組分進(jìn)行精細(xì)操作，其配制過程的難度與復(fù)雜程度也增大。此外，氣瓶處理、氣體分析檢測(cè)、氣體配送等環(huán)節(jié)亦對(duì)生產(chǎn)企業(yè)提出了較高的技術(shù)要求作為關(guān)鍵性材料，特種氣體的產(chǎn)品質(zhì)量對(duì)下游產(chǎn)業(yè)的正常生產(chǎn)影響巨大。如果晶圓加工環(huán)節(jié)所使用的氣體發(fā)生質(zhì)量問題，將導(dǎo)致整條生產(chǎn)線產(chǎn)品報(bào)廢，造成巨額損失杭州銷售四氟化碳高性價(jià)比的選擇四氟化碳在常溫常壓下為無色無臭有輕微醚味的氣體?？諝庵胁蝗紵?，是比較穩(wěn)定的無毒物質(zhì)。
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機(jī)化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干.高純度四氟化碳和六氟化硫電子氣體是極大規(guī)模集成電路行業(yè)必須的清洗、蝕刻氣體。隨著極大規(guī)模集成電路技術(shù)的提升，芯片制程向14納米甚至7納米的邁進(jìn)，其對(duì)電子氣體的純度要求越來越高。為此，黎明院借助國家科技重大專項(xiàng)平臺(tái)，突破產(chǎn)物合成、精制提純、雜物分析、潔凈充裝等關(guān)鍵技術(shù)，攻克了高純度四氟化碳和六氟化硫制備過程中微量雜質(zhì)的純化、分析等技術(shù)難題，
四氟化碳又名四氟甲烷。無色無臭無味氣體。分子量88.01。熔點(diǎn)-150℃。沸點(diǎn) -128℃。密度1.96克/立方厘米 (-184℃)。微溶于水。對(duì)熱非常穩(wěn)定。用于致冷劑、溶劑、潤(rùn)滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。四氟化碳具有很高的穩(wěn)定性，屬于完全不燃性氣體，但與可燃性氣體燃燒時(shí)，會(huì)分解產(chǎn)生有毒氟化物。常溫下不與酸、堿及氧化劑反應(yīng)，900℃以下不與Cu、Ni、W、Mo等過渡金屬反應(yīng)，在碳弧溫度下緩慢分解。1 000℃不與碳、氫及甲烷反應(yīng)。室溫下可與液氨一金屬鈉試劑反應(yīng)，高溫下可與堿金屬、堿土金屬及SiO 反應(yīng)，生成相應(yīng)的氟化物。四氟化碳在高溫時(shí)，或與可燃?xì)怏w一同燃燒時(shí)，分解出有毒的氟化物。
四氟化碳與氧在高溫下不反應(yīng)]四氟化炭是目前微電子行業(yè)使用比較多的等離子蝕刻氣體，它是由高純氣與高純氣配高純氧的混合物，可用于硅粉、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和鎢薄膜材料的蝕刻。在使用CF4-H2反應(yīng)離子刻蝕的硅及二氧化硅系統(tǒng)中，通過調(diào)節(jié)兩種氣體的比例，可以獲得45:1的選擇性，這對(duì)刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜是非常有用的。危害概覽危險(xiǎn)類別：：吸入健康危險(xiǎn)：吸入濃度高的四氟化碳后，出現(xiàn)呼吸困難、嘔吐等窒息癥狀。 用硅膠除去氣體中的水分，經(jīng)精餾而得成品。華東節(jié)能四氟化碳廠家價(jià)格
四氟化碳可應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻。南通安全四氟化碳高性價(jià)比的選擇
四氟化碳用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體，用于低溫制冷劑、溶劑、潤(rùn)滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。四氟化碳是微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體，四氟甲烷高純氣及四氟甲烷高純氣、高純氧的混合氣，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。四氟化碳常溫常壓下穩(wěn)定，避免強(qiáng)氧化劑、易燃或可燃物。不燃?xì)怏w，遇高熱后容器內(nèi)壓增大，有開裂危險(xiǎn)?；瘜W(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，不燃。常溫下只有液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。 南通安全四氟化碳高性價(jià)比的選擇
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