四氟化碳

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-05-28

四氟甲烷(R-14)是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體,其高純氣及四氟甲烷高純氣配高純氧氣的混合氣,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷劑、泄漏檢驗(yàn)劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。四氟化碳的包裝可重復(fù)使用高壓鋼瓶包裝(需回收包裝鋼瓶)。四氟化碳有時(shí)會(huì)用作低溫冷卻劑。它可用于電路板的制造,以及制造絕緣物質(zhì)和半導(dǎo)體。它是用作氣體蝕刻劑及等離子體蝕刻版。在蝕刻過(guò)程中,用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉。四氟化碳

    四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子體蝕刻氣體,用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測(cè)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤(rùn)滑劑及制動(dòng)液等方面也有大量應(yīng)用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng),CF4還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當(dāng)今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點(diǎn)和發(fā)展趨勢(shì)是超純、超凈、多品種、多規(guī)模,各國(guó)為推動(dòng)本國(guó)微電子工業(yè)的發(fā)展,越來(lái)越重視發(fā)展特種電子氣體的生產(chǎn)技術(shù)。就目前而言,CF4以其相對(duì)低廉的價(jià)格長(zhǎng)期占據(jù)著蝕刻氣體的市場(chǎng),因此具有廣闊的發(fā)展?jié)摿Α?杭州安全四氟化碳與可燃性氣體一起燃燒時(shí),發(fā)生分解,產(chǎn)生的氧化物。

    四氟化碳一般認(rèn)為是惰性低毒物質(zhì),在高濃度下是窒息劑,其毒性不及四氯化碳。安全防護(hù)四氟化碳為非腐蝕性氣體,所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅,鋁等金屬材料都可以使用,但是含鎂大于2%的合金不能用。在高溫,一些金屬起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增長(zhǎng)的次序由小到大地排列則如下:因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀??梢杂镁鬯姆蚁h(huán)氧樹(shù)脂和醋酸纖維。尼龍?jiān)诟邷兀兴涂諝鈺r(shí)變脆。聚三氟氯乙烯聚合體可以用,但稍微有膨脹。廢氣可直接排人大氣中。

    四氟化碳又稱四氟甲烷,被視為一種無(wú)機(jī)化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩(wěn)定,但是需要避免接觸強(qiáng)氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃?xì)怏w,如果遇到高熱后會(huì)造成容器內(nèi)壓增大,有開(kāi)裂危險(xiǎn)。通常常溫下只會(huì)與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體,可廣用于硅、二氧化硅,磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗,太陽(yáng)能電池的生產(chǎn),激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗(yàn)劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面都有著大量的應(yīng)用。 R-14制冷劑,別名R14、氟利昂14、PFC-14,商品名稱有Freon 14等。

高純四氟化碳和六氟化硫產(chǎn)品滿足重大專項(xiàng)/課題任務(wù)書研究?jī)?nèi)容和考核指標(biāo)規(guī)定的技術(shù)要求。項(xiàng)目的驗(yàn)收完成,標(biāo)志著黎明院開(kāi)發(fā)的高純度含氟電子氣體四氟化碳和六氟化硫產(chǎn)品,能夠滿足極大規(guī)模集成電路行業(yè)所需的高純度氣體需求,也標(biāo)志著極大規(guī)模集成電路行業(yè)用高純度四氟化碳和六氟化硫電子氣體實(shí)現(xiàn)了國(guó)產(chǎn)化。高純度四氟化碳和六氟化硫電子氣體是極大規(guī)模集成電路行業(yè)必須的清洗、蝕刻氣體。隨著極大規(guī)模集成電路技術(shù)的提升,芯片制程向14納米甚至7納米的邁進(jìn),其對(duì)電子氣體的純度要求越來(lái)越高。為此,黎明院借助科技重大專項(xiàng)平臺(tái),突破產(chǎn)物合成、精制提純、雜物分析、潔凈充裝等關(guān)鍵技術(shù),攻克了高純度四氟化碳和六氟化硫制備過(guò)程中微量雜質(zhì)的純化、分析等技術(shù)難題,制備出5.8N四氟化碳和5.5N六氟化硫,部分雜質(zhì)含量在0.1ppm以內(nèi)。在研發(fā)過(guò)程中,并建成了標(biāo)準(zhǔn)化潔凈間。


四氟化碳在高溫時(shí),或與可燃?xì)怏w一同燃燒時(shí),分解出有毒的氟化物。上海原裝四氟化碳高性價(jià)比的選擇

由于化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng),CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。四氟化碳

四氟化碳又名四氟甲烷。無(wú)色無(wú)臭無(wú)味氣體。分子量88.01。熔點(diǎn)-150℃。沸點(diǎn) -128℃。密度1.96克/立方厘米 (-184℃)。微溶于水。對(duì)熱非常穩(wěn)定。用于致冷劑、溶劑、潤(rùn)滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。四氟化碳具有很高的穩(wěn)定性,屬于完全不燃性氣體,但與可燃性氣體燃燒時(shí),會(huì)分解產(chǎn)生有毒氟化物。常溫下不與酸、堿及氧化劑反應(yīng),900℃以下不與Cu、Ni、W、Mo等過(guò)渡金屬反應(yīng),在碳弧溫度下緩慢分解。1 000℃不與碳、氫及甲烷反應(yīng)。室溫下可與液氨一金屬鈉試劑反應(yīng),高溫下可與堿金屬、堿土金屬及SiO 反應(yīng),生成相應(yīng)的氟化物。四氟化碳