晶閘管和可控硅，有什么區(qū)別？
1、概念不一樣：可控硅(SiliconControlledRectifier)簡(jiǎn)稱SCR，是一種大功率電孝改器元件，也稱晶閘管。三極管，全稱應(yīng)為半導(dǎo)體三極管，也稱雙極型晶體管、晶體三顫慎猜極管，是一種控制電流的半導(dǎo)體器件其作用是把微弱信號(hào)放大成幅度值較大的電信號(hào)，也用作無(wú)觸點(diǎn)開(kāi)關(guān)。
2、用處不一樣：可控硅（1）小功率塑封雙向可控硅通常用作聲光控?zé)艄庀到y(tǒng)。（2）功率塑封和鐵封可控硅通常用作功率型可控調(diào)壓電路。像可調(diào)壓輸出直流電源等等。（3）大功率高頻可控硅通常用作工業(yè)中高頻熔煉爐等。三極管，晶體三極管具有電流放大作用，其實(shí)質(zhì)是三極管能以基極電流微小的變化量來(lái)控制集電極電流較大的變化量。
3、分類(lèi)不一樣：可控硅：按關(guān)斷、導(dǎo)通及控制方式分類(lèi)按引腳和極性分類(lèi)按封裝形式分類(lèi)按電流容量分類(lèi)按關(guān)斷速度分類(lèi)非過(guò)零觸發(fā)分類(lèi)。三極管：按材質(zhì)分按結(jié)構(gòu)分按功能分按功率分按工作頻率分按結(jié)構(gòu)工藝分按安裝方式。 晶閘管T在工作過(guò)程中，它的陽(yáng)極A和陰極K與電源和負(fù)載連接，組成晶閘管的主電路。新疆IGBT單管可控硅（晶閘管）MACMIC原裝現(xiàn)貨
晶閘管陽(yáng)極與陰極間表現(xiàn)出很大的電阻，處于截止?fàn)顟B(tài)(稱為正向阻斷狀態(tài))，簡(jiǎn)稱斷態(tài)。當(dāng)陽(yáng)極電壓上升到某一數(shù)值時(shí)，晶閘管突然由阻斷狀態(tài)轉(zhuǎn)化為導(dǎo)通狀態(tài)，簡(jiǎn)稱通態(tài)。陽(yáng)極這時(shí)的電壓稱為斷態(tài)不重復(fù)峰值電壓(UDSM)，或稱正向轉(zhuǎn)折電壓(UBO)。導(dǎo)通后，元件中流過(guò)較大的電流，其值主要由限流電阻(使用時(shí)由負(fù)載)決定。在減小陽(yáng)極電源電壓或增加負(fù)載電阻時(shí)，陽(yáng)極電流隨之減小，當(dāng)陽(yáng)極電流小于維持電流IH時(shí)，晶閘管便從導(dǎo)通狀態(tài)轉(zhuǎn)化為阻斷狀態(tài)。由圖可看出，當(dāng)晶閘管控制極流過(guò)正向電流Ig時(shí)，晶閘管的正向轉(zhuǎn)折電壓降低，Ig越大，轉(zhuǎn)折電壓越小，當(dāng)Ig足夠大時(shí)，晶閘管正向轉(zhuǎn)折電壓很小，一加上正向陽(yáng)極電壓，晶閘管就導(dǎo)通。實(shí)際規(guī)定，當(dāng)晶閘管元件陽(yáng)極與陰極之間加上6V直流電壓時(shí)，能使元件導(dǎo)通的控制極**小電流(電壓)稱為觸發(fā)電流(電壓)。在晶閘管陽(yáng)極與陰極間加上反向電壓時(shí)，開(kāi)始晶閘管處于反向阻斷狀態(tài)，只有很小的反向漏電流流過(guò)。當(dāng)反向電壓增大到某一數(shù)值時(shí)，反向漏電流急劇增大，這時(shí)，所對(duì)應(yīng)的電壓稱為反向不重復(fù)峰值電壓(URSM)，或稱反向轉(zhuǎn)折(擊穿)電壓(UBR)。可見(jiàn)，晶閘管的反向伏安特性與二極管反向特性類(lèi)似。晶閘管晶閘管的開(kāi)通和關(guān)斷的動(dòng)態(tài)過(guò)程的物理過(guò)程較為復(fù)雜。遼寧可關(guān)斷可控硅（晶閘管）宏微全新原裝晶閘管在工業(yè)中的應(yīng)用越來(lái)越廣，隨著行業(yè)的應(yīng)用范圍增大。
晶閘管的種類(lèi)晶閘管有多種方式分類(lèi)管理方法。（1）按關(guān)閉、傳導(dǎo)和控制方式分類(lèi)晶閘管可分為普通晶閘管、晶閘管晶閘管、反向晶閘管、門(mén)極關(guān)斷晶閘管、btg晶閘管、溫控晶閘管和光控晶閘管。（B）在銷(xiāo)和分類(lèi)的極性晶閘管按其引腳和極性不同可分為二極晶閘管、三極晶閘管和四極晶閘管。（三）按封裝形式分類(lèi)晶閘管其包可分為金屬封裝的晶閘管，晶閘管塑料晶閘管和三種類(lèi)型的陶瓷封裝的。其中，所述金屬包晶閘管被分成螺栓形，板形，圓形殼狀等;塑料晶閘管被分成翅片型散熱器和無(wú)兩。（四）按電流容量分類(lèi)晶閘管按電流進(jìn)行容量不同可分為傳統(tǒng)大功率晶閘管、率控制晶閘管和小功率以及晶閘管三種。通常，大功率晶閘管多采用一些金屬殼封裝，而中、小功率通過(guò)晶閘管則多采用塑封或陶瓷材料封裝。（五）按關(guān)斷速度分類(lèi)根據(jù)它們的普通晶閘管關(guān)斷晶閘管，并且可以被劃分為高頻（快）晶閘管。晶閘管和可控硅的區(qū)別晶閘管(THYRISTOR)又稱SCR，屬于功率器件領(lǐng)域，是一種功率半導(dǎo)體開(kāi)關(guān)元件。SCR是它的縮寫(xiě)。根據(jù)其工作特性，可分為單向SCR(SCR)和雙向SCR(TRIAC)?？煽毓枰卜Q作一個(gè)晶閘管，它是由PNPN四層半導(dǎo)體材料構(gòu)成的元件。
具有單向?qū)щ娞匦?，而?yáng)極A與門(mén)極之間有兩個(gè)反極性串聯(lián)的PN結(jié)。因此，通過(guò)用萬(wàn)用表的R×100或R×1kQ檔測(cè)量普通晶閘管各引腳之間的電阻值，即能確定三個(gè)電極。具體方法是：將萬(wàn)用表黑表筆任接晶閘管某一極，紅表筆依次去觸碰另外兩個(gè)電極。若測(cè)量結(jié)果有一次阻值為幾千歐姆(kΩ)，而另一次阻值為幾百歐姆(Ω)，則可判定黑表筆接的是門(mén)極G。在阻值為幾百歐姆的測(cè)量中，紅表筆接的是陰極K，而在阻值為幾千歐姆的那次測(cè)量中，紅表筆接的是陽(yáng)極A，若兩次測(cè)出的阻值均很大，則說(shuō)明黑表筆接的不是門(mén)極G，應(yīng)用同樣方法改測(cè)其他電極，直到找出三個(gè)電極為止。也可以測(cè)任兩腳之間的正、反向電阻，若正、反向電阻均接近無(wú)窮大，則兩極即為陽(yáng)極A和陰極K，而另一腳即為門(mén)極G。普通晶閘管也可以根據(jù)其封裝形式來(lái)判斷出各電極。螺栓形普通晶閘管的螺栓一端為陽(yáng)極A，較細(xì)的引線端為門(mén)極G，較粗的引線端為陰極K。平板形普通晶閘管的引出線端為門(mén)極G，平面端為陽(yáng)極A，另一端為陰極K。金屬殼封裝(T0—3)的普通晶閘管，其外殼為陽(yáng)極A。塑封(T0—220)的普通晶閘管的中間引腳為陽(yáng)極A，且多與自帶散熱片相連。晶閘管觸發(fā)能力檢測(cè)：對(duì)于小功率(工作電流為5A以下)的普通晶閘管，可用萬(wàn)用表R×1檔測(cè)量?？煽毓璧娜觞c(diǎn)：靜態(tài)及動(dòng)態(tài)的過(guò)載能力較差；容易受干擾而誤導(dǎo)通。
認(rèn)識(shí)半導(dǎo)體晶閘管晶閘管又被稱做可控硅整流器，以前被簡(jiǎn)稱為可控硅。1957年美國(guó)通用電氣公司開(kāi)發(fā)出世界上第1款晶閘管產(chǎn)品，并于1958年將其商業(yè)化。晶閘管是PNPN四層半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，形成三個(gè)PN結(jié)，分別稱：陽(yáng)極，陰極和控制極。圖1晶閘管的結(jié)構(gòu)晶閘管在工作過(guò)程中，它的陽(yáng)極（A）和陰極（K）與電源和負(fù)載連接，組成晶閘管的主電路。晶閘管的門(mén)極G和陰極K與控制晶閘管的裝置連接，組成晶閘管的控制電路。工作過(guò)程加正向電壓且門(mén)極有觸發(fā)電流的情況下晶閘管才導(dǎo)通，這是晶閘管的閘流特性，即可控特性。若晶閘管承受反向陽(yáng)極電壓時(shí)，不管門(mén)極承受何種電壓，晶閘管都處于反向阻斷狀態(tài)。晶閘管在導(dǎo)通情況下，當(dāng)主回路電壓（或電流）減小到接近于零時(shí)，晶閘管關(guān)斷。晶閘管的種類(lèi)1．雙向晶閘管雙向晶閘管有極外G，其他兩個(gè)極稱為主電極Tl和T2。結(jié)構(gòu)是一種N—P—N—P—N型五層結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體器件。雙向晶閘管不象普通晶閘管那樣，必須在陽(yáng)極和陰極之間加上正向電壓，管子才能導(dǎo)通。它無(wú)所謂陽(yáng)極和陰極，不管觸發(fā)信號(hào)的極性如何，雙向晶閘管都能被觸發(fā)導(dǎo)通。這個(gè)特點(diǎn)是普通晶閘管所沒(méi)有的。2．快速晶閘管人們?cè)谄胀ňчl管的制造工藝和結(jié)構(gòu)上采取了一些改進(jìn)措施。不管可控硅的外形如何，它們的管芯都是由P型硅和N型硅組成的四層P1N1P2N2結(jié)構(gòu)。貴州igbt供應(yīng)商可控硅（晶閘管）MACMIC原裝現(xiàn)貨
igbt驅(qū)動(dòng)開(kāi)關(guān)逆導(dǎo)可控硅型號(hào)齊全現(xiàn)貨銷(xiāo)售；新疆IGBT單管可控硅（晶閘管）MACMIC原裝現(xiàn)貨
由此形成在腔502的壁上的熱氧化物層304可以在襯底和區(qū)域306的上表面上連續(xù)。在圖2e的步驟中，腔502被填充，例如直到襯底的上部水平或者直到接近襯底的上部水平的水平。為此目的，例如執(zhí)行摻雜多晶硅的共形沉積。然后將多晶硅向下蝕刻至期望水平。因此在區(qū)域306的任一側(cè)上獲得兩個(gè)區(qū)域302。在圖2f的步驟中，去除位于襯底以及區(qū)域302和306的上表面上的可能元件，諸如層304的可接近部分。然后形成可能的層42和層40。通過(guò)圖2a至圖2f的方法獲得的結(jié)構(gòu)30的變型與圖1的結(jié)構(gòu)30的不同之處在于，區(qū)域306與區(qū)域302分離并且一直延伸到層40或可能的層42，并且該變型包括在區(qū)域306的任一側(cè)上的兩個(gè)區(qū)域302。每個(gè)區(qū)域302與層40電接觸。每個(gè)區(qū)域302通過(guò)層304與襯底分離。可以通過(guò)與圖2a至圖2f的方法類(lèi)似的方法來(lái)獲得結(jié)構(gòu)30a，其中在圖2b和圖2c的步驟之間進(jìn)一步提供方法來(lái)形成掩蔽層，該掩蔽層保護(hù)位于溝槽22的單側(cè)上的壁上的層308，并且使得層308在溝槽的另一側(cè)上被暴露。在圖2c的步驟中獲得單個(gè)腔502。已描述了特定實(shí)施例。本領(lǐng)域技術(shù)人員將容易想到各種改變、修改和改進(jìn)。特別地，結(jié)構(gòu)30和30a及其變體可以被使用在利用襯底上的傳導(dǎo)區(qū)域通過(guò)絕緣層的靜電影響的任何電子部件(例如，晶體管)。新疆IGBT單管可控硅（晶閘管）MACMIC原裝現(xiàn)貨