重慶非標(biāo)真空設(shè)備腔體設(shè)計(jì)

真空腔體的維護(hù)工作內(nèi)容：

（1）真空腔體安裝好后，通入相應(yīng)量的氮?dú)獗?0分鐘，檢查有無(wú)泄漏，如發(fā)現(xiàn)有泄漏請(qǐng)用肥皂沫查找管路、管口泄漏點(diǎn)，找出后放掉氣體擰緊，再次通入氮?dú)獗涸囼?yàn)，無(wú)泄漏后開始正常工作。

（2）當(dāng)降溫冷卻時(shí)，可用水經(jīng)冷卻盤管進(jìn)行內(nèi)冷卻，禁止速冷，以免過大的溫差應(yīng)力，造成冷卻盤管、釜體產(chǎn)生裂紋。工作時(shí)當(dāng)釜內(nèi)溫度大于100℃時(shí)，磁力攪拌器與釜蓋間的水套應(yīng)通冷卻水，使得水溫小于35℃，以免磁鋼退磁。

（3）保護(hù)裝置：采用正拱型金屬爆破片，材質(zhì)為不銹鋼，出廠時(shí)已試驗(yàn)好，不得隨意調(diào)整。如果已爆破，需重新更換，更換期限由使用單位根據(jù)本單位的實(shí)際情況確定，對(duì)于大于爆破片標(biāo)定爆破壓力而未爆破的應(yīng)更換，經(jīng)常使用建議不大于爆破片的下限壓力的80%，更換時(shí)應(yīng)注意爆破片凸面向上。

（4）反應(yīng)完畢后，先進(jìn)行冷卻降溫，再將真空腔體內(nèi)的氣體通過管路泄放到室外，使釜內(nèi)壓力降至常壓，嚴(yán)禁帶壓拆卸，再將主螺栓、螺母對(duì)稱地松開卸下，然后小心的取下釜蓋（或升起釜蓋）置于支架上，卸蓋過程中應(yīng)特別注意保護(hù)密封面。

（5）釜內(nèi)的清冼：每次真空腔體操作完畢后，應(yīng)經(jīng)常清洗并保持干凈，不允許用硬物質(zhì)或表面粗糙的物品進(jìn)行清洗。 真空腔體可以直接連接多個(gè)真空設(shè)備，還可以作為連接器，把不同的管路連接起來，構(gòu)建一個(gè)完整的真空系統(tǒng)。重慶非標(biāo)真空設(shè)備腔體設(shè)計(jì)

真空腔體幾種表面處理方法：

超聲波拋光：將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場(chǎng)中，依靠超聲波的振蕩作用，使磨料在工件表面磨削拋光。超聲波加工宏觀力小，不會(huì)引起工件變形，但工裝制作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學(xué)或電化學(xué)方法結(jié)合。在溶液腐蝕、電解的基礎(chǔ)上，再施加超聲波振動(dòng)攪拌溶液，使工件表面溶解產(chǎn)物脫離，表面附近的腐蝕或電解質(zhì)均勻；超聲波在液體中的空化作用還能夠抑制腐蝕過程，利于表面光亮化。流體拋光：流體拋光是依靠高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的。常用方法有：磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動(dòng)力研磨等。流體動(dòng)力研磨是由液壓驅(qū)動(dòng)，使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過工件表面。 天津鍍膜機(jī)腔體大學(xué)和研發(fā)中心需要特殊的真空腔體(箱體)做為他們的實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)，結(jié)合靈活性和小體積及低運(yùn)營(yíng)成本。

不銹鋼真空腔體廣普遍應(yīng)用于表面研究、分子束外延（MBE）生長(zhǎng)、電子能譜儀、粒子加速器等領(lǐng)域中。一般而言，腔體呈橢球、圓柱形等，在其柱壁上根據(jù)需要制造一些接口，用于連接測(cè)量及生長(zhǎng)設(shè)備，連接視窗后也可供實(shí)驗(yàn)者觀察腔內(nèi)情況。這些接口被稱為法蘭口，法蘭的尺寸有相應(yīng)的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，根據(jù)實(shí)驗(yàn)需要和接入儀器的法蘭接口大小在設(shè)計(jì)腔體時(shí)就要考慮好每個(gè)法蘭口的大小角度，位置等參數(shù)。事實(shí)上，設(shè)計(jì)真空腔體的難點(diǎn)，就是要在有限的腔體表面上，設(shè)計(jì)出合理的法蘭數(shù)和法蘭位置，令腔體功能在滿足實(shí)驗(yàn)要求的同時(shí)具有進(jìn)一步擴(kuò)展的靈活性，以適應(yīng)實(shí)驗(yàn)者不斷提出的新想法和新要求。

真空腔體一般是指通過真空裝置對(duì)反應(yīng)釜進(jìn)行抽真空，讓物料在真空狀態(tài)下進(jìn)行相關(guān)物化反應(yīng)的綜合反應(yīng)容器，可實(shí)現(xiàn)真空進(jìn)料、真空脫氣、真空濃縮等工藝。可根據(jù)不同的工藝要求進(jìn)行不同的容器結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和參數(shù)配置，實(shí)現(xiàn)工藝要求的真空狀態(tài)下加熱、冷卻、蒸發(fā)、以及低高配的混配功能，具有加熱快、抗高溫、耐腐蝕、環(huán)境污染小、自動(dòng)加熱、使用方便等特點(diǎn)，是食品、生物制藥、精細(xì)化工等行業(yè)常用的反應(yīng)設(shè)備之一，用來完成硫化、烴化、氫化、縮合、聚合等的工藝反應(yīng)過程。真空腔體的結(jié)構(gòu)特征如下：1、結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)需能在真空狀態(tài)下不失穩(wěn)，因?yàn)檎婵諣顟B(tài)下對(duì)鋼材厚度和缺陷要求很嚴(yán)格；2、釜軸的密封采用特殊衛(wèi)生級(jí)機(jī)械密封設(shè)計(jì)，也可采用填料密封和磁力密封，密封程度高，避免外部空氣進(jìn)入影響反應(yīng)速度，同時(shí)使得物料不受污染；3、采用聚氨酯和巖棉作為保溫材料，并配備衛(wèi)生級(jí)壓力表；4、真空腔體反應(yīng)過程中可采用電加熱、內(nèi)外盤管加熱、導(dǎo)熱油循環(huán)加熱等加熱方式，以滿足耐酸、耐堿、抗高溫、耐腐蝕等不同工作環(huán)境的工藝需求。5、真空系統(tǒng)包括真空泵、循環(huán)水箱、緩沖罐、單向閥等組成，是一個(gè)連鎖系統(tǒng)，配合使用。真空腔體是一種被設(shè)計(jì)用來產(chǎn)生真空環(huán)境的裝置。

不銹鋼真空腔體功能劃分集中，主要為生長(zhǎng)區(qū)，傳樣測(cè)量區(qū)，抽氣區(qū)三個(gè)部分。對(duì)于分子束外延生長(zhǎng)腔，重要的參數(shù)是其中心點(diǎn)A的位置，即樣品在生長(zhǎng)過程中所處的位置。所以蒸發(fā)源，高能電子衍射（RHEED）元件，高能電子衍射屏，晶體振蕩器，生長(zhǎng)擋板，CCD，生長(zhǎng)觀察視窗的法蘭口均對(duì)準(zhǔn)中心點(diǎn)。蒸發(fā)源：由鎢絲加熱盛放生長(zhǎng)物質(zhì)的堆塌，通過熱偶絲測(cè)量溫度，堆鍋中的物質(zhì)被加熱蒸發(fā)出來，在處于不銹鋼真空腔體中心點(diǎn)的襯底上外延形成薄膜。每個(gè)蒸發(fā)源都有其各自的蒸發(fā)源擋板控制源的開閉，可以長(zhǎng)出多成分或成分連續(xù)變化的薄膜樣品。在半導(dǎo)體制造中，真空系統(tǒng)主要用于減少空氣中的污染物對(duì)芯片生產(chǎn)過程的影響。河北鍍膜機(jī)腔體

真空泵：用于排除真空腔體內(nèi)的氣體并維持真空狀態(tài)。重慶非標(biāo)真空設(shè)備腔體設(shè)計(jì)

真空腔體幾種表面處理方法：化學(xué)拋光：化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備，可以拋光形狀復(fù)雜的工件,可以同時(shí)拋光很多工件，效率高?；瘜W(xué)拋光的問題是拋光液的配制?；瘜W(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm。電解拋光：電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。與化學(xué)拋光相比，可以消除陰極反應(yīng)的影響，效果較好。電化學(xué)拋光過程分為兩步：（1）宏觀整平溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散，材料表面幾何粗糙下降，Ra>1μm。（2）微光平整陽(yáng)極極化，表面光亮度提高，Ra＜1μm。重慶非標(biāo)真空設(shè)備腔體設(shè)計(jì)