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以及位于所述外腔體內的用于進行工藝反應的內反應腔；所述內反應腔的側壁上設有自動門，所述自動門連接自動門控制器，工件自所述外腔體經所述自動門進入所述內反應腔中。進一步地，所述外腔體包括寶來利真空底板和沿所述寶來利真空底板周向設置的寶來利真空側壁；所述內反應腔包括第二底板和沿所述第二底板周向設置的第二側壁；所述寶來利真空底板與所述第二底板相互分離設置，所述寶來利真空側壁與所述第二側壁相互分離設置；所述寶來利真空側壁與蓋設于所述寶來利真空側壁上的密封蓋板密閉連接，所述第二側壁與所述密封蓋板相互分離設置。進一步地，所述自動門設置于所述第二側壁上，所述外腔體內設有傳送裝置，所述工件自所述傳送裝置經所述自動門傳遞至所述內反應腔中。進一步地，所述第二底板和/或所述第二側壁上設有用于對所述內反應腔進行控溫的溫控裝置。進一步地，所述溫控裝置包括溫控管，所述溫控管連接位于外腔體外的恒溫控制器。進一步地，所述溫控管包括加熱管和/或冷卻管。進一步地，所述加熱管包括電加熱管、水加熱管或油加熱管；所述冷卻管包括水冷卻管或油冷卻管。進一步地，所述溫控管纏繞于所述第二側壁的外部，且所述溫控管鋪設于所述第二底板的底部。 品質真空鍍膜設備，請選丹陽市寶來利真空機電有限公司，可鍍玫瑰金，有需要來咨詢！江蘇汽車零部件真空鍍膜設備廠家直銷

所描述的實施例寶來利寶來利是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。請參閱圖1-5，本實用新型提供一種技術方案：一種高分子等離子表面真空鍍膜設備，包括腔體1、基板2和坩堝3，腔體1內壁底部的兩側分別固定連接有加熱器和冷凝器，坩堝3放置在加熱板14的頂部，腔體1左側的底部固定連接有抽風機21，并且抽風機21進風口的一端連通有風管22，風管22遠離抽風機21的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內部，腔體1左側的頂部固定連接有電機16，電機16通過導線與控制開關及外部電源連接，并且電機16輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿17，雙向螺紋桿17表面的兩側且位于腔體1的內部均螺紋連接有活動塊18，兩個活動塊18的底部均固定連接有限位板19，兩個限位板19相對的一側均開設有與基板2相適配的限位槽，并且兩個活動塊18的頂部均通過第二滑軌20與腔體1內壁的頂部滑動連接，雙向螺紋桿17遠離電機16的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內部，雙向螺紋桿17位于腔體1內部的一端與腔體1內壁的右側通過軸承轉動連接，腔體1底部的四角均固定連接有支撐腿4。 上海護目鏡真空鍍膜設備生產企業(yè)寶來利真空鍍膜設備性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，鎳鉻，有需要可以咨詢！

在進一步的實施例中，結合圖1可得，沉降組件包括沉降管51、擠壓管52、氣缸53及水箱55；沉降管51安裝在抽氣管3上；擠壓管52安裝在沉降管51遠離真空泵4的側壁上、且擠壓管52與沉降管51之間連通；水箱55安裝在真空泵4與擠壓管52中間、且水箱55與擠壓管52之間連通；氣缸53安裝在擠壓管52遠離沉降管51一側；擠壓管52內設有活塞54；氣缸53的伸縮軸穿過擠壓管52并與活塞54連接；通過擠壓活塞54，對擠壓管52內的水擠壓，使其噴出到沉降管51中，沉降粉塵。在進一步的實施例中，結合圖1和圖3可得，沉降管51遠離擠壓管52一側設有出水口；出水口上設有塞蓋511；擠壓管52靠近沉降管51處設有第二過濾網521；當沉降管51內水過多時，打開塞蓋511排出廢水及粉塵，第二過濾網521用于防止粉塵進行擠壓管52中污染水源。在進一步的實施例中，結合圖2所示，頂蓋22側壁設有寶來利真空凸塊221；第二連接套2內側壁靠近頂蓋22處設有寶來利真空凹槽21；寶來利真空凸塊221嵌于寶來利真空凹槽21中；頂蓋22遠離鍍膜機1一側與寶來利真空凹槽21靠近抽氣管3一側通過彈簧連接；寶來利真空凸塊221與寶來利真空凹槽21配合用于對頂蓋22的移動方向進行限位，保證其準確的蓋在出氣管11口上。在進一步的實施例中。

所述抽氣管遠離所述鍍膜機一側設有沉降組件。進一步地，所述寶來利真空連接套遠離所述鍍膜機一側設有寶來利真空安裝位；所述寶來利真空安裝位位于所述出氣管兩側；所述寶來利真空安裝位內固定有電磁鐵；所述頂蓋靠近所述鍍膜機一側設有第二安裝位；所述第二安裝位與所述寶來利真空安裝位位置相對應；所述第二安裝位內固定有磁片。進一步地，所述沉降組件包括沉降管、擠壓管、氣缸及水箱；所述沉降管安裝在所述抽氣管上；所述擠壓管安裝在所述沉降管遠離所述真空泵的側壁上、且所述擠壓管與所述沉降管之間連通；所述水箱安裝在所述真空泵與所述擠壓管中間、且所述水箱與所述擠壓管之間連通；所述氣缸安裝在所述擠壓管遠離所述沉降管一側；所述擠壓管內設有活塞；所述氣缸的伸縮軸穿過所述擠壓管并與所述活塞連接。進一步地，所述沉降管遠離所述擠壓管一側設有出水口；所述出水口上設有塞蓋；所述擠壓管靠近所述沉降管處設有第二過濾網。進一步地，所述頂蓋側壁設有寶來利真空凸塊；所述第二連接套內側壁靠近所述頂蓋處設有寶來利真空凹槽；所述寶來利真空凸塊嵌于寶來利真空凹槽中；所述頂蓋遠離所述鍍膜機一側與所述寶來利真空凹槽靠近抽氣管一側通過彈簧連接。進一步地。 寶來利真空鍍膜設備性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，鐘表鍍膜，有需要可以咨詢！

真空鍍膜設備在操作過程中，膜層不均勻的可能原因主要包括靶材與基片的距離不當、磁場設計不均勻以及乙炔引入不均勻等。具體內容如下：距離問題：靶材與待鍍基片之間的距離若未優(yōu)化，會影響濺射的均勻性。磁場設計問題：磁控濺射的均勻性在很大程度上依賴于磁場的設計，如果磁場分布和強度不均，則會導致膜層均勻度不佳。氣體引入問題：如乙炔在反應濺射過程中引入不均，也會導致沉積膜層的質量在基片上存在差異。為了解決這些問題，可以考慮以下方案：調整靶材與基片間的距離：確保兩者間距離適宜，以便改善濺射的均勻性。優(yōu)化磁場設計：通過改善和優(yōu)化磁場的分布及強度，提高靶材表面離子轟擊的均勻性，進而提升膜層均勻度。旋轉基片或靶材：在濺射過程中，改變它們的相對位置和角度，使得材料能夠更均勻地分布在基片上。寶來利監(jiān)控探頭真空鍍膜設備性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，細膩有光澤，有需要可以來咨詢！上海護目鏡真空鍍膜設備生產企業(yè)

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