半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印推薦產(chǎn)品

    首先準(zhǔn)備一塊柔性薄膜作為彈性基底層，然后將巰基-烯預(yù)聚物旋涂在具有表面結(jié)構(gòu)的母板上，彈性薄膜壓印在巰基-烯層上，與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過“點(diǎn)擊反應(yīng)”形成交聯(lián)聚合物，不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后，彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起，獲得雙層結(jié)構(gòu)的復(fù)合柔性模板。由于良好的材料特性，剛性巰基-烯結(jié)構(gòu)層可以實(shí)現(xiàn)較高的分辨率。因此，利用該方法可以制備高 分辨的復(fù)合柔性模板，經(jīng)過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結(jié)構(gòu)復(fù)合軟壓印模板。相關(guān)研究成果發(fā)表于《納米科技與納米技術(shù)雜志》（JournalofNanoscienceandNanotechnology）。（來自網(wǎng)絡(luò)。步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印推薦產(chǎn)品

HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統(tǒng)達(dá)300毫米

結(jié)合EVG的SmartNIL一個(gè)完全模塊化平臺(tái)®技術(shù)支持AR / VR，3D傳感器，光子和生物技術(shù)生產(chǎn)應(yīng)用

EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個(gè)完全集成的跟 蹤系統(tǒng)，將清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻（NIL）工藝結(jié)合在一個(gè)平臺(tái)上，用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個(gè)基于EVG的全模塊化設(shè)備平臺(tái)和可交換模塊的NIL系統(tǒng)，可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統(tǒng)，以比較好地滿足其生產(chǎn)需求，包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。

湖北納米壓印一級(jí)代理EVG ? 610也可以設(shè)計(jì)成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。

    具體說來就是，MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動(dòng)，因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來或正或負(fù)的電荷），以確保跨各組件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控，摻雜有時(shí)會(huì)泄到別的不需要的地方，那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域，并導(dǎo)致性能下降。一個(gè)典型MOSFET不同層級(jí)的剖面圖。不過威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個(gè)合作伙伴攜手（包括密歇根大學(xué)、德克薩斯大學(xué)、以及加州大學(xué)伯克利分校等），開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù)。研究人員通過電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形，從而帶來更加“物理可控”的生產(chǎn)過程。（來自網(wǎng)絡(luò)。

EVG ® 6200 NT特征：

頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力

高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)

自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列

電動(dòng)和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版

EVG ® 6200 NT附加功能：

鍵對(duì)準(zhǔn)

紅外對(duì)準(zhǔn)

智能NIL ®

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：75至200 mm

柔軟的UV-NIL：75至200毫米

SmartNIL ®：**多至150mm

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對(duì)準(zhǔn)：軟NIL：≤±0.5 μm；SmartNIL ®：≤±3微米

自動(dòng)分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部；SmartNIL ®：支持

HERCULES NIL 300 mm提供市場(chǎng)上**納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速高功率曝光和平滑壓模分離。

EVG ® 510 HE熱壓印系統(tǒng)

應(yīng)用：高度靈活的熱壓印系統(tǒng)，用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)

EVG510 HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。該設(shè)備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng)，提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝。

EVG ® 510 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用

自動(dòng)化壓花工藝

EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執(zhí)行

閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng)

外部浮雕和冷卻站 EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)還有：EVG?7200LA，HERCULES?NIL，EVG?770，IQAligner?等。半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印推薦產(chǎn)品

納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本的技術(shù)，大批量替代光刻技術(shù)。半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印推薦產(chǎn)品

客戶示范

■工藝開發(fā)

■材料測(cè)試

■與合作伙伴共同研發(fā)

■資助項(xiàng)目

■小批量試生產(chǎn)

■IP管理

■過程技術(shù)許可證

■流程培訓(xùn)

→世界前列的潔凈室基礎(chǔ)設(shè)施

→**的設(shè)備

→技術(shù)**

→**計(jì)量

→工藝知識(shí)

→應(yīng)用知識(shí)

→與NIL的工作印模材料和表面化學(xué)有關(guān)的化學(xué)專業(yè)知識(shí)

新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。

岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。

半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印推薦產(chǎn)品