Nano X輪廓儀輪廓測量應(yīng)用

輪廓儀，能描繪工件表面波度與粗糙度，并給出其數(shù)值的儀器，采用精密氣浮導(dǎo)軌為直線基準。輪廓測試儀是對物體的輪廓、二維尺寸、二維位移進行測試與檢驗的儀器，作為精密測量儀器在汽車制造和鐵路行業(yè)的應(yīng)用十分廣范。（來自網(wǎng)絡(luò)）先進的輪廓儀集成模塊60年世界水平半導(dǎo)體檢測技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化經(jīng)驗所有的關(guān)鍵硬件采用美國、德國、日本等PI，納米移動平臺及控制Nikon，干涉物鏡NI，信號控制板和Labview64控制軟件TMC隔震平臺世界先進水平的計算機軟硬件技術(shù)平臺VS2012/64位。支持連接MES系統(tǒng)，數(shù)據(jù)可導(dǎo)入SPC。Nano X輪廓儀輪廓測量應(yīng)用

輪廓儀在集成電路的應(yīng)用封裝Bump測量視場：72*96（um）物鏡：干涉50X檢測位置：樣品局部面減薄表面粗糙度分析封裝：300mm硅片背面減薄表面粗糙度分析面粗糙度分析：2D,3D顯示；線粗糙度分析：Ra,Ry，Rz，…器件多層結(jié)構(gòu)臺階高MEMS器件多層結(jié)構(gòu)分析、工藝控制參數(shù)分析激光隱形切割工藝控制世界為一的能夠?qū)崿F(xiàn)激光槽寬度、深度自動識別和數(shù)據(jù)自動生成，大達地縮短了激光槽工藝在線檢測的時間，避免人工操作帶來的一致性，可靠性問題歡迎咨詢。計量院輪廓儀用途是什么粗糙度儀的功能是測量零件表面的磨加工/精車加工工序的表面加工質(zhì)量。

輪廓儀的物鏡知多少?白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理，以三維非接觸時方法測量分析樣片表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸，典型結(jié)果包括：表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，臺階高度，錐角等）幾何特征（關(guān)鍵孔徑尺寸，曲率半徑，特征區(qū)域的面積和集體，特征圖形的位置和數(shù)量等）白光干涉系統(tǒng)基于無限遠顯微鏡系統(tǒng)，通過干涉物鏡產(chǎn)生干涉條紋，使基本的光學(xué)顯微鏡系統(tǒng)變?yōu)榘坠飧缮鎯x。因此物鏡是輪廓儀蕞河心的部件，物鏡的選擇根據(jù)功能和檢測的精度提出需求，為了滿足各種精度的需求，需要提供各種物鏡，例如標配的10×，還有2.5×，5×，20×，50×，100×，可選。不同的鏡頭價格有很大的差別，因此需要量力根據(jù)需求來選擇配對應(yīng)的鏡頭。

涵蓋面廣的2D、3D形貌參數(shù)分析：表面三維輪廓儀可測量300余種2D、3D參數(shù)，無論加工的物件使用哪一種評定標準，都可以提供權(quán)面的檢測結(jié)果作為評定依據(jù)，可輕松獲取被測物件精確的線粗糙度、面粗糙度、輪廓度等參數(shù)。四、穩(wěn)定性強，高重復(fù)性：儀器運用高性能內(nèi)部抗震設(shè)計，不受外部環(huán)境影響測量的準確性。超精密的Z向掃描模塊和測量軟件完美結(jié)合，保證高重復(fù)性，將測量誤差降低到亞納米級別。三維表面輪廓儀是精密加工領(lǐng)域必不可少的檢測設(shè)備，它既保障了生產(chǎn)加工的準確性，又提高了成品的出產(chǎn)效率，滿足用戶對各項2D，3D參數(shù)檢測需求的同時，還依然能夠保持高重復(fù)性，高穩(wěn)定性的運行，其對精密加工所產(chǎn)生的的作用是舉足輕重的。產(chǎn)能 : 45s/點 （移動 + 聚焦 + 測量）（掃描范圍 50um）。

NanoX-8000系統(tǒng)主要性能?菜單式系統(tǒng)設(shè)置，一鍵式操作，自動數(shù)據(jù)存儲?一鍵式系統(tǒng)校準?支持連接MES系統(tǒng)，數(shù)據(jù)可導(dǎo)入SPC?具備異常報警，急停等功能，報警信息可儲存?MTBF≥1500hrs?產(chǎn)能:45s/點（移動+聚焦+測量）（掃描范圍50um）?具備Globalalignment&Unitalignment?自動聚焦范圍：±0.3mm?XY運動速度蕞快如果需要了解更多詳細參數(shù)，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。我們主要經(jīng)營鍵合機、光刻機、輪廓儀，隔振臺等設(shè)備。輪廓儀可用于Oled 特征結(jié)構(gòu)測量，表面粗糙度，外延片表面缺 陷檢測，硅片外延表面缺 陷檢測。美國輪廓儀自動化測量

配置Barcode 掃描板邊二維碼，可自動識別產(chǎn)品信息。Nano X輪廓儀輪廓測量應(yīng)用

比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導(dǎo)體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本，復(fù)雜度，和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和強度，使得橢偏儀對超薄和復(fù)雜的薄膜堆有較強的測量能力。然而，偏振分析意味著需要昂貴的精密移動光學(xué)儀器。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應(yīng)（絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對稱）。因為不涉及任何移動設(shè)備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的手選，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術(shù)都可用。而且具有快速，簡便，成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。Nano X輪廓儀輪廓測量應(yīng)用