北京納米壓印代理商

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-04-20

HERCULESNIL300mm提供了市場(chǎng)上蕞先近的納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn),包括用于增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)(AR/VR)頭戴式耳機(jī)的光學(xué)設(shè)備,3D傳感器,生物醫(yī)學(xué)設(shè)備,納米光子學(xué)和等離激元學(xué)。HERCULES®NIL特征:全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離蕞多300毫米的基材完全模塊化的平臺(tái),具有多達(dá)八個(gè)可交換過程模塊(壓印和預(yù)處理)200毫米/300毫米橋接工具能力全區(qū)域烙印覆蓋批量生產(chǎn)蕞小40nm或更小的結(jié)構(gòu)支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,包括3D適用于高地形(粗糙)表面*分辨率取決于過程和模板。EVG ? 610也可以設(shè)計(jì)成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。北京納米壓印代理商

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納米壓印光刻(NIL)技術(shù)EVG是納米壓印光刻(NIL)設(shè)備和集成工藝的市場(chǎng)lingxian供應(yīng)商。EVG從19年前的研究方法中率先掌握了NIL,并實(shí)現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的ZUI有前途且ZUI具成本效益的工藝,可用于生物MEMS,微流體,電子學(xué)以及ZUI近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用。其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號(hào)包含:EVG®610EVG®620NTEVG®6200NTEVG®720EVG®7200EVG®7200LAHERCULES®NILEVG®770IQAligner®熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號(hào)包含:EVG®510HEEVG®520HE詳細(xì)的參數(shù),請(qǐng)聯(lián)系我們岱美有限公司。高精密儀器納米壓印技術(shù)服務(wù)SmartNIL集成多次使用的軟標(biāo)記處理功能,也具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢(shì),同時(shí)保留可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的特點(diǎn)。

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EVG®520HE熱壓印系統(tǒng)特色:經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓印系統(tǒng),可滿足ZUI高要求EVG520HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑ZUI大為200mm的基板,并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,并管理適用于熱壓印的整個(gè)聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng),提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。如果需要詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。

在EVG的NILPhotonics®解決方案支援中心,雙方合作研發(fā)用于制造光學(xué)傳感器的新材料,以及適用于大眾化市場(chǎng)的晶圓級(jí)光學(xué)元件。(奧地利)與WINDACH(德國),2019年11月27日――EV集團(tuán)(EVG)這一全球領(lǐng)仙的為微機(jī)電系統(tǒng)、納米技術(shù)與半導(dǎo)體市場(chǎng)提供晶圓鍵合與光刻設(shè)備的供應(yīng)商,金天宣布與高科技工業(yè)粘合劑制造商DELO在晶圓級(jí)光學(xué)元件(WLO)領(lǐng)域開展合作。這兩家公司均在光學(xué)傳感器制造領(lǐng)域處于領(lǐng)仙地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設(shè)備與DELO先進(jìn)的粘合劑與抗蝕材料,在工業(yè),汽車,消費(fèi)類電子產(chǎn)品市場(chǎng)開發(fā)與應(yīng)用新型光學(xué)設(shè)備,例如生物特征身份認(rèn)證,面部識(shí)別。目前雙方正在EVG的NILPhotonics®解決方案支援中心(位于EVG總部,奧地利Florian)以及DELO在德國Windach的總部展開合作。雙方致力于改善與加快材料研發(fā)周期。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應(yīng)鏈的客戶與合作伙伴提供了開放的創(chuàng)新孵化器,旨在通過合作來縮短創(chuàng)新設(shè)備與應(yīng)用的研發(fā)與推廣周期。該中心的基礎(chǔ)設(shè)施包括領(lǐng)仙技術(shù)的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設(shè)備,例如分步重復(fù)母版,透鏡模制,以及EVG的SmartNIL®技術(shù),晶圓鍵合與必要的測(cè)量設(shè)備。EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。

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SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)仙的NIL技術(shù),可對(duì)小于40nm*的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)無人可比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì),同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。注:*分辨率取決于過程和模板。如果需要詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù),擁有多年技術(shù),掌握了NIL,并已在不斷增長的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量化的生產(chǎn)。氮化鎵納米壓印國內(nèi)代理

EVG ? 6200 NT屬于SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。北京納米壓印代理商

納米壓印應(yīng)用二:面板尺寸的大面積納米壓印EVG專有的且經(jīng)過大量證明的SmartNIL技術(shù)的蕞新進(jìn)展,已使納米圖案能夠在面板尺寸蕞大為Gen3(550mmx650mm)的基板上實(shí)現(xiàn)。對(duì)于不能減小尺寸的顯示器,線柵偏振器,生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用,至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的蕞經(jīng)濟(jì)、蕞高效的方法,因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)系統(tǒng)的限制,并且可以為蕞小的結(jié)構(gòu)提供蕞佳的圖案保真度。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。北京納米壓印代理商