干涉測(cè)量輪廓儀學(xué)校會(huì)用嗎

如何正確使用輪廓儀

準(zhǔn)備工作

1.測(cè)量前準(zhǔn)備。

2.開(kāi)啟電腦、打開(kāi)機(jī)器電源開(kāi)關(guān)、檢查機(jī)器啟動(dòng)是否正常。

3.擦凈工件被測(cè)表面。

測(cè)量

1.將測(cè)針正確、平穩(wěn)、可靠地移動(dòng)在工件被測(cè)表面上。

2.工件固定確認(rèn)工件不會(huì)出現(xiàn)松動(dòng)或者其它因素導(dǎo)致測(cè)針與工件相撞的情況出現(xiàn)

3.在儀器上設(shè)置所需的測(cè)量條件。

4.開(kāi)始測(cè)量。測(cè)量過(guò)程中不可觸摸工件更不可人為震動(dòng)桌子的情況產(chǎn)生。

5.測(cè)量完畢，根據(jù)圖紙對(duì)結(jié)果進(jìn)行分析，標(biāo)出結(jié)果，并保存、打印。

輪廓的角度處理:  

角度處理：兩直線夾角、直線與Y軸夾角、直線與X軸夾角點(diǎn)線處理：兩直線交點(diǎn)、交點(diǎn)到直線距離、交點(diǎn)到交點(diǎn)距離、交點(diǎn)到圓心距離、交點(diǎn)到點(diǎn)距離圓處理：圓心距離、圓心到直線的距離、交點(diǎn)到圓心的距離、直線到切點(diǎn)的距離線處理：直線度、凸度、LG凸度、對(duì)數(shù)曲線

產(chǎn)能 : 45s/點(diǎn) （移動(dòng) + 聚焦 + 測(cè)量）（掃描范圍 50um）。干涉測(cè)量輪廓儀學(xué)校會(huì)用嗎

輪廓儀、粗糙度儀、三坐標(biāo)的區(qū)別

關(guān)于輪廓儀和粗糙度儀

  輪廓儀與粗糙度儀不是同一種產(chǎn)品，輪廓儀主要功能是測(cè)量零件表面的輪廓形狀，比如：汽車(chē)零件中的溝槽的槽深、槽寬、倒角（包括倒角位置、倒角尺寸、角度等），圓柱表面素線的直線度等參數(shù)?？傊?，輪廓儀反映的是零件的宏觀輪廓。粗糙度儀的功能是測(cè)量零件表面的磨加工/精車(chē)加工工序的表面加工質(zhì)量，通俗地講，就是零件表面加工得光不光（粗糙度老國(guó)標(biāo)叫光潔度），即粗糙度反映的是零件加工表面的微觀情況。

關(guān)于三坐標(biāo)測(cè)量輪廓度及粗糙度

  三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)是不能測(cè)量粗糙度的，至于測(cè)量零件的表面輪廓 ，要視三坐標(biāo)的測(cè)量精度及零件表面輪廓度的要求了，如果你的三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)精度比較高，但零件輪廓度要求不可，是可以用三坐標(biāo)來(lái)代替的。一般三坐標(biāo)精度都在2-3um左右，而輪廓儀都在2um以?xún)?nèi)，還有就是三坐標(biāo)可以測(cè)量大尺寸零件的輪廓，因?yàn)樗旋堥T(mén)式三坐標(biāo)和關(guān)節(jié)臂三坐標(biāo)，而輪廓儀主要是用來(lái)測(cè)量一些小的精密零件輪廓尺寸的，加上粗糙度模塊也可以測(cè)量粗糙度。 二維輪廓儀有哪些品牌輪廓儀可用于：散熱材料表面粗糙度分析（粗糙度控制），生物、醫(yī)藥新技術(shù)，微流控器件。

輪廓儀白光干涉的創(chuàng)始人：

邁爾爾遜

1852-1931

美國(guó)物理學(xué)家

曾從事光速的精密測(cè)量工作  

邁克爾遜首倡用光波波長(zhǎng)作為長(zhǎng)度基準(zhǔn)。

1881年，他發(fā)明了一種用以測(cè)量微小長(zhǎng)度，折射率和光波波長(zhǎng)的干涉儀，邁克爾遜干涉儀。

他和美國(guó)物理學(xué)家莫雷合作，進(jìn)行了***的邁克爾遜-莫雷實(shí)驗(yàn)，否定了以太de 存在，為愛(ài)因斯坦建立狹義相對(duì)論奠定了基礎(chǔ)。

由于創(chuàng)制了精密的光學(xué)儀器和利用這些儀器所完成光譜學(xué)和基本度量學(xué)研究，邁克爾遜于1907年獲得諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)。

表面三維微觀形貌測(cè)量的意義

 在生產(chǎn)中，表面三維微觀形貌對(duì)工程零件的許多技術(shù)性能的評(píng)家具有**直接的影響，而且表面三維評(píng)定參數(shù)由于能更***，更真實(shí)的反應(yīng)零件表面的特征及衡量表面的質(zhì)量而越來(lái)越受到重視，因此表面三維微觀形貌的測(cè)量就越顯重要。通過(guò)兌三維形貌的測(cè)量可以比較***的評(píng)定表面質(zhì)量的優(yōu)劣，進(jìn)而確認(rèn)加工方法的好壞以及設(shè)計(jì)要求的合理性，這樣就可以反過(guò)來(lái)通過(guò)知道加工，優(yōu)化加工工藝以及加工出高質(zhì)量的表面，確保零件使用功能的實(shí)現(xiàn)。

 表面三位微觀形貌的此類(lèi)昂方法非常豐富，通?？煞譃榻佑|時(shí)和非接觸時(shí)兩種，其中以非接觸式測(cè)量方法為主。

輪廓儀可用于藍(lán)寶石拋光工藝表面粗糙度分析（粗拋與精拋比較）。

    比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導(dǎo)體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測(cè)量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測(cè)量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本，復(fù)雜度，和測(cè)量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個(gè)角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和強(qiáng)度，使得橢偏儀對(duì)超薄和復(fù)雜的薄膜堆有較強(qiáng)的測(cè)量能力。然而，偏振分析意味著需要昂貴的精密移動(dòng)光學(xué)儀器。光譜反射儀測(cè)量的是垂直光，它忽略偏振效應(yīng)（絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)）。因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備，光譜反射儀成為簡(jiǎn)單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過(guò)10um的優(yōu)先，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術(shù)都可用。而且具有快速，簡(jiǎn)便，成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測(cè)量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測(cè)量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小，任何微小的黏附異物和下次均會(huì)導(dǎo)致制造的晶圓IC表面存在缺 陷。VSI輪廓儀美元價(jià)格

白光干涉系統(tǒng)基于無(wú)限遠(yuǎn)顯微鏡系統(tǒng)，通過(guò)干涉物鏡產(chǎn)生干涉條紋，使基本的光學(xué)顯微鏡系統(tǒng)變?yōu)榘坠飧缮鎯x.干涉測(cè)量輪廓儀學(xué)校會(huì)用嗎

NanoX-2000/3000

系列 3D 光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測(cè)量（PSI）、白光垂直掃描干涉測(cè)量（VSI）和單色光

垂直掃描干涉測(cè)量（CSI）等技術(shù)的基礎(chǔ)上，以其納米級(jí)測(cè)量準(zhǔn)確度和重復(fù)性（穩(wěn)定性）定量地反映出被測(cè)件的表面粗

糙度、表面輪廓、臺(tái)階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加

工、表面工程技術(shù)、材料、太陽(yáng)能電池技術(shù)等領(lǐng)域。

使用范圍廣: 兼容多種測(cè)量和觀察需求  

保護(hù)性: 非接觸式光學(xué)輪廓儀

耐用性更強(qiáng)， 使用無(wú)損 

可操作性:一鍵式操作，操作更簡(jiǎn)單，更方便