北京輪廓儀技術(shù)原理

NanoX-80003D輪廓測(cè)量主要技術(shù)參數(shù)3D測(cè)量主要技術(shù)指標(biāo)（1）：測(cè)量模式：PSI+VSI+CSIZ軸測(cè)量范圍：大行程PZT掃描（300um標(biāo)配/500um選配）10mm精密電機(jī)拓展掃描CCD相機(jī)：1920x1200高速相機(jī)（標(biāo)配）干涉物鏡：2.5X,5X,10X（標(biāo)配）,20X,50X,100X(NIKON)物鏡切換：5孔電動(dòng)鼻切換FOV：1100x700um(10X物鏡),220x140um(50X物鏡)Z軸聚焦：高精密直線平臺(tái)自動(dòng)聚焦照明系統(tǒng)：高效長(zhǎng)壽白光LED+濾色鏡片電動(dòng)切換（綠色/藍(lán)色）傾斜調(diào)節(jié)：±5°電動(dòng)調(diào)節(jié)橫向分辨率：≥0.35μm（與所配物鏡有關(guān)）3D測(cè)量主要技術(shù)指標(biāo)（2）：垂直掃描速度：PSI:<10s，VSI/CSI：<38um/s高度測(cè)量范圍：0.1nm–10mm表面反射率：>0.5%測(cè)量精度:PSI:垂直分辨率<0.1nm準(zhǔn)確度<1nmRMS重復(fù)性<0.01nm(1σ)臺(tái)階高重復(fù)性：0.15nm(1σ)VSI/CSI：垂直分辨率<0.5nm準(zhǔn)確度<1%重復(fù)性<0.1%(1σ，10um臺(tái)階高)具備異常報(bào)警，急停等功能，報(bào)警信息可儲(chǔ)存。北京輪廓儀技術(shù)原理

   比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導(dǎo)體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測(cè)量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測(cè)量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本，復(fù)雜度，和測(cè)量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個(gè)角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和強(qiáng)度，使得橢偏儀對(duì)超薄和復(fù)雜的薄膜堆有較強(qiáng)的測(cè)量能力。然而，偏振分析意味著需要昂貴的精密移動(dòng)光學(xué)儀器。光譜反射儀測(cè)量的是垂直光，它忽略偏振效應(yīng)（絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對(duì)稱）。因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備，光譜反射儀成為簡(jiǎn)單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過(guò)10um的手選，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術(shù)都可用。而且具有快速，簡(jiǎn)便，成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測(cè)量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測(cè)量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。晶圓片輪廓儀可以免稅嗎擯棄傳統(tǒng)檢測(cè)方法耗時(shí)耗力，精確度低的缺點(diǎn)，大達(dá)提高加工效率。

NanoX-2000/3000系列3D光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測(cè)量（PSI）、白光垂直掃描干涉測(cè)量（VSI）和單色光垂直掃描干涉測(cè)量（CSI）等技術(shù)的基礎(chǔ)上，以其納米級(jí)測(cè)量準(zhǔn)確度和重復(fù)性（穩(wěn)定性）定量地反映出被測(cè)件的表面粗糙度、表面輪廓、臺(tái)階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術(shù)、材料、太陽(yáng)能電池技術(shù)等領(lǐng)域。使用范圍廣:兼容多種測(cè)量和觀察需求保護(hù)性:非接觸式光學(xué)輪廓儀耐用性更強(qiáng)，使用無(wú)損可操作性:一鍵式操作，操作更簡(jiǎn)單，更方便

輪廓儀的自動(dòng)拼接功能：條件：被測(cè)區(qū)域明顯大于視場(chǎng)的區(qū)域，使用自動(dòng)圖片拼接。需要點(diǎn)擊自動(dòng)拼接，輪廓儀會(huì)把移動(dòng)路徑上的拍圖自動(dòng)拼接起來(lái)。軟件會(huì)自適應(yīng)計(jì)算路徑上移動(dòng)的偏差，自動(dòng)消除移動(dòng)中偏差，減小誤差。但是誤差是一定存在的。白光輪廓儀的典型應(yīng)用：對(duì)各種產(chǎn)品，不見和材料表面的平面度，粗糙度，波溫度，面型輪廓，表面缺陷，磨損情況，腐蝕情況，孔隙間隙，臺(tái)階高度，完全變形情況，加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析。儀器運(yùn)用高性能內(nèi)部抗震設(shè)計(jì)，不受外部環(huán)境影響測(cè)量的準(zhǔn)確性。

   蕞大視場(chǎng)Thefilm3D以10倍物鏡優(yōu)異地提供更寛廣的2毫米視野，其數(shù)位變焦功能有助于緩解不同應(yīng)用時(shí)切換多個(gè)物鏡的需要，更進(jìn)一步減少總體成本。手動(dòng)式物鏡轉(zhuǎn)盤能一次搭載四組物鏡，能滿足需要多種倍率物鏡交替使用的測(cè)量應(yīng)用。索取技術(shù)資料索取報(bào)價(jià)性能規(guī)格厚度范圍,WSI50nm-10mm厚度范圍,PSI0-3μm樣品反射率範(fàn)圍-100 %電腦要求機(jī)械規(guī)格Z范圍100mmPiezo(壓電)范圍500μmXY平臺(tái)類型手動(dòng)或自動(dòng)XY平臺(tái)范圍100mmx100mm相機(jī)2592x1944(5百萬(wàn)像素)系統(tǒng)尺寸，寬x深x高300mmx300mmx550mm系統(tǒng)重量15kg物鏡1(NikonCFICEpiPlan)放大倍率5X10X20X50X100X視場(chǎng)xmmxmmxmmxmmxmm采樣空間2μmμmμmμmμm1分別出售2樣本上之像素大小常見的選購(gòu)配件：urionNano30主動(dòng)式防震臺(tái)4微米，2微米，和100納米多臺(tái)階高度標(biāo)準(zhǔn)。輪廓儀可用于藍(lán)寶石拋光工藝表面粗糙度分析（粗拋與精拋比較）。安徽中科院輪廓儀

晶圓的IC制造過(guò)程可簡(jiǎn)單看作是將光罩上的電路圖通過(guò)UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過(guò)程。北京輪廓儀技術(shù)原理

NanoX-8000系統(tǒng)主要性能?菜單式系統(tǒng)設(shè)置，一鍵式操作，自動(dòng)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)?一鍵式系統(tǒng)校準(zhǔn)?支持連接MES系統(tǒng)，數(shù)據(jù)可導(dǎo)入SPC?具備異常報(bào)警，急停等功能，報(bào)警信息可儲(chǔ)存?MTBF≥1500hrs?產(chǎn)能:45s/點(diǎn)（移動(dòng)+聚焦+測(cè)量）（掃描范圍50um）?具備Globalalignment&Unitalignment?自動(dòng)聚焦范圍：±0.3mm?XY運(yùn)動(dòng)速度蕞快表面三維微觀形貌測(cè)量的意義在生產(chǎn)中，表面三維微觀形貌對(duì)工程零件的許多技術(shù)性能的評(píng)家具有蕞直接的影響，而且表面三維評(píng)定參數(shù)由于能更權(quán)面，更真實(shí)的反應(yīng)零件表面的特征及衡量表面的質(zhì)量而越來(lái)越受到重視，因此表面三維微觀形貌的測(cè)量就越顯重要。通過(guò)兌三維形貌的測(cè)量可以比較權(quán)面的評(píng)定表面質(zhì)量的優(yōu)劣，進(jìn)而確認(rèn)加工方法的好壞以及設(shè)計(jì)要求的合理性，這樣就可以反過(guò)來(lái)通過(guò)知道加工，優(yōu)化加工工藝以及加工出高質(zhì)量的表面，確保零件使用功能的實(shí)現(xiàn)。表面三位微觀形貌的此類昂方法非常豐富，通?？煞譃榻佑|時(shí)和非接觸時(shí)兩種，其中以非接觸式測(cè)量方法為主。北京輪廓儀技術(shù)原理

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